一种用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘。采用的技术方案是：包括漏盘主体，漏盘主体为圆形，在漏盘主体上设有一个同轴的喷射孔，喷射孔为圆柱形，漏盘主体的直径为270mm时，喷射孔的直径为27mm。本实用新型专利技术针对SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘进行了改进。改进后的水力喷射真空泵，以一孔代替多孔，具有真空度高（绝压为5mmHg），漏盘不堵塞，制造加工方便，成本低，比原来每台设备成本降低三分之一左右。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘，包括漏盘主体（1），漏盘主体（1）为圆形，其特征在于：在漏盘主体（1）上设有一个同轴的喷射孔（2），喷射孔（2）为圆柱形，漏盘主体（1）的直径为270mm时，喷射孔（2）的直径为27mm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王长龙，姜岩，曹东辉，丛日升，王寅，
申请(专利权)人：王长龙，
类型：实用新型
国别省市：