带吸尘装置的抛光机制造方法及图纸

技术编号:8306719 阅读:205 留言:0更新日期:2013-02-07 14:16
本实用新型专利技术公开了一种带吸尘装置的抛光机,包括有机体、吸尘风机、水位沉淀室,所述的机体上装设有抛光机构,所述抛光机构的上方包覆有罩壳,抛光机构的下方设有密闭的集尘容腔,所述的集尘容腔上还连接设有吸尘风机,所述吸尘风机的吸尘进风口与集尘容腔连接,吸尘风机的排尘出风口与水位沉淀室相连。采用上述结构,由于本实用新型专利技术在所述抛光机构的上方设置有罩壳,在抛光机构的下方设置有密闭的集尘容腔,且所述的集尘容腔与吸尘风机、水位沉淀室相连,因此抛光机构在抛磨物料时产生的粉尘可自动落到位于其下方的密闭集尘容腔内,并在吸尘风机的吸收下,产生的粉尘被引至水位沉淀室内沉淀,从而有效地避免粉尘污染。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种抛光机,具体涉及一种带吸尘装置的抛光机
技术介绍
抛光机中的抛光机构在抛磨物料时通常会产生大量的粉尘,这些粉尘如果不及时处理,不仅会对周边的环境造成污染,而且还会影响操作人员的身体健康。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术提供了一种可有效避免粉尘污染的带吸尘装置的抛光机。为实现上述目的,本技术提供了一种带吸尘装置的抛光机,包括有机体,所述·的机体上装设有抛光机构,所述抛光机构的上方包覆有罩壳,抛光机构的下方设有密闭的集尘容腔,所述的集尘容腔上还连接设有吸尘风机。本技术可进一步设置为还包括有水位沉淀室,吸尘风机的吸尘进风口与集尘容腔连接,吸尘风机的排尘出风口与水位沉淀室相连。本技术的有益效果是采用上述结构,由于本技术在所述抛光机构的上方设置有罩壳,在抛光机构的下方设置有密闭的集尘容腔,且所述的集尘容腔与吸尘风机、水位沉淀室相连,因此抛光机构在抛磨物料时产生的粉尘可自动落到位于其下方的密闭集尘容腔内,并在吸尘风机的吸收下,产生的粉尘被引至水位沉淀室内沉淀,从而有效地避免粉尘污染。附图说明图I为本技术的结构示意图;图2为本技术的结构爆炸图。具体实施方式如图1、2所示给出了一种带吸尘装置的抛光机,包括有机体I、吸尘风机2、水位沉淀室3,所述的机体I上装设有抛光机构4,所述抛光机构4的上方包覆有罩壳5,抛光机构4的下方设有密闭的集尘容腔6,所述的集尘容腔6上还连接设有吸尘风机2,所述吸尘风机2的吸尘进风口 21与集尘容腔6连接,吸尘风机2的排尘出风口与水位沉淀室3相连。采用上述结构,由于本技术在所述抛光机构4的上方设置有罩壳5,在抛光机构4的下方设置有密闭的集尘容腔6,且所述的集尘容腔6与吸尘风机2、水位沉淀室3相连,因此抛光机构4在抛磨物料时产生的粉尘可自动落到位于其下方的密闭集尘容腔6内,并在吸尘风机2的吸收下,产生的粉尘被引至水位沉淀室3内沉淀,从而有效地避免粉尘污染。权利要求1.一种带吸尘装置的抛光机,包括有机体,所述的机体上装设有抛光机构,其特征在于所述抛光机构的上方包覆有罩壳,抛光机构的下方设有密闭的集尘容腔,所述的集尘容腔上还连接设有吸尘风机。2.根据权利要求I所述的带吸尘装置的抛光机,其特征在于还包括有水位沉淀室,吸尘风机的吸尘进风口与集尘容腔连接,吸尘风机的排尘出风口与水位沉淀室相连。专利摘要本技术公开了一种带吸尘装置的抛光机,包括有机体、吸尘风机、水位沉淀室,所述的机体上装设有抛光机构,所述抛光机构的上方包覆有罩壳,抛光机构的下方设有密闭的集尘容腔,所述的集尘容腔上还连接设有吸尘风机,所述吸尘风机的吸尘进风口与集尘容腔连接,吸尘风机的排尘出风口与水位沉淀室相连。采用上述结构,由于本技术在所述抛光机构的上方设置有罩壳,在抛光机构的下方设置有密闭的集尘容腔,且所述的集尘容腔与吸尘风机、水位沉淀室相连,因此抛光机构在抛磨物料时产生的粉尘可自动落到位于其下方的密闭集尘容腔内,并在吸尘风机的吸收下,产生的粉尘被引至水位沉淀室内沉淀,从而有效地避免粉尘污染。文档编号B24B55/06GK202716163SQ20122042725公开日2013年2月6日 申请日期2012年8月27日 优先权日2012年8月27日专利技术者张基文 申请人:苍南县灵泉抛光机床制造有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带吸尘装置的抛光机,包括有机体,所述的机体上装设有抛光机构,其特征在于:所述抛光机构的上方包覆有罩壳,抛光机构的下方设有密闭的集尘容腔,所述的集尘容腔上还连接设有吸尘风机。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张基文
申请(专利权)人:苍南县灵泉抛光机床制造有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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