微调偏移测量平台装置制造方法及图纸

一种微调偏移测量平台装置，包含一基座、一设置于所述基座内部的调整单元、一中心处具有一推动部的偏移座，且所述推动部位于所述调整单元的一手动转柄与一弹性柱之间、至少一第一滑块设置在所述基座上、至少一第二滑块设置在所述偏移座的滑槽上、至少一滑动连接于所述第一滑块与所述第二滑块间的滑接件，使所述第一滑块可相对所述第二滑块进行线性偏移滑动；当所述手动转柄朝推动位置移动而推动所述偏移座的推动部时，所述弹性柱缩回，而使所述偏移座在一定距离内进行线性偏移，当所述手动转柄朝退回位置移动时，所述弹性柱通过其弹力将所述推动部加以推回。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及ー种手动微调平台装置，特别是涉及ー种微调偏移測量平台装置。
技术介绍
所知的手动微调平台装置被广泛地运用于各种自动化精密加工的定位、加工与测试场合中，并能搭配各种光学组件或检测仪器，以能够进行高精密度的測量或检验作业。目前常见的手动微调平台装置，既有单轴式手动微调平台，其主要是在一基座与一滑座间设置一弹性组件，以由基座上的一转柄加以进给推动所述滑座沿所述基座进行直线位移，当所述转柄退回时则由所述弹性组件将所述滑座加以拉回至原有位置。上述所知的手动微调平台装置，由于受限于须在所述基座与滑座间设置弹性组件(所述弹性组件一般为拉伸弹簧或压缩弹簧)，因此基座与滑座组合后的体积较大、较厚，难以运用于现今高精密的产业上。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种微调偏移測量平台装置，其体积较小、厚度较薄、适用性较佳。本技术的另一目的在于提供一种微调偏移測量平台装置，其能进行偏移的微调。可实现上述技术目的的微调偏移測量平台装置，包括一基座，具有至少ー长条型凹陷区，所述长条型凹陷区具有一阶梯状凸面，且所述基座中心处形成一具有容置区的凸肋；一调整单元，其设置于基座内部，具有一设置于基座上的手动转柄及一设置于基座上的弾性柱，所述手动转柄可受外力作用而沿直线在一推动位置至一退回位置间进行往复位移，所述弹性柱具备预定的弾力；一偏移座，两侧端面向下形成滑槽，所述滑槽可对应基座的凸肋，使偏移座得以平移于基座，而偏移座两侧端面各设有一台阶状凸起面，且滑槽底面设置一推动部；至少ー第一滑块，设置在所述基座的阶梯状凸面上；至少ー第二滑块，设置在所述偏移座的台阶状凸起面上；至少ー滑动件，滑动连接在所述第一滑块与所述第二滑块间，以使所述第一滑块可相对所述第二滑块进行线性偏移滑动；当所述手动转柄朝推动位置移动而推动所述偏移座的推动部时，所述弹性柱缩回，而使所述偏移座在一有限距离内进行线性偏移，当所述手动转柄朝退回位置移动时，所述弹性柱由其弹カ将所述推动部加以推回。附图说明图I为本专利技术微调偏移測量平台装置的立体外形示意图。图2为所述微调偏移測量平台装置的立体分解示意图。图3为所述偏移座另一视角的立体不意图，说明偏移座及推动部的状态。图4为所述微调偏移測量平台装置的立体运动示意图。图5为所述微调偏移測量平台装置的剖视图，说明本专利技术结构的状态。图6为所述微调偏移測量平台装置的运动状态剖面图，说明本专利技术实际操作前的状态。图7为所述微调偏移測量平台装置的运动状态剖面图，说明本专利技术实际操作前的状态。 附图标记说明I:基座 11:凹陷区 12:阶梯状凸面 13:凸肋14 :容置区 2 :调整单元 21 :手动转柄 22 :弾性柱3:偏移座 31 :滑槽 32:台阶状凸起面 33 :推动部4 :第一滑块 41 :锥槽 5 :第二滑块 51 :锥槽 6 :滑动件具体实施方式请參考图I至图2，本专利技术所提供的微调偏移測量平台装置，主要包括一基座I、一调整单元2、一偏移座3、第一滑块4、第二滑块5及两个滑动件6。所述基座1，呈ー矩形板体，所述基座I的顶面上具有两个相隔预定间距的长条型凹陷区11，各长条型凹陷区11具有一阶梯状凸面12，而在所述基座I中心处形成一具有容置区14的凸肋13。所述调整単元2，一手动转柄21及一弾性柱22 ;所述手动转柄21设置于其基座I内，所述弹性柱22则设置于基座I内相对于手动转柄21的另一面，所述手动转柄21可受外力作用而沿一直线在一推动位置和一退回位置间进行往复位移，进而靠近所述弹性柱22或远离所述弹性柱22，所述弹性柱22具备预定的弾力，使所述弹性柱22在未受外力作用时，所述弹性柱22朝所述手动转柄21的方向伸出。所述偏移座3，呈ー矩形板体，所述偏移座的两侧端面向下形成滑槽31，所述滑槽可对应基座I的凸肋13，使偏移座3得以平移于基座I，请參考图3及图4，所述偏移座3两侧端面各设有一台阶状凸起面32，并且滑槽31底面设置一推动部33，所述推动部33对应基座I的容置区13的位置，因此，当偏移座3组装于基座I时，所述推动部33即可嵌入基座I的容置区13。 请參阅图2至图4，所述各第一滑块4，呈ー长直矩形的长条状体，所述各第一滑块4分别以其一侧面设置在所述基座I的阶梯状凸面12上，且所述各第一滑块4 ー侧形成有一第一锥槽41。请參阅图2至图4，所述各第二滑块5，呈ー长直矩形的长条状体，所述各第二滑块5分别以其一侧面设置在所述偏移座3的台阶状凸起面32上，且所述各第二滑块5的ー侧形成有一第二锥槽51，且所述第二滑块5与所述第一滑块4呈交错并接设置。当第二滑块5与第一滑块4组合后，第一滑块4与偏移座3的台阶状凸起面32保持一间距，而第二滑块5与基座I的阶梯状凸面12保持一间距。使所述第一滑块4与所述第二滑块5相对移动时，所述第一滑块4不会与所述偏移座3接触摩擦，而所述第二滑块5不会与所述基座I接触摩擦，这样设计才能排除基座I与偏移座3的干涉现象。请參考图2至图4，所述各滑动件6，设置于所述第一滑块4与所述第二滑块5间，即所述各滑动件6滑动连接在所述第一滑块4与所述第二滑块5的第一、ニ锥槽41、51间，使所述第一滑块4与所述第二滑块5可通过所述滑动件6而相互滑移，且当所述第一滑块4与所述第二滑块5滑动连接后，所述偏移座3的推动部31位于所述手动转柄21与所述弹性柱22之间。这样，上述即为本专利技术所提供的优选实施例的微调偏移測量平台装置的各部构件及其组装方式的说明，接着再将其使用说明介绍如下首先，所述基座I可连接于一固定座(图中未示)上，而所述偏移座3则可连接于一測量件(图中未示)上，当所述手动转柄21未受外力作用时(如图4所示)，所述手动转柄21的一端抵接于所述偏移座3的推动部31 —侧上，而所述弾性柱22的一端则抵接于所述推动部31的另ー侧上，且所述偏移座3与所述基座I间呈平齐的状态。当使用者欲调整所述偏移座3的偏移距离吋，如图5至图7所示，操作者则可施力转动所述手动转柄21以使所述手动转柄21朝所述推动位置移动，进而推动所述偏移座3的推动部31，使所述偏移座3能通过所述第一、ニ滑块4、5间的滑动件6而相对所述基座I进行一定距离内的线性偏移，以实现固定座与測量件之间偏移的功效。当欲将所述偏移座3调整回与基座I呈平齐的状态时，则由操作者将所述手动转柄21朝退回位置加以旋回移动，以使所述弹性柱22的弾力施加在所述偏移座3的推动部31上，而能将所述偏移座3偏移回与基座I呈平齐的状态。本技术所提供的高精密凸型滑轨模块，与其它惯用技术相互比较时，更具有下列的优点I、本专利技术可进行偏移距离的调整，因此可应用于需进行偏移调整的高精密加工机上，以实现适用性较佳的功效。2、本专利技术将用以推回偏移座的弾性柱设置于所述基座的内部，因此无需在基座与偏移座间设置额外弹カ组件，可大幅降低本专利技术整体占有的空间，以能适用更为广泛的领域。 3、本专利技术其体积较小、厚度较薄、适用性较佳。以上说明对本技术而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可作出许多修改、变化或等效，但都将落入本技术的保护范围之内。权利要求1.一种微调偏移测量平台装置，包括 一基座，具有至少一长条型凹陷区本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微调偏移测量平台装置，包括：一基座，具有至少一长条型凹陷区，所述长条型凹陷区具有一阶梯状凸面，且所述基座中心处形成一具有容置区的凸肋；一调整单元，其设置于基座内部，具有一设置于基座上的手动转柄及一设置于基座上的弹性柱，所述手动转柄可受外力作用而沿直线在一推动位置至一退回位置间进行往复位移，所述弹性柱具有预定的弹力；一偏移座，两侧端面向下形成滑槽，所述滑槽可对应基座的凸肋，使偏移座得以平移于基座，而偏移座两侧端面各设有一台阶状凸起面，且滑槽底面设置一推动部；至少一第一滑块，设置在所述基座的阶梯状凸面上；至少一第二滑块，设置在所述偏移座的台阶状凸起面上；至少一滑动件，滑动连接于所述第一滑块与所述第二滑块间，以使所述第一滑块可相对所述第二滑块进行线性偏移滑动；当所述手动转柄朝推动位置移动而推动所述偏移座的推动部时，所述弹性柱缩回，使所述偏移座在一有限距离内进行线性偏移，当所述手动转柄朝退回位置移动时，所述弹性柱通过其弹力将所述推动部加以推回。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邱毓英，
申请(专利权)人：邱毓英，
类型：实用新型
国别省市：