【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ー种抛光定位机构。
技术介绍
电子装置外壳等エ件在成型后其两侧都会出现明显的分模线痕迹，严重影响电子装置的外观，为了去除分模线，通常我们会用打磨抛光的方法将其去除。然而，抛光时会产生大量的热量，如果操作者徒手直接拿住上述电子装置外壳进行抛光，抛光所产生的热量将可能烫伤操作者且可能导致电子装置外壳变形
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供ー种能防止エ件变形的抛光定位机构。ー种抛光定位机构，该抛光定位机构包括基体、定位件及推顶件，该基体包括二相对的侧壁及连接所述侧壁的表壁，所述定位件于其中一侧壁朝另ー侧壁方向可运动地安装于其中一所述侧壁上，该推顶件朝该基体可运动地安装于该表壁上，该推顶件上设有推抵块；该推顶件朝该基体运动吋，该推抵块推动所述定位件远离该基体。ー种抛光定位机构，该抛光定位机构包括基体、定位件及推顶件，该基体包括侧壁及表壁，所述定位件于第一方向可运动地安装于所述侧壁上，该推顶件于垂直该第一方向的第二方向上可运动地安装于该表壁上，该推顶件上设有推抵块；该推顶件朝该基体运动吋，该推抵块推动所述定位件远离该基体。上述抛光定位机构在定位壳体时,基板及定位件完全容置于壳体的容置腔，从而将容置腔完全填充，使得壳体在抛光的过程中不会产生变形。附图说明图I是本专利技术较佳实施例抛光定位机构的立体 图2是图I所示抛光定位机构的分解 图3是用本专利技术较佳实施例抛光定位机构定位的壳体的立体 图4是图I所示抛光定位机构的使用状态 图5是图4所示抛光定位机构的立体图。主要元件符号说明_抛光定位机构 100壳体200基体10定位件20推顶件30弹性件40...
【技术保护点】
一种抛光定位机构，其特征在于：该抛光定位机构包括基体、定位件及推顶件，该基体包括二相对的侧壁及连接所述侧壁的表壁，所述定位件于其中一侧壁朝另一侧壁方向可运动地安装于其中一所述侧壁上，该推顶件朝该基体可运动地安装于该表壁上，该推顶件上设有推抵块；该推顶件朝该基体运动时，该推抵块推动所述定位件远离该基体。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王新艳，梁志丹，覃光军，
申请(专利权)人：深圳富泰宏精密工业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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