轮廓投影仪之投影屏刻画线的制作方法技术

本发明专利技术公开一种轮廓投影仪之投影屏刻画线的制作方法，包括的步骤有：首先，于投影屏之毛玻璃面上镀上不透光膜；接着，于不透光膜上涂覆显影胶，并烘干；然后，盖上坐标线模板，用紫外线对露出坐标线模板的显影胶进行曝光处理；接着，取下坐标线模板，并对位于曝光区或非曝光区中的显影胶进行清洗蚀刻，形成显影胶刻画层；然后，对不透光膜进行清洗蚀刻而形成有膜刻画层；最后，将显影胶刻画层清洗掉；藉此，不会对投影屏玻璃造成损坏，配合利用坐标线模板和紫外线对显影胶进行曝光处理，然后进行蚀刻，使得每个刻画线的宽窄更加容易得到控制，利于保证刻画线的一致性，提升对产品测量的精准度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学测量设备领域技术，尤其是指一种。
技术介绍
随着科学技术的不断进步以及工业化生产的飞速发展，人们能制造出更精密、更细小了产品，对这些精密细小的物品进行检测，要求也越来越高，一般采用专业的轮廓投影仪进行测量。现有之轮廓投影仪为坐标投影仪，其通常系于测量仪的投影屏上设置有坐标线，利用坐标线作为参照对产品进行测量。测量仪之投影屏上的坐标线由多个刻画线组成，这些刻画线通常系直接于投影屏上雕刻，然后描黑形成。上述现有之投影屏刻画线的制作方法虽然可提供使用者将刻画线牢固设置于投影屏上的功效，并为人们测量产品提供了参照，具有进步性，然而，上述刻画线的制作方法存在着以下缺陷由于上述刻画线直接于投影屏上雕刻而成，一方面，使得投影屏玻璃容易损坏，另一方面，由于刻画线较细，使用直接雕刻玻璃的方法会使得刻画线的宽窄不容易控制，影响产品测量的精准度。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术针对现有技术存在之缺失，其主要目的是提供一种，其能有效解决在制作现有轮廓投影仪之投影屏刻画线时容易损坏玻璃且刻画线宽窄不容易控制的问题。为实现上述目的，本专利技术采用如下之技术方案 一种，包括的步骤有 (O于投影屏之毛玻璃面上镀上一层不透光膜； (2)于该不透光膜上涂覆一层显影胶，并对显影胶进行烘干处理； (3)于显影胶上盖上坐标线模板，并使用紫外线对露出坐标线模板的显影胶进行曝光处理，曝光处理后，在显影胶上形成有曝光区和非曝光区； (4)取下坐标线模板，并对位于曝光区或非曝光区中的显影胶进行清洗蚀刻，使得在不透光膜上形成有显影胶刻画层； (5)对位于相邻两显影胶刻画层之间的不透光膜进行清洗蚀刻而形成有膜刻画层，前述显影胶刻画层叠于该膜刻画层的表面上； (6)将显影胶刻画层清洗掉而形成刻画线。作为一种优选方案，所述不透光膜为铬膜。作为一种优选方案，所述坐标线模板上设置有透光区，该透光区的大小与刻画线的大小相当，在步骤(4)中，对位于非曝光区域的显影胶进行清洗蚀刻。作为一种优选方案，所述坐标线模板上设置有透光区，该透光区的大小与相邻两刻画线之间的区域大小相当，在步骤(4)中对位于曝光区域的显影胶进行清洗蚀刻。本专利技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果，具体而言，由上述技术方案可知 一、通过利用膜刻画层设置于毛玻璃面上形成投影屏刻画线，取代了传统之直接于投影屏上雕刻的方式，不会对投影 屏玻璃造成损坏，并且配合利用坐标线模板和紫外线对显影胶进行曝光处理，然后对曝光区或非曝光区进行蚀刻，使得每个刻画线的宽窄更加容易得到控制，利于保证刻画线的一致性，提升对产品测量的精准度。二、通过配合利用坐标线模板和紫外线对显影胶进行曝光处理，然后对曝光区或非曝光区进行蚀刻，可以使得刻画线更加细微化，从而使得投影屏上之坐标线的描准性能更好。三、通过使用铬膜作为不透光膜，利用铬膜具有较好的耐磨性、抗氧化性和耐腐蚀性，使得刻画线同样具备较好的耐磨性、抗氧化性和耐腐蚀性，利于延长刻画线的使用寿命O为更清楚地阐述本专利技术的结构特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对本专利技术进行详细说明。附图说明图I是本专利技术之较佳实施例的正面示意 图2是本专利技术之较佳实施例制作过程中的第一状态示意 图3是本专利技术之较佳实施例制作过程中的第二状态示意 图4是本专利技术之较佳实施例制作过程中的第三状态示意 图5是本专利技术之较佳实施例制作过程中的第四状态示意 图6是本专利技术之较佳实施例制作过程中的第五状态示意 图7是本专利技术之较佳实施例制作过程中的第六状态示意图。附图标识说明 10、投影屏20、刻画线 30、不透光膜31、膜刻画层 40、显影胶41、显影胶刻画层 50、坐标线模板51、透光区。具体实施例方式请参照图I至图7所示，其显示出了本专利技术之较佳实施例的具体结构，包括有投影屏10，该投影屏10之毛玻璃面上的纵向和横向方向上均设置有多个刻画线20，该多个刻画线20单独由一膜刻画层31组成，该膜刻画层21用于起到遮光的作用。详述本专利技术的制作方法如下，包括的步骤有 (I)如图2所示，于投影屏10的的毛玻璃面上镀上一层不透光膜30，该不透光膜30为铬膜，当然亦可为其他不透光膜，使用铬膜作为不透光膜系因为铬膜具有较好的耐磨性、抗氧化性和耐腐蚀性。(2)如图3所示，在该不透光膜上涂覆一层显影胶40，并对显影胶40进行烘干处理。(3)如图4所示，在显影胶40上盖上坐标线模板50，该坐标线模板50上设置有透光区51，该透光区51的大小与相邻两刻画线20之间的区域大小相当，接着，使用紫外线对露出透光区51的显影胶40进行曝光处理，曝光处理后，在显影胶40上形成有曝光区和非曝光区，位于曝光区上之显影胶的特性与位于非曝光区上之显影胶的特性不相同，可使用不同的药水对它们进行清洗蚀刻。(4)如图5所示，取下坐标线模板50，并使用药水A对位于曝光区中的显影胶40进行清洗蚀刻，使得在不透光膜30上形成有显影胶刻画层41 ;在本实施例中，该不透光膜30上形成有多个间隔并排设置的显影胶刻画层41。·(5)如图6所示，使用药水B对位于相邻两显影胶刻画层41之间的不透光膜30进行清洗蚀刻而形成有膜刻画层31，前述显影胶刻画层41叠于该膜刻画层31的表面上。(6)使用药水C将显影胶刻画层41清洗掉而形成刻画线20，该刻画线20由膜刻画层31单独组成。使用时，光线透过投影屏10并从相邻两刻画线20之间的区域射出，由于膜刻画层31的遮光作用，使得光线不可从刻画线20覆盖的区域射出，形成坐标刻画效果。需要特别说明的是上述坐标线模板50上的透光区51的大小亦可设置为与刻画线20的大小相当，此时，应当在步骤(4)中，使用药水A对位于非曝光区域的显影胶40进行清洗蚀刻，以便形成显影胶刻画层41。本专利技术的设计重点在于首先，通过利用膜刻画层设置于毛玻璃面上形成投影屏刻画线，取代了传统之直接于投影屏上雕刻的方式，不会对投影屏玻璃造成损坏，并且配合利用坐标线模板和紫外线对显影胶进行曝光处理，然后对曝光区或非曝光区进行蚀刻，使得每个刻画线的宽窄更加容易得到控制，利于保证刻画线的一致性，提升对产品测量的精准度。其次，通过配合利用坐标线模板和紫外线对显影胶进行曝光处理，然后对曝光区或非曝光区进行蚀刻，可以使得刻画线更加细微化，从而使得投影屏上之坐标线的描准性能更好。再者，通过使用铬膜作为不透光膜，利用铬膜具有较好的耐磨性、抗氧化性和耐腐蚀性，使得刻画线同样具备较好的耐磨性、抗氧化性和耐腐蚀性，利于延长刻画线的使用寿命。以上所述，仅是本专利技术的较佳实施例而已，并非对本专利技术的技术范围作任何限制，故凡是依据本专利技术的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰，均仍属于本专利技术技术方案的范围内。权利要求1.一种，其特征在于包括的步骤有 (1)于投影屏之毛玻璃面上镀上一层不透光膜； (2)于该不透光膜上涂覆一层显影胶，并对显影胶进行烘干处理； (3)于显影胶上盖上坐标线模板，并使用紫外线对露出坐标线模板的显影胶进行曝光处理，曝光处理后，在显影胶上形成有曝光区和非曝光区； (4)取下坐标线模板，并对位于曝光区或非曝光区中的显影胶进行清洗蚀刻，使得在不透光膜上形成有显影胶刻画层； (5)对位于相邻两显影胶刻画层之间的不透光膜进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种轮廓投影仪之投影屏刻画线的制作方法，其特征在于：包括的步骤有（1）于投影屏之毛玻璃面上镀上一层不透光膜；（2）于该不透光膜上涂覆一层显影胶，并对显影胶进行烘干处理；（3）于显影胶上盖上坐标线模板，并使用紫外线对露出坐标线模板的显影胶进行曝光处理，曝光处理后，在显影胶上形成有曝光区和非曝光区；（4）取下坐标线模板，并对位于曝光区或非曝光区中的显影胶进行清洗蚀刻，使得在不透光膜上形成有显影胶刻画层；（5）对位于相邻两显影胶刻画层之间的不透光膜进行清洗蚀刻而形成有膜刻画层，前述显影胶刻画层叠于该膜刻画层的表面上；（6）将显影胶刻画层清洗掉而形成刻画线。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：巫孟良，
申请(专利权)人：广东万濠精密仪器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：