均匀清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种均匀清洗装置，包括槽体，所述槽体的下端设置有超声波发生器，所述槽体的侧壁上端分别设置有挡板，所述挡板的边缘设置有梯形凸起，所述相邻梯形凸起之间为凹面梯形齿，所述挡板上的凹面梯形齿设置在同一个平面上，所述相邻梯形凸起、相邻凹面梯形齿的形状相同。本发明专利技术通过打磨机将挡板上的尖角打磨成凹面梯形齿，使得水流的地方平整，水流带动杂质从水槽的四周溢出，快速且均匀的去除了水中的杂质，保证镜片的清洗质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学器件领域，尤其涉及一种镜片的均匀清洗装置。
技术介绍
随着电子技术的发展，数码相机、摄像机等设备的使用越来越广泛。在数码相机、摄像机等设备的制造过程中，光学器件是不可缺少的部件。其中使用的圆形光学玻璃镜片一般是先通过选原材料、切割、超声波清洗，再进行镀膜、光谱及外观检测，接着将玻璃镜片粘结在一起形成玻璃方柱，再通过内圆切割机将玻璃方柱切成小块小块的玻璃方柱，最后通过磨圆机进行磨圆、泡胶、清洗、干燥，得到所需的光学镜片。其中，镜片的清洗工艺是光学镜片加工中的一道重要工序，其直接影响到光学镜片的质量。目前镜片的清洗是放置在 清洗槽内，通过超声波进行清洗。由于承载镜片的夹具在通过设备在快下慢上的运动过程中，清洗槽的边角不均匀，使得镜片上的杂质聚流到一个角落，在运动过程中又被带入清洗的纯水内，影响了镜片的清洗质量。
技术实现思路
本专利技术克服了现有技术的不足，提供一种结构简单、水流均匀的均匀清洗装置。为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案为一种均匀清洗装置，包括槽体，所述槽体的下端设置有超声波发生器，所述槽体的侧壁上端分别设置有挡板，所述挡板的边缘设置有梯形凸起，所述相邻梯形凸起之间为凹面梯形齿。本专利技术一个较佳实施例中，均匀清洗装置进一步包括所述挡板上的凹面梯形齿设置在同一个平面上。本专利技术一个较佳实施例中，均匀清洗装置进一步包括所述相邻梯形凸起、相邻凹面梯形齿的形状相同。本专利技术解决了
技术介绍
中存在的缺陷，本专利技术通过打磨机将挡板上的尖角打磨成凹面梯形齿，使得水流的地方平整，水流带动杂质从水槽的四周溢出，快速且均匀的去除了水中的杂质，保证镜片的清洗质量。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明。图I是本专利技术的优选实施例的结构示意 图中1、槽体，2、超声波发生器，3、挡板，4、梯形凸起，5、凹面梯形齿。具体实施例方式现在结合附图和实施例对本专利技术作进一步详细的说明，这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本专利技术的基本结构，因此其仅显示与本专利技术有关的构成。如图I所示，一种均匀清洗装置，包括槽体I，所述槽体I的下端设置有超声波发生器2，通过振动带动槽体I内的水不断地冲击镜片表面，使镜片上的杂质快速地剥落，清洗效果好，而且速度快，对镜片表面无损伤，达到很好的清洗效果。本专利技术优选所述槽体I的侧壁上端分别设置有挡板3，所述挡板3的边缘设置有梯形凸起4，所述相邻梯形凸起4之间为凹面梯形齿5，并且所述挡板3上的凹面梯形齿5设置在同一个平面上，所述相邻梯形凸起4、相邻凹面梯形齿5的形状相同。水流的地方平整，水流带动杂质从水槽的四周溢出，快速且均匀的去除了水中的杂质，保证镜片的清洗质量，提闻了镜片的良品率。以上依据本专利技术的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关人员完全可以 在不偏离本项专利技术技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项专利技术的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定技术性范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种均匀清洗装置，包括槽体，所述槽体的下端设置有超声波发生器，其特征在于：所述槽体的侧壁上端分别设置有挡板，所述挡板的边缘设置有梯形凸起，所述相邻梯形凸起之间为凹面梯形齿。

【技术特征摘要】
1.一种均匀清洗装置，包括槽体，所述槽体的下端设置有超声波发生器，其特征在于所述槽体的侧壁上端分别设置有挡板，所述挡板的边缘设置有梯形凸起，所述相邻梯形凸起之间为凹面梯形齿。2....

【专利技术属性】
技术研发人员：奂微微，
申请(专利权)人：苏州五方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：