一种消影且增透的导电镀膜层制造技术

本实用新型专利技术公开了一种消影且增透的导电镀膜层，包括普通玻璃或透明塑料构成的基片层和ITO或ZAO层构成的电极层，其特征在于，在基片层和电极层之间复合增加若干个SiO2层和TiO2或Nb2O5层。本实用新型专利技术具有如下功能：在保证导电层良好导电性能的同时，消除导电电极影子，使得透过普通玻璃或透明塑料看不见电极；还具有增加可见光透过率，将可见光通过导电层的透过率提升20-50%。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种玻璃或透明塑料表面上的镀膜层，尤其是一种消影且增透的导电镀膜层。
技术介绍
是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标电阻率和透光率。在氧化物导电膜中，以掺Sn的In203 (ITO)膜的透过率最高和导电性能最好，而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形，其中透光率达90%以上。ITO中其透光率和阻值分别由 In203与Sn02之比例来控制，通常Sn02: In203=l: 9。在ZnO体系中掺杂Al得到ZnO A1透明导电薄膜，即AZO薄膜，惨杂后薄膜导电性能大幅度提高，电阻率可降低到10-4 ohm 而且透明导电薄膜AZO薄膜在氢等离子体中稳定性要优于ΙΤ0，同时具有可同ITO相比拟的光电特性，而且AZO薄膜的制备方便，元素资源比In元素丰富，且无毒，逐渐成为ITO薄膜最佳替代者，AZO薄膜目前已经在平板显示器和薄膜太阳能电池中得到了部分应用。电容式触摸屏要用到透明导电膜电极(如ITO或ΑΖ0)，该电极应用于显示区域，由于导电膜的折射率和基板(玻璃或透明塑料)的折射率的差别，(如ITO和AZO的折射率约为2.0，玻璃约I. 5，塑料如PET约I. 5)，使得显示区内的电极和电极缝隙之间反射和透过率有较大的差别，如附图图3为常规做法的透明导电膜电极(ΙΤ0或ΑΖ0)，图4为常规做法制成的电极示意图(ITO厚度为40匪)，电极对可见光的反射率为电极镀层(ITO或ΑΖ0)的反射率，而电极缝隙的反射率为玻璃或透明塑料的反射率，电极镀层(ITO或ΑΖ0)的平均反射率为16. 5%，玻璃或透明塑料的平均反射率为4. 2%，反射率的巨大差异会使电极和缝隙清晰可见，影响显示的效果和外观，特别是在手机、平板电脑、笔记本及普通电脑上，电极和缝隙可见会严重影响视觉效果。目前在小屏幕触摸屏上采用减小缝隙的方法来降低电极和缝隙的可见度，但受光刻设备等的限制，如果在20英寸以上大屏幕触摸屏采用微小缝隙的方法，设备投资及制造成本会非常高，产品不良率也会升高。如方块电阻为60欧的ITO或AZO导电镀膜层的平均反射率约16. 5%，严重降低了可见光的通过率，这样在光线比较明亮的环境中特别是背后有窗户、灯光的环境中，屏幕会应反射光太强而无法看清。
技术实现思路
本技术目的是提供一种玻璃或透明塑料表面的消影增透导电镀膜层，使从玻璃或透明塑料表面看不见导电层电极和缝隙，并能将导电层对可见光的平均反射率从16. 5%降低至10%，而缝隙即基材加底层膜的平均反射率为10%，(电极的刻蚀只是导电层，刻蚀掉的导电层部分的底层膜保留)能使可见光通过导电层的量增加39%，提高显示屏的清晰对比度，在保证导电层功能的同时，达到消影和增透的功能。本技术的技术方案是一种消影且增透的导电镀膜层，包括普通玻璃或透明塑料构成的基片层和ITO或ZAO层构成的电极层，其特征在于，在基片层和电极层之间复合增加若干个Si02层和Ti02或Nb205层。优选的，所述消影增透导电镀膜层从基片层表面依次往上为第一 Si02层；第一Ti02或Nb205层；第二 Si02层；第二 Ti02或Nb205层；第三Si02层；电极层。 优选的，所述第一 Si02层的厚度不限；第一 Ti02或Nb205层的厚度为2-50nm;第二 Si02层的厚度为10-80nm ;第二 Ti02或Nb205层的厚度为2_50nm ;第三Si02层的厚度为20-80nm ;电极层的厚度为10_150nm。所述消影增透导电镀膜层利用真空溅射的方法镀于玻璃或透明塑料表面，每层镀层使用不同材料且厚度不同，使可见光经过不同镀层的反射光产生光干涉，针对导电镀膜层起到降低可见光反射率、提高其透过率的效果。在可见光的范围内(40(T700nm)，使导电镀膜层的反射率降低，提高了触摸屏的整体透过率。进一步的，设定并精确控制各膜层的厚度，在导电镀膜层前面的膜层(图I之2、3、4、5、6膜层)的作用下，使得其与有导电镀膜层的反射率一致，起到消除电极及电极缝隙影子的功能。本技术的一些用途I、触摸屏电脑、笔记本电脑。、平板电脑。、触摸屏手机。、触摸屏车载导航仪。本技术的优点是I.本技术具有消除触摸屏电极及电极缝隙影子的功能。.本技术有增加触摸屏对可见光透过率的作用，能提升可见光通过触摸屏的量，使得触摸屏显示设备(如电脑、平板电脑、手机等)更加清晰。以下结合附图及实施例对本技术作进一步描述图I为本技术消影增透导电镀膜层的结构示意图；图2为本技术消影增透导电镀膜层在导电层制成电极后的结构示意图。图3为常规方法做成的ITO或AZO镀层示意图。图4为常规做法制成的电极示意图。图5为本技术制成的触摸屏的反射率测试数据图。图6为常规方法制成的触摸屏的反射率测试数据图。其中1、普通玻璃或透明塑料，2、第一 Si02层，3、第一 Ti02或Nb205层；4、第二Si02 层；5、第二 Ti02 或 Nb205 层；6、第三 Si02 层；7、ITO 或 AZO 层。具体实施方式实施例如图I所示，一种消影增透导电镀膜层，可在普通玻璃或透明塑料I上涂镀的六层复合的消影增透导电镀膜层，所述消影增透导电镀膜层从普通玻璃或透明塑料表面依次往上为第一Si02 层 2 ;第一 Ti02 或 Nb205 层 3 ;第二 Si02 层 4 ;第二 Ti02 或 Nb205 层 5 ;第三 Si02 层6 ;ΙΤ0 或 AZO 层 7.所述第一 Si02层2的厚度不限；第一 Ti02或Nb205层3的厚度为2_50nm ;第二Si02层4的厚度为10-80nm ;第二 Ti02或Nb205层5的厚度为2_50nm ;第三Si02层6的厚度为20-80nm;IT0或AZO层7的厚度为10_150nm。制作过程各镀层均在真空室中用溅射镀法完成。普通玻璃或透明塑料一清洗一真空镀膜第一层(二氧化硅Si02镀层)一真空镀膜第二层(氧化钛Ti02或氧化铌Nb205镀层)一真空镀膜第三层(二氧化硅Si02镀层)—真空镀膜第四层(氧化钛Ti02或氧化铌Nb205镀层)一真空镀膜第五层(二氧化硅Si02镀层)一真空镀膜第六层(ΙΤ0或AZO镀层)一贴保护膜一包装入库。·图5为本技术制成的触摸屏的反射率测试数据，由数据图可见电极镀层与缝隙对可见光的反射率基本一样，这样能有效消除电极缝隙阴影。图6为常规方法制成的触摸屏的反射率测试数据，由数据可见电极与缝隙对可见光的反射率相差很大，这会造成从屏幕能可见电极缝隙的阴影。以上仅是本技术的具体应用范例，对本技术的保护范围不构成任何限制。除上述实施例外，本技术还可以有其它实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本技术所要求保护的范围之内。权利要求1.一种消影且增透的导电镀膜层，包括普通玻璃或透明塑料构成的基片层和ITO或ZAO层构成的电极层，其特征在于，在基片层和电极层之间复合增加若干个Si02层和Ti02或Nb205层。2.根据权利要求I所述的消影且增透的导电镀膜层，其特征在于，所述消影增透导电镀膜层从基片层表面依次往上为第一 Si02层；第一 Ti02或Nb205层；第二 Si02层；第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种消影且增透的导电镀膜层，包括普通玻璃或透明塑料构成的基片层和ITO或ZAO层构成的电极层，其特征在于，在基片层和电极层之间复合增加若干个SiO2层和TiO2或Nb2O5层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王立新，
申请(专利权)人：普发玻璃深圳有限公司，
类型：实用新型
国别省市：