【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种无尘室结构。
技术介绍
随着半导体技术不断的进步,ICエ艺线径不断的縮小,因此外部空气中含微污染物物质,如含硫物质等,对于エ艺良率的影响,日益扩大。为了提升エ艺良率,对于生产环境的净化规格,相对提高,对无尘室的洁净度要求也相对提高。而当操作员需要频繁往返于无尘室及普通环境时,很可能使无尘室内的洁净度降低。
技术实现思路
有鉴于此,有必要提供ー种操作方便,并能够保证无尘室洁净度的无尘室结构。 一种无尘室,包括ー舱体、设置于该舱体侧壁上至少ー个舱门、及设置于舱体内部的第一排尘装置。该无尘室还包括第一料盘,其设置于该舱体内部,与非设置该舱门的第一侧壁垂直,该第一料盘包括多个网孔。进料ロ,其设置于该第一侧壁上,并位于该第一料盘上方。第二排尘装,设置于该舱体内部且位于进料ロ的上方,用于当物料从该进料ロ进入该舱体中时,阻绝尘粒子随物料进入。出料ロ,设置于靠近该舱体内底部,且位于第一侧壁上,用于移出物料。相对于现有技术,本专利技术提供的无尘室,通过在舱体的侧壁上设置ー进料ロ及一出料ロ,防止操作人员往返无尘室,而污染舱体内的空间。在舱体内部设置网状的料盘,并于料盘上方设置排尘装置,防止尘粒子累积于料盘之上,降低舱体内的洁净度。从而,该无尘室可达到方便操作,并提升洁净度的功能。附图说明图I为本专利技术的无尘室的立体图。主要元件符号说明无尘室I_ 舱体10侧壁100、102 : 顶部101舱门:11 第一料盘12进料ロ13出料ロ14 第二料盘15脚轮:16第一排尘装置17第二排尘装置丨[8_ 如下具体实施方式将结合上述附图进ー步说明本专利技术。具体 ...
【技术保护点】
一种无尘室,包括一舱体、设置于所述舱体侧壁上至少一个舱门、及设置于舱体内部的第一排尘装置,其特征在于,所述无尘室还包括:第一料盘,其设置于所述舱体内部,与所述舱体内非设置所述舱门的第一侧壁垂直,所述第一料盘包括多个网孔;进料口,其设置于所述第一侧壁上,并位于所述第一料盘上方;第二排尘装置,设置于所述舱体内部且位于所述进料口的上方,用于当物料从所述进料口进入所述舱体中时,阻绝尘粒子随物料进入;出料口,设置于靠近所述舱体内底部,且位于第一侧壁上,用于移出物料。
【技术特征摘要】
1.一种无尘室,包括ー舱体、设置于所述舱体侧壁上至少ー个舱门、及设置于舱体内部的第一排尘装置,其特征在于,所述无尘室还包括 第一料盘,其设置于所述舱体内部,与所述舱体内非设置所述舱门的第一侧壁垂直,所述第一料盘包括多个网孔; 进料ロ,其设置于所述第一侧壁上,并位于所述第一料盘上方; 第二排尘装置,设置于所述舱体内部且位于所述进料ロ的上方,用于当物料从所述进料ロ进入所述舱体中时,阻绝尘粒子随物料进入; 出料ロ,设置于靠近所述舱体内底部,且位于第一侧壁上,用于移出物料。2.如权利要求I所述的无尘室,其特征在于,所述舱体为长方体,且于所述舱体的其中一与地面...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈登奎,
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司,鸿海精密工业股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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