抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法技术

技术编号:8241268 阅读:161 留言:0更新日期:2013-01-24 22:00
本发明专利技术公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法。所述抗蚀剂组合物包含:具有由式(I)表示的结构单元的树脂,在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂,和由式(II)表示的酸生成剂,其中R1、A1、R2、RII1、RII2、LII1、YII1、RII3、RII4、RII5、RII6、RII7、n、s和RII8如说明书中限定。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
专利文献JP-2010-197413A中描述了一种抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物包含树脂和酸生成剂,所述树脂包含具有结构单元(U-A)和结构单元(u-B)的聚合物,以及具·有结构单元(u-B)、结构单元(u-C)和结构单元(u-D)的聚合物。权利要求1.一种抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物包含 具有由式(I)表示的结构单元的树脂, 在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂,和由式(II)表示的酸生成剂,2.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物还包含由式(III)表示的酸生成剂;3.根据权利要求2所述的抗蚀剂组合物,其中式(III)中的Z+是三芳基锍阳离子。4.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物,其中式(I)中的A1是1,2_亚乙基。5.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物,其中式(I)中的R2是C1至C6氟化烷基。6.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物,其中式(II)中的Lm是单键或亚甲基。7.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物还包含溶剂。8.一种用于生产抗蚀图案的方法,所述方法包括下列步骤 (1)将权利要求I所述的抗蚀剂组合物涂敷到基材上; (2)将涂敷的组合物干燥以形成组合物层; (3)将所述组合物层曝光; (4)将曝光的组合物层加热,和 (5)将加热的组合物层显影。全文摘要本专利技术公开了。所述抗蚀剂组合物包含具有由式(I)表示的结构单元的树脂,在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂,和由式(II)表示的酸生成剂,其中R1、A1、R2、RII1、RII2、LII1、YII1、RII3、RII4、RII5、RII6、RII7、n、s和RII8如说明书中限定。文档编号G03F7/00GK102890417SQ201210251310公开日2013年1月23日 申请日期2012年7月19日 优先权日2011年7月19日专利技术者市川幸司, 安立由香子, 藤田真吾 申请人:住友化学株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物包含:具有由式(I)表示的结构单元的树脂,在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂,和由式(II)表示的酸生成剂,其中R1表示氢原子或甲基;A1表示C1至C6烷二基;R2表示具有氟原子的C1至C10烃基;其中RII1和RII2独立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基;LII1表示单键、C1至C6烷二基、C4至C8二价脂环烃基、?(CH2)t?CO?O?*或?(CH2)t?CO?O?CH2?(CH2)u?*,所述烷二基、?(CH2)t?CO?O?*或?(CH2)t?CO?O?CH2?(CH2)u?*中含有的一个或多个?CH2?可以被?O?代替,t表示1至12的整数,u表示0至12的整数,*表示与YII1的连接;YII1表示任选被取代的C3至C18脂环烃基,并且所述脂环烃基中含有 的一个或多个?CH2?可以被?O?、?CO?或?SO2?代替;RII3、RII4、RII5、RII6和RII7独立地表示氢原子、羟基、C1至C6烷基、C1至C6烷氧基、C2至C7烷氧基羰基或C2至C12酰氧基,阳离子的含硫环中所含有的一个或多个?CH2?可以被?O?或?CO?代替;n表示1至3的整数;s表示0至3的整数;并且RII8在每一次出现时均独立地表示C1至C6烷基。FDA00001906388500011.jpg,FDA00001906388500012.jpg...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:市川幸司安立由香子藤田真吾
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:

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