一种磁瓦一出二模具制造技术

本实用新型专利技术公开一种磁瓦一出二模具，克服现有技术的磁瓦成型模具结构不合理，贵重材料浪费、结构复杂和加工难度增大的缺陷，提供一种节约贵重材料、加工容易、装配和维修简单，尤其是模具耐用度提高的磁瓦成型模具。包括下模座和下模座，下模座内设有凹模、下模座下部设有下凸模，上模座下部设有上凸模，凹模中间设置有两个上下通透的瓦形内腔,两个瓦形内腔的内弧具有相同的圆心，该圆心与两个瓦形内腔的外弧的圆心为同一个圆心；上凸模的凸模头与瓦形内腔适配，下凸模的凸模头与瓦形内腔适配。本实用新型专利技术单独设置凹模，减少贵重且难加工的合金钢用量；减轻热处理工作量；机加工容易、装配和维修简单；降低成本，延长模具寿命。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于磁瓦制造
，具体涉及一种稀土永磁产品的磁瓦模具。
技术介绍
现有技术的磁瓦生产，例如粘接钕铁硼磁瓦，在生产过程中为了提高生产效率，通常将模具设计为一模两件或一模多件，特别是尺寸大的磁瓦产品，现有技术将一出二模具设计成平行排列，上下凸模独立分开。显然，对于粘结钕铁硼磁瓦产品采用上述模具方案生产，将会造成模具装配和加工难度增大。也有将上、下凸模及凹模各设为一体的，例如中国专利号ZL201020275502. 2，名称为“一种磁瓦成型模具结构”的技术专利，公开了一种磁瓦成型模具结构，包括上冲头、下冲头和阴模，在所述阴模的轴向上设置有上下贯通的通孔，在所述通孔中设置有活动的型芯，所述型芯与通孔之间形成至少两个相互独立的腔体，在所述上冲头和下冲头上设置有与所述腔体配合的凸头。该技术将凹模的模具体、模座及模芯都设置在同一件工件上，其实模座与模芯不论是所用材料、加工设备、热处理工艺上都不相同，合在一起势必造成贵重材料浪费、加工难度增加、结构复杂、热处理难度及变形增大。
技术实现思路
本技术需要解决的技术问题是，克服现有技术的磁瓦成型模具结构不合理，贵重材料浪费、结构复杂和加工难度增大的缺陷，提供一种节约贵重材料、加工容易、装配和维修简单，尤其是模具耐用度提高的磁瓦成型模具。本技术的目的是通过下述技术方案予以实现的一种磁瓦一出二模具，包括下模座和下模座，下模座内设有凹模、下模座下部设有下凸模，上模座下部设有上凸模，凹模中间设置有两个上下通透的瓦形内腔，两个瓦形内腔的内弧具有相同的圆心，该圆心与两个瓦形内腔的外弧的圆心为同一个圆心；上凸模的凸模头与瓦形内腔适配，下凸模的凸模头与瓦形内腔适配。在凹模中设置同圆心的对称的瓦形结构，这样设计的凹模在压制过程中由于对称布局，使径向应力部分抵消，模具寿命得以改善；上下凸模一体设计解决了模具加工精度难度大的问题，而且安装方便快捷，工装简单。作为优选，上凸模和下凸模都为阶梯形结构。作为优选，下凸模的凸模头高度大于或等于凹模的高度。作为优选，凹模的瓦型内腔上端部设有R0. I mm的圆倒角。作为优选，上凸模的凸模头与凹模的瓦形内腔配合间隙以及下凸模的凸模头与凹模的瓦形内腔配合间隙都为O. 015 O. 02mm。本技术的有益效果是I、单独设置凹模，减少贵重且难加工的合金钢用量；2、减轻热处理工作量；3、机加工容易、装配和维修简单；4、降低成本,延长模具寿命。附图说明图I是本技术一种实施例的结构示意图；图2是本技术凹模的半剖结构示意图；图3是图2的俯视示意图；图4是技术上凸模结构示意图；·图5是图4的仰视示意图；图6是技术下凸模结构示意图；图7是图6的俯视示意图；图8是图2的A处放大示意图。图中，下模座I ;凹模2 ;瓦形内腔21 ;导入倒角22 ;下凸模3 ;上凸模4 ;凸模头41。具体实施方式以下结合附图和具体实施方案对本技术作进一步描述。实施例I :如图I所示，一种磁瓦一出二模具，包括下模座I和上模座，下模座I内设有凹模2、凹模2和下模I采用压配的方法固定连接，下模座I下部设有下凸模3，上模座下部设有上凸模4，凹模2中间设置有两个上下通透的瓦形内腔21，两个瓦形内腔21的内弧具有相同的圆心，该圆心与两个瓦形内腔21的外弧的圆心为同一个圆心；上凸模4的凸模头41与瓦形内腔21适配，下凸模3的凸模头与瓦形内腔适配，下凸模3的上端面同时也是瓦形内腔21的底面，在磁瓦压制烧结完成后，上凸模4往上复位退出，接着下凸模3往上将产品顶出凹模2的瓦形内腔21。在凹模2中设置同圆心的对称的瓦形结构，这样设计的凹模2在压制过程中由于对称布局，使径向应力部分抵消，模具寿命得以改善；上凸模及下凸模采用一体式设计解决了模具加工精度难度大的问题，而且安装方便快捷，工装简单，如图2、3所示。上凸模4和下凸模3都为阶梯形结构，上凸模4的凸模头41设有两个，分别与对称的两个瓦形内腔相适配，同样，下凸模3的凸模头也设有两个，分别与对称的两个瓦形内腔上部适配，如图4 7所示。下凸模的凸模头高度大于或等于凹模2的高度，保证这个高度可以使制成的磁瓦产品完全顶出凹模型腔。上凸模4的凸模头41与凹模2的瓦形内腔21配合间隙以及下凸模的凸模头与凹模的瓦形内腔配合间隙都为O. 015 O. 02mm。上凸模4的凸模头41的端部及下凸模的凸模头的端部都不得倒角。实施例2 :凹模2的瓦形内腔21上端部设有导入倒角22，导入倒角22的深度B为I I. 5mm，倾斜角度C为与下模轴线成10°角。上凸模4在复位后完全退出凹模2，为了重新压入凹模2时能够顺利进行，设置导入倒角22可以避免凸模头41与凹模2 口部意外碰撞损坏，如图8所示。本技术可在各种款式的磁瓦制造中使用，具有合金钢用量少、减轻热处理工作量、机加工容易、装配和维修简单、降低成本和延长模具寿命的优点，本领域的技术人员如果对上述
技术实现思路
作简单的修改或替换，这样的改变不能认为是脱离本技术的范围，所有这样对所属领域的技 术人员显而易见的修改将包括在本技术的权利要求的范围之内。权利要求1.一种磁瓦一出二模具，包括下模座和下模座，其特征是，下模座内设有凹模、下模座下部设有下凸模，上模座下部设有上凸模，凹模中间设置有两个上下通透的瓦型内腔，两个瓦型内腔的内弧具有相同的圆心，该圆心与两个瓦型内腔的外弧的圆心为同一个圆心；上凸模的凸模头与瓦型内腔适配，下凸模的凸模头与瓦型内腔适配。2.根据权利要求I所述的一种磁瓦一出二模具，其特征是，上凸模和下凸模都为阶梯形结构。3.根据权利要求I或2所述的一种磁瓦一出二模具，其特征是，下凸模的凸模头高度大于或等于凹模的高度。4.根据权利要求3所述的一种磁瓦一出二模具，其特征是，凹模的瓦型内腔上端部设有RO. I mm的圆倒角。5.根据权利要求3所述的一种磁瓦一出二模具，其特征是，凹模的瓦形内腔上端部设有导入倒角，导入倒角的深度B为I I. 5_，倾斜角度C为与下模轴线成10°角。6.根据权利要求3所述的一种磁瓦一出二模具，其特征是，上凸模的凸模头与凹模的瓦型内腔配合间隙以及下凸模的凸模头与凹模的瓦型内腔配合间隙都为O. 015 O.020mm。专利摘要本技术公开一种磁瓦一出二模具，克服现有技术的磁瓦成型模具结构不合理，贵重材料浪费、结构复杂和加工难度增大的缺陷，提供一种节约贵重材料、加工容易、装配和维修简单，尤其是模具耐用度提高的磁瓦成型模具。包括下模座和下模座，下模座内设有凹模、下模座下部设有下凸模，上模座下部设有上凸模，凹模中间设置有两个上下通透的瓦形内腔,两个瓦形内腔的内弧具有相同的圆心，该圆心与两个瓦形内腔的外弧的圆心为同一个圆心；上凸模的凸模头与瓦形内腔适配，下凸模的凸模头与瓦形内腔适配。本技术单独设置凹模，减少贵重且难加工的合金钢用量；减轻热处理工作量；机加工容易、装配和维修简单；降低成本，延长模具寿命。文档编号B22F3/03GK202701377SQ201220416520公开日2013年1月30日 申请日期2012年8月22日 优先权日2012年8月22日专利技术者马永军 申请人:横店集团东磁股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁瓦一出二模具，包括下模座和下模座，其特征是，下模座内设有凹模、下模座下部设有下凸模，上模座下部设有上凸模，凹模中间设置有两个上下通透的瓦型内腔,？两个瓦型内腔的内弧具有相同的圆心，该圆心与两个瓦型内腔的外弧的圆心为同一个圆心；上凸模的凸模头与瓦型内腔适配，下凸模的凸模头与瓦型内腔适配。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：马永军，
申请(专利权)人：横店集团东磁股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：