交/直流电弧直读光谱仪的电极投影成像装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种交/直流电弧直读光谱仪的电极投影成像装置，包括依次设置的电极、第一透镜、光路反射系统及光栏，还包括显示屏，所述光路反射系统包括第一反射镜、第二反射镜及他们之间的第二透镜，电极经第一透镜聚焦到光栏上的电极像漫反射到第一反射镜，经第二透镜入射至第二反射镜后，聚焦至显示屏。通过在第一透镜和光栏之间设置的光路反射系统，将成像在光栏上的电极像，通过光路反射系统后聚焦在显示屏上，从显示屏可清晰地观测到电极像的位置，提高了电弧直读光谱仪使用的方便性及准确性。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及原子发射光谱分析仪器领域，尤其涉及电弧直读光谱仪的电极投影成像装置。
技术介绍
电弧激发一米或两米光栅光谱仪是原子发射光谱仪器中重要分支，该仪器的特点可直接对地质样品中土壤、岩石、水系沉积物和高纯金属氧化物等粉末状样品进行分析，无需化学消解及稀释过程，从而避免了消解后溶液中某些元素的含量被稀释降低分析灵敏度，而且还极易带入难以控制的污染。长期以来，我国生产的电弧激发一米或两米光栅光谱仪在地质领域全国开展地球化学找矿《1:5万区域化探全国扫面计划》中每年有几十万件地球化学样品的分析任务，以·及有色、冶金系统中大量的高纯金属氧化钨、氧化钥和其它贵金属样品中测定17 19种杂质元素含量，因此在我国众多实验室得到广泛应用。而传统的电弧激发一米或两米光栅光谱仪通常采用相板记录、洗相、测光等流程进行光谱分析，其操作程序繁锁、工作效率低、劳动强度大和易污染环境等弊端，因此，广大用户十分期待新型的电弧激发光电直读光谱仪的诞生。电弧激发光电直读光谱仪主要工作原理是利用交流或直流电弧光源将试样激发出特征光谱，特征光谱经过凹面光栅的分光系统衍射为不同波长的光谱线，而后将该光信号转化为电信号，电信号经过放大及数据处理后得到试样实验数据，由于光谱线的强度与不同的元素的含量成一定的函数关系，因此，通过对试样实验数据进行处理可以计算出试样中被测元素的含量，这种电弧激发光电直读光谱仪具有操作简单，且工作效率高等优点。在试样进行测试之前或操作过程中，需要将电极的位置(电极像)进行调整在中间光栏的特定位置上，以保障测试的正确性。而现有的电弧激发光电直读光谱仪的电弧光源设置在中间光栏的正前方，由于电弧光源为暴露在直读光谱仪主机的外面，可以直接观测到中间光栏上的电极像，而电弧光源激发放电时会产生很强的电弧光，操作人员需要特别的防护工具保护眼睛，作为改进，在电弧光源外部增设了电弧激发光源的防护装置，防护装置使电弧激发光源及中间光栏处于全封闭的状态，而封闭后会导致很难观察到电极在中间光栏的成像，影响对电极位置的观察。
技术实现思路
本技术的实施例提供了一种交/直流电弧直读光谱仪的电极投影成像装置，通过多光路反射系统将电极成像在显示屏上，实现处于防护装置中的电弧光源的电极像的观察。为实现上述目的，本技术实施例提供了如下技术方案一种交/直流电弧直读光谱仪的电极投影成像装置，包括依次设置的电极、第一透镜、光路反射系统及光栏，还包括显示屏，所述光路反射系统包括第一反射镜、第二反射镜及他们之间的第二透镜，电极经第一透镜聚焦到光栏上的电极像漫反射到第一反射镜，经第二透镜入射至第二反射镜后，聚焦至显示屏。可选地，所述第一反射镜的反射面朝向所述光栏及第二透镜，且与所述光栏之间的夹角为45° ;所述第二反射镜的反射面朝向所述显示屏及第二透镜，且与所述显示屏之间的夹角为45°。可选地，所述显示屏设置在防护装置的外壁上。可选地，所述显示屏为毛玻璃显示屏。可选地，所述光路反射系统安装于面板上，所述面板上设置有对应于第一反射镜、第二反射镜的角度调节机构以及对应于第二透镜的焦距调节机构。本技术的电弧直读光谱仪的电极成像装置，通过在第一透镜和光栏之间设置光路反射系统，将成像在光栏上的电极像通过光路反射系统后聚焦在显示屏上，通过该显 示屏来实现观测电极像的位置，可以根据显示屏上的电极像进行电极位置的相应调整，解决了电弧激发光源及显示电极像的光栏处于被防护装置封闭的状态时，无法直接从光栏观察电极像的问题，提高了电弧直读光谱仪使用的方便性及准确性。附图说明图I为根据本技术的实施例的交/直流电弧直读光谱仪的电极投影成像装置的结构示意图。具体实施方式为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，以下结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术，但是本技术还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似推广，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。正如上述
技术介绍
中的描述，为了解决电弧激发光源及显示电极像的光栏处于被防护装置封闭的状态时，无法直接从光栏上观测电极像的问题，本技术提出了一种电弧直读光谱仪的电极投影成像装置，参考图I所示，该电极像投影显示装置包括依次设置的照明光源I、电极2、第一透镜3、光路反射系统10及光栏5，还包括显示屏8，所述光路反射系统10包括第一反射镜4、第二反射镜6及他们之间的第二透镜7，电极2经第一透镜3聚焦到光栏5上的电极像51漫反射到第一反射镜4，经第二透镜6入射至第二反射镜7后，聚焦至显示屏8,在显示屏8上显示电极像81。也就是说，本技术通过在光栏5和第一透镜3之间增加了光路反射系统10，通过该光路反射系统，将原本在光栏5上成像的电极像经光路反射系统后，反射至显示屏8上成像，通过观测显示屏上的电极像81来确定确定和调整电极的位置，从而解决无法直接从光栏上观测电极像的问题。在本技术的具体的实施例中，如图I所示，第一反射镜4设置在第一透镜3与光栏5之间，在光栏上的电极成像的范围的稍下方，其反光面朝向所述光栏5及第二透镜6，与所述光栏5之间的夹角基本为45° ;第二透镜6位于第一反射镜上方，呈水平方向设置，即与光源的平行光方向一致；第二反射镜7设置在第二透镜6的上方，其一侧设置有显示屏8，第二反射镜7的反射面朝向所述显示屏8及第二透镜6，与所述显示屏8之间的夹角基本为45° ;进一步地，可以将该光路反射系统10安装在面板(图未示出)上，在该面板安装有滑动导轨，以调节整个光路反射系统10在光栏5与第一透镜3之间的成像焦距，此外，在面板上还安装有调节第一反射镜4和第二反射镜7的角度的调节机构以及调节第二成像透镜的焦距的调节机构，从而，使该光路反射系统10中的各个部件的角度及焦距可调整。在此实施例中，所述光源I为由高强度的发光二极管和聚光镜组成，可以为该防护装置中的照明用的光源，安装在电极架的中部，具有相对电极上下运动的可调节机构，其以平行光出射在电极上，电极例如为石墨电极，显示屏设置在防护装置的外壁上。在进行试样测试之前，即电弧激发试样之前，首先要确定电极的位置是否在预定的位置上，此时，电源发出的平行光将电极2经透镜3成像至光栏5上，光栏上的电极像51漫反射到第一反射镜4上，第一反射镜4通过第二透镜6聚焦成像后，再经第二反射镜7反射聚焦到毛玻璃显示屏8上，操作人员可以直接从显示屏上就可以观测到电极像。在根据显示屏上的电极像的位置将该电极的位置调整到预定的位置之后，电弧直·读光谱仪进行试样的分析，即试样在交流或直流电弧光源的激发下，试样中不同元素发射出各自的特征光谱，经聚焦通过光栏(中间光栏)的通光口进入分光系统，均匀地照明入射狭缝，投射到凹面光栅上，经过光栅的分光系统，将衍射成为各元素不同波长的单色光谱线成像在罗兰园上，谱线的强度与被测元素的含量成一定的函数关系，各元素光谱线通过相对应的出射狭缝和光栏片，投射到光电倍增管上，光电倍增管将光信号转化成电信号，由测控系统进行积分放大与A/D转换，经数据处理计算元素含量、打印出分析结果。而在电弧激发试样的过程中，电极不断被灼烧，也可能会本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种交/直流电弧直读光谱仪的电极投影成像装置，包括依次设置的电极、第一透镜、光路反射系统及光栏，还包括显示屏，所述光路反射系统包括第一反射镜、第二反射镜及他们之间的第二透镜，电极经第一透镜聚焦到光栏上的电极像漫反射到第一反射镜，经第二透镜入射至第二反射镜后，聚焦至显示屏。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张锦茂，付国余，常伟，王彦东，曲红静，赵艳秋，吴冬梅，楼巧兰，
申请(专利权)人：北京瑞利分析仪器有限公司，
类型：实用新型
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