显影剂承载构件和使用其的显影设备制造技术

提供一种显影剂载体，使用该显影剂载体，在不同环境条件下，从该显影剂载体首次使用直至显影剂载体使用寿命后期稳定地获得高品质图像，而没有图像浓度降低、套筒重影形成、污迹形成、耐污染性的问题等，并且还提供一种使用该显影剂载体的显影设备。显影剂载体包括基体和形成于基体表面上的树脂层，其中所述树脂层通过将包括至少(A)至(E)的涂料组合物固化来获得：(A)作为粘结剂树脂的热固性树脂，(B)作为溶剂的C1-4醇，(C)至少包括由下式(1)表示的单元的树脂，(D)其中通过X-射线衍射测量的石墨(002)面的晶格间距为0.3370nm-0.3450nm的石墨化炭黑，和(E)pH为5.0以下的酸性炭黑。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于图像形成设备的显影剂承载构件和显影设备。
技术介绍
调色剂的摩擦电荷量易受到显影剂承载构件的表面条件的影响。在PTL I中，摩擦电荷量分布通过将含有电荷控制剂的树脂层设置在显影剂承载构件的表面上来控制。PTL 2已经提出在其树脂层中包括含有季铵碱的共聚物作为电荷控制剂的显影剂承载构件。根据该构造，通过季铵碱的负带电性抗衡离子的离子化，使得电荷控制剂是离子导电的，因此树脂层的体积电阻降低至一定程度。因此，改进图像不良如重影或雾化。PTL 3已经提出在其树脂层中包括正带电性树脂和特定炭黑的显影剂承载构件。根据该构造，通过使用粒径小和具有润滑性的炭黑，可以将均匀、高的摩擦电荷赋予至调色剂。还可以抑制由 于调色剂的融着或调色剂附着而导致的显影剂承载构件的表面污染。引用列表专利文献PTL I :日本专利申请特开H08-030088PTL 2 :日本专利申请特开2001-312136PTL 3 :日本专利申请特开2007-02559
技术实现思路
专利技术要解决的问题近年来，为了满足电子照相图像的高图像品质的要求，球形化和小粒径化的调色剂已经成为主流。通常，为了实现高图像品质的目的，调色剂的摩擦电荷量需要通过显影剂承载构件更均匀地控制从而以更高保真度将静电潜像显影。然而，在这方面，本专利技术人已获得以下认识上述PTL I至PTL 3的显影剂承载构件在小粒径化和球形化调色剂方面仍然有改进空间。具体地，本专利技术人已经认识到必须提供如下的显影剂承载构件其较高水平地同时具有赋予球形化和小粒径化的调色剂以稳定的摩擦电荷的能力、在即使通过长期使用该能力也几乎不劣化的意义上的耐久性和调色剂耐污染性。因此，本专利技术旨在提供即使通过长期使用也能够赋予调色剂以均匀的摩擦电荷量分布同时快速赋予调色剂以充分高的摩擦带电性，以及耐污染性也优良的显影剂承载构件，并且旨在提供使用该显影剂承载构件的显影设备。用于解决问题的方案根据本专利技术的一方面，提供显影剂承载构件，其包括基体和形成于基体上的树脂层，其中所述树脂层通过将包括以下(A)至(E)的涂料组合物热固化而获得(A)作为粘结剂树脂的热固性树脂，(B)作为溶剂的具有1-4个碳原子的醇，(C)具有由下式⑴表示的单元的树脂，(D)通过X-射线衍射测量的石墨(002)晶格间距为O. 3370nm以上且O. 3450nm以下的石墨化炭黑，(E)pH为5. O以下的酸性炭黑，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.04.23 JP 2010-0998871.一种显影剂承载构件，其包括基体和形成于所述基体上的树脂层， 其中所述树脂层通过将包括以下(A)至(E)的涂料组合物热固化而获得 (A)作为粘结剂树脂的热固性树脂， (B)作为溶剂的具有1-4个碳原子的醇， (C)具有由下式(I)表示的单元的树脂， (D)通过X-射线衍射测量的石墨(002)晶格间距为O.3370nm以上且O. 3450nm以下的石墨化炭黑， (E)pH为5.0以下的酸性炭黑，2.根据权利要求I所述的显影剂承载构件，其中 R1...

【专利技术属性】
技术研发人员：高山义之，岛村正良，明石恭尚，大竹智，松田拓真，伊藤稔，若林和仁，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：
国别省市：