接近式曝光装置及接近式曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种接近式曝光装置及曝光方法，其能以简单结构对掩模挠曲进行修正并保持掩模，以高精度进行曝光复制。该掩模载置台（1）具有：将掩模（M）真空吸附并保持于其下表面的掩模保持架（26）；保持于掩模保持架（26）上表面侧的玻璃盖片（32）；对由掩模保持架（26）、掩模（M）及玻璃盖片（32）界定的空间（33）内的空气进行抽吸，使空间（33）内部减压的抽吸机构（40）；和从外部向减压空间（33）内供给空气的至少一条空气导入槽（35）。在将掩模（M）真空吸附并保持于掩模保持架（26）的下表面，并由抽吸机构（40）抽吸空间（33）内压力的状态下，经空气导入槽（35）向空间（33）供给外部空气，将空间（33）内压力调节为规定压力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，更详细而言，涉及适于在将掩模的图案曝光复制在例如液晶显示器和等离子显示器等大型平板显示器等的基板上时所使用的。
技术介绍
接近式曝光是将表面上涂布有感光剂的透光性基板(被曝光件)保持在曝光装置的工作台上，并且使该基板接近于保持在掩模载置台的掩模保持架上的掩模，使两者的间隔为例如数十ym 数百μ m，通过照射装置，从掩模的与基板相反的一侧向掩模照射曝光用光，由此将绘制在掩模上的图案曝光复制在基板上。另外，尽管接近式曝光中存在将掩模做成与基板相同的大小而一次性曝光的方式，但在该方式下，在将掩模的图案曝光复制在大型基板上时，掩模趋于大型化，将在掩模的挠曲导致对图案的精度的影响和成本等方面出现问题。由于这样的原因，迄今为止，在将掩模的图案曝光复制在大型基板上的情况下，有时会采用所谓步进式的接近式曝光方式，即，使用比基板小的掩模，使工作台相对于掩模步进移动，在每一步中，在将掩模配置在接近基板的状态下，照射图案曝光用光，由此，将绘制在掩模上的多个图案曝光复制在基板上。掩模的挠曲对曝光精度有着很大的影响，特别是在大型掩模方面，掩模的挠曲有增大的趋势，因此优选极力减小挠曲。迄今为止，作为修正掩模挠曲的掩模保持装置，已知有，通过掩模保持架上形成的掩模吸附路将掩模吸附保持，并且，将掩模、掩模保持架和上盖所构成的空间与空气抽吸通路及空气导入通路相连接，调节该空间内部的压力到与掩模的自重相平衡的压力，从而使掩模向与重力方向相反的方向挠曲，抵消掩模的自重挠曲的装置(例如，参照专利文献I)。另外，还公开了如下曝光装置将掩模、透明板和框架体所围成的空间与连接于排气装置的排气管及连接于空气导入装置的导入管相连接，将该空间内部的空气排出或将空气导入，从而修正掩模的挠曲(例如，参考专利文献2)。另外，还有将透明玻璃板固定配置在真空吸附掩模的真空吸附框架的框架内，通过真空抽吸透明玻璃板和掩模之间的空气，由真空吸附框架及透明玻璃板将掩模真空吸附，提高掩模的保持力，从而防止掩模的错动的装置(例如，参照专利文献3)。 专利文献I :日本特开2009-277900号公报专利文献2 :日本特开平8-82919号公报专利文献3 日本特开2006-93604号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，根据专利文献1，因为从空气导入通路供给的空气经由掩模保持架与掩模的接合面供给到空气抽吸通路及掩模吸附通路，所以从接合面上只能供给极少的空气。因此，上盖和掩模很快向掩模保持架内部ー侧挠曲，掩模和上盖有折损的可能。另外，专利文献2中，因为将连接于排气装置的排气管及连接于空气导入装置的导入管与空间相连接，通过将空气排出或导入来控制空间内部的压カ，所以，真空发生装置周边需要很多的控制装置。另外，由于使用橡胶垫将掩模安装在框架体上，成本有可能会变高。而依照专利文献3，由于没有从外部导入空气的机构，空间内部变得负压过剩，有可能损伤掩模及透明玻璃板。本专利技术是鉴于上述课题而提出，其目的在于，提供ー种，其能够以比较简单的结构对掩模的挠曲进行修正并将掩模保持，从而能够以高精度进行曝光复制。解决课题的手段通过下述结构来达到本专利技术的上述目的。·(I) ー种接近式曝光装置，其具有基板载置台，其保持作为被曝光件的基板；掩模载置台，其保持具有应曝光图案的掩模；以及照射単元，其借助上述掩模对上述基板照射图案曝光用光，该接近式曝光装置在上述掩模与上述基板接近并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将上述掩模的图案曝光复制在上述基板上，其特征在于，上述掩模载置台具有掩模保持架，其将上述掩模真空吸附在下表面并保持；玻璃盖片，其被保持在上述掩模保持架的上表面ー侧；抽吸机构，其抽吸至少由上述掩模保持架、上述掩模及上述玻璃盖片界定的空间内部的空气，使该空间内部减压；以及空气导入通路，其从外部向被减压的上述空间内部供给空气，且至少有一条。(2)根据上述(I)所述的接近式曝光装置，其特征在干，上述的空气导入通路是配置于上述玻璃盖片与上述掩模保持架的接合部的空气导入槽。(3)根据上述(I)或(2)所述的接近式曝光装置，其特征在于，上述掩模载置台还具有掩模框架，其将上述掩模保持架真空吸附并保持在下表面，且由掩模驱动部来驱动。(4)根据上述(3)所述的接近式曝光装置，其特征在干，上述掩模保持架的上表面具有突起部或凹部，上述掩模框架的下表面具有凹部或突起部，上述掩模保持架的上述突起部或凹部与上述掩模框架的上述凹部或突起部卡合，将上述掩模保持架保持在上述掩模框架的下表面。(5)根据上述(3)或(4)所述的接近式曝光装置，其特征在于，上述掩模框架还具有掩模保持架支承机构，其支承上述掩模保持架，防止上述掩模保持架从上述掩模框架脱落。(6)根据上述(I) (3)中任意一项所述的接近式曝光装置，其特征在干，上述掩模保持架具有保持机构，其将上述玻璃盖片保持在上述掩模保持架的规定的位置。( 7)根据(6)所述的接近式曝光装置，其特征在干，上述掩模保持架选择其表面密度高于掩模M的表面密度的构件。(8)根据上述(I)所述的接近式曝光装置，其特征在干，上述掩模载置台具有掩模框架，其下表面安装有上述掩模保持架，并且将上述玻璃盖片真空吸附并保持在下表面，上述空间由上述掩模框架、上述掩模保持架、上述掩模及上述玻璃盖片所界定，上述空气导入通路是配置在上述掩模框架与掩模保持架的接合部的空气导入槽。(9)根据上述(8)所述的接近式曝光装置，其特征在干，上述空气导入通路设置在掩模保持架的中央部。 (10)—种接近式曝光方法，其利用上述(I) (9)中任意一项所述的接近式曝光装置，在上述掩模与上述基板接近并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将上述掩模的图案曝光复制在上述基板上，其特征在于，其具有将上述掩模真空吸附在上述掩模保持架的下表面，并将掩模保持的エ序；及在由上述抽吸机构抽吸上述空间内部的压カ的同时，经由上述空气导入通路向上述空间供给上述外部的空气，从而将上述空间内部的压カ调节为规定的压カ的エ序。专利技术效果根据本专利技术的接近式曝光装置以及接近式曝光方法，掩模载置台具有掩模保持架，其将掩模真空吸附在下表面并保持；玻璃盖片，其被保持在掩模保持架的上表面ー侧；抽吸机构，其抽吸至少由掩模保持架、掩模及玻璃盖片所界定的空间内部的空气，使该空间内部减压；以及空气导入通路，其从外部向被减压的空间内部供给空气，且至少有ー个。而且，将掩模真空吸附在掩模保持架的下表面，并将掩模保持，另外，在由抽吸机构抽吸空间内部的压カ的同时，经由空气导入通路向空间供给外部的空气，从而将空间内部的压カ调节为规定的压力。因此，掩模载置台能够以比较简单的结构对掩模的挠曲进行修正并将掩模保持，因而能够以高精度将掩模的图案曝光复制在基板上。附图说明图I为用于说明本专利技术第一实施方式的接近式曝光装置的局部剖视主视图。图2为图I所示的掩模载置台的简要结构的剖视示意图。图3为掩模框架以短跨度将掩模保持架保持的掩模载置台的剖视图。图4为图2所示的掩模载置台的分解剖视示意图。图5为第I实施方式的接近式曝光装置的第I变形例，为掩模框架的凹部与掩模保持部的突起部卡合状态的掩模载置台的主要部分的剖视示意图。图6为第I实施方式的接近式曝光装置的第2变形例，为掩模保持架支承机构的机理说明示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种接近式曝光装置，其特征在于，具有：基板载置台，其保持作为被曝光件的基板；掩模载置台，其保持具有需曝光图案的掩模；以及照射单元，其借助所述掩模对所述基板照射图案曝光用光，所述接近式曝光装置在所述掩模与所述基板接近，并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将所述掩模的图案曝光复制在所述基板上，所述掩模载置台具有：掩模保持架，其将所述掩模真空吸附保持于其下表面；玻璃盖片，其被保持在所述掩模保持架的上表面侧；抽吸机构，其抽吸至少由所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃盖片所界定的空间内部的空气，使所述空间内部减压；以及空气导入通路，其从外部向被减压的空间内部供给空气，且所述空气导入通路至少有一条。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：汤口悟，佐藤雅之，
申请(专利权)人：恩斯克科技有限公司，
类型：发明
国别省市：