【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及。
技术介绍
专利文献JP-2010-197413A中描述了一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含树脂和酸生成剂，所述树脂包含具有结构单元(u-A)和结构单元(u-B)的聚合物和具有结构单元(u-B)表示的化合物、具有结构单元(u-C)和具有结构单元(u-D)的聚合物。权利要求1.一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含 具有由式(I)表示的结构单元的树脂， 在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和由式(II)表示的酸生成剂，2.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A1是1，2_亚乙基。3.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的R2是C1至C6氟化烷基。4.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，其中Lbl是由式(Ll-I)表示的基团，5.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，其中Z1+是三芳基锍阳离子。6.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物还包含溶剂。7.一种用于生产抗蚀图案的方法，所述方法包括下列步骤(1)将权利要求I所述的抗蚀剂组合物涂敷到基材上；(2)将涂敷的组合物干燥以形成组合物层；(3)将 所述组合物层曝光；(4)将曝光的组合物层加热，和(5)将加热的组合物层显影。全文摘要本专利技术公开了。所述抗蚀剂组合物具有具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包括由式(I)表示的结构单元的树脂，和酸生成剂，其中R1、A1、R2、Rb1、Rb2、Lb1、环Wb1、Rb3、Rb4、m...
【技术保护点】
一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和由式(II)表示的酸生成剂，其中R1表示氢原子或甲基；A1表示C1至C6烷二基；R2表示具有氟原子的C1至C10烃基；其中Rb1和Rb2独立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基；Lb1表示C1至C17二价饱和烃基，所述饱和烃基中含有的一个或多个？CH2？可以被？O？或？CO？代替；环Wb1表示C2至C36杂环；Rb3表示氢原子或C1至C12烃基，所述烃基中含有的一个或多个？CH2？可以被？O？或？CO？代替；Rb4在每一次出现时均独立地表示C1至C6烃基，所述烃基中含有的一个或多个？CH2？可以被？O？或？CO？代替；m表示0至6的整数；并且Z1+表示有机阳离子。FDA00001906430200011.jpg,FDA00001906430200012.jpg
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：市川幸司，平冈崇志，坂本宏，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：
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