涡旋盘结构制造技术

本发明专利技术涉及一种涡旋盘结构，包括具有相同螺旋型线的动涡旋盘和静涡旋盘，螺旋型线由若干个上半圆和若干个下半圆组成，若干个上半圆和若干个下半圆的直径各不相同，且上半圆与下半圆在连接处相切。发明专利技术的螺旋型线全部采用圆弧组成，设计简单，制造方便，机械性能大大提高，而且可以保证较高的加工精度，有效降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及涡旋机械
，特别涉及一种涡旋盘结构。
技术介绍
涡旋机械是一种容积式流体机械。主要部件动涡旋盘、静涡旋盘、防自转机构、曲轴、密封机构等。可广泛应用于气体压缩机械、气体膨胀做功机械、抽真空机械、流体输送机械和流体做功机械。1905年由法国人Ieon creux发现其工作原理。由于采用渐开线作为动、静涡旋盘的型线，动涡盘在静涡盘中回转平动，涡旋盘型线相互齿合，因此型线需要很高的加工精度，一般车床难以加工渐开线形状的涡盘。直到70年代数控加工技术的出现，使这种机械得以应用，由于这种机械运动部件少，低噪音，低振动，高效率和高可靠性，使得人们对这种机械进行深入的研究。如今，用这种技术制造的压缩机广泛用于中小型空调和制冷单兀中。涡旋机械的开发过程中，遇到的最大问题是涡旋盘型线的设计。它不但决定了加工的难度同时也决定了机械的性能。在过去的三十多年中，人们进行了大量的研究。已提出了许多类型的型线。如圆的渐开线，正多边形的渐开线，线段渐开线，半圆渐开线，代数螺旋线，变径基圆渐开线，包络型线等。利用上述曲线进行涡旋机械设计，由于参数多，计算繁琐，设计效率低，加工这样的型线必须使用造价昂贵的数控车床，加工成本高，加工效率低。而且这样的曲线质量检验难度大，检验效率低。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种涡旋盘结构，其具有结构简单，制造和检验快速方便等特点。为实现上述专利技术目的，本专利技术采用以下技术方案。本专利技术提供一种涡旋盘结构，包括动涡旋盘和静涡旋盘，所述动涡旋盘和静涡旋盘具有相同的螺旋型线，所述螺旋型线由若干个上半圆和若干个下半圆组成，所述若干个上半圆和若干个下半圆的直径各不相同，所述上半圆与下半圆在连接处相切，上半圆满足以下方程式本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涡旋盘结构，包括动涡旋盘和静涡旋盘，所述动涡旋盘和静涡旋盘具有相同的螺旋型线，其特征在于：所述螺旋型线由若干个上半圆和若干个下半圆组成，所述若干个上半圆和若干个下半圆的直径各不相同，所述上半圆与下半圆在连接处相切，上半圆满足以下方程式：x=L1i+R1i×cosαy=R1i×sinα0°≤α≤180°；L11＝0；L1i＝2(R21+R22+，...，+R2(i？1))？2(R11+R12+，...，+R1i)+R11+R1i，i≠1；下半圆满足以下方程式：x=L2i+R2i×cosαy=R2i×sinα180°≤α≤360°；L2i＝2(R21+R22+，...，+R2i)？2(R11+R12+，...，+R1i)+R11？R2i；其中，R1i为第i个上半圆的半径，R2i为第i个下半圆的半径，L1i为第i个上半圆与最小半圆的圆心距，L2i为第i个下半圆与最小半圆的圆心距，i＝1，2，3，...，n，n为螺旋型线的圈数。

【技术特征摘要】
1.一种涡旋盘结构，包括动涡旋盘和静涡旋盘，所述动涡旋盘和静涡旋盘具有相同的螺旋型线，其特征在于所述螺旋型线由若干个上半圆和若干个下半圆组成，所述若干个上半圆和若干个下半圆的直径各不相同，所述上半圆与下半圆在连接处相切，上半圆满足以下方程式2.如权利要求I所述的涡旋盘结构，其特征在于所述动涡旋盘和静涡旋盘为等壁厚，且动涡旋盘在静涡旋盘中的回转平动半径满足以下方程式r = R0-b/2 其中，r为回转半径，R0为所述最小半圆的半径，b为壁厚。3.如权利要求I所述的涡旋盘结构，其特征在于所述动涡旋盘和静涡旋盘为变壁厚，且动涡旋盘在静涡旋盘中的回转半径满足以下方程式r = R0-b0/2 其中，r为回转半径，R0为所述最小半圆的半径，b0为最小半圆始端的壁厚。4.如权利要求I所述的涡旋盘结构，其特征在于所述动涡旋盘和静涡旋盘为等壁厚，且动涡旋盘在静涡旋盘中的回转半径满足以下方程式b/2 < r < R0-b/2 其中，r为回转半径，R0为所述最小半圆的半径，b为壁厚。5.如权利要求I所述的涡旋盘结构，其特征在于所述动涡旋盘和静涡旋盘为变壁厚，且动涡旋盘在静涡旋盘中的回转半径满足以下方程式b0/2 < r < R0_b0/2 其中，r为回转半径，R0为所述最小半圆的半径，b0为最小半圆始端的壁厚。6.如权利要求2所述的涡旋盘结构，其特征在于所述螺旋型线包括内壁和外壁，所述内壁满足以下方程式Rli = (2i-l)R0+(i-l)b ；R2i = 2iR0+(i_0. 5)b ； 所述外壁满足以下方程式R3i = (2i-l)R0+ib ；R4i = 2iR0+(i+0. 5)b ； 其中，Rli为组成内壁的上半圆的半径，R2i为组成内壁的下半圆的半径，R3i为组成外壁的上半圆的半径，R4i为组成外壁的下半圆的半径。7.如权利要求3所述的涡旋盘结构，其特征在于所述螺旋型线包括内壁和外壁，所述内壁满足以下方程式Rii = Ro + 2(i - l)r +γ + bi + b2 ...

【专利技术属性】
技术研发人员：霍勇贤，陈旭，霍蔚辰，
申请(专利权)人：霍勇贤，陈旭，霍蔚辰，
类型：发明
国别省市：