夹持装置、组件和光刻投影设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种夹持装置、一种组件和一种光刻投影设备。所述夹持装置被构造和布置用于将两个部件夹持在一起。所述夹持装置具有：对准器，构造和布置用于将两个部件相对于彼此设置在对准位置；夹持器，构造和布置用于将两个部件保持在对准位置；分离器，构造和布置用于引导两个部件离开对准位置至分离位置；以及致动器，构造和布置用于将电流转化成动能。

【技术实现步骤摘要】
夹持装置、组件和光刻投影设备
本专利技术涉及一种夹持装置、包括这种夹持装置的组件以及包括这种组件的光刻投影设备。
技术介绍
光刻投影设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。光刻投影设备可用于例如集成电路（IC）制造过程中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底（例如，硅晶片）上的目标部分（例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯）上。通常，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料（抗蚀剂）层上而实现图案的转移。通常，单个衬底将包括相邻目标部分的网络，所述相邻目标部分被连续地图案化。光刻技术被广泛地看作制造IC和其他器件和/或结构的关键步骤之一。然而，随着通过使用光刻技术制造的特征的尺寸变得越来越小，光刻技术正变成允许制造微型IC或其他器件和/或结构的更加关键的因素。图案印刷的极限的理论估计可以由用于分辨率的瑞利法则给出，如等式（1）所示：其中λ是所用辐射的波长，NA是用以印刷图案的投影系统的数值孔径，k1是依赖于工艺的调节因子，也称为瑞利常数，CD是印刷的特征的特征尺寸（或临界尺寸）。由等式（1）知道，特征的最小可印刷尺寸的减小可以由三种途径实现：通过缩短曝光波长λ、通过增大数值孔径NA或通过减小k1的值。为了缩短曝光波长，并因此减小最小可印刷尺寸，已经提出使用极紫外（EUV）辐射。EUV辐射是波长在5-20nm范围内的电磁辐射，例如在13-14nm范围内。进一步地，已经提出，可以使用波长小于10nm的EUV辐射，例如波长在5-10nm范围内，诸如6.7nm或6.8nm。这种辐射称为极紫外辐射或者软x射线辐射。可用的源包括例如激光产生的等离子体源、放电等离子体源或基于由电子存储环提供的同步加速器辐射的源。可以通过使用等离子体产生EUV辐射。构造用于产生EUV辐射的辐射系统可以包括用于激发燃料以提供等离子体的激光器以及用于容纳等离子体的源收集器设备。等离子体可以例如通过引导激光束至燃料来产生，燃料是例如合适材料（例如锡）的颗粒，或合适气体或蒸汽的流，例如氙（Xe）气或锂（Li）蒸汽。最终的等离子体发射辐射，例如EUV辐射，其通过使用辐射收集器收集。辐射收集器可以是正入射辐射收集器，其接收辐射并将辐射聚焦成束。源收集器设备可以包括包围结构或腔，布置成提供真空环境以支持等离子体。这种辐射系统通常称为激光产生等离子体（LPP）源。可选地，可以通过在例如阴极和阳极之间的电场中喷射燃料液体液滴来生成等离子体。当液滴在预定位置处时，它被激光碰撞并且被蒸发。然后，在阴极和阳极之间发生放电，产生发射EUV辐射的等离子体。通常，构造用于产生EUV辐射的辐射系统与光刻投影设备分开制造。这意味着，在光刻投影设备能够使用之前，需要对准和连接辐射系统和光刻投影设备。需要大量的空间和电子装置来手动地彼此对准辐射系统与光刻投影设备以及相互连接辐射系统和光刻投影设备。由于辐射系统和/或光刻投影设备的其他部件的存在，因此可能不能获得这样的空间。
技术实现思路
期望限制对准和连接辐射系统和光刻投影设备所涉及的电子装置的数量。本专利技术一方面提供一种夹持装置，构造和布置用于将两个部件夹持在一起，所述夹持装置包括：对准机构或对准器，构造和布置用于将两个部件相对于彼此设置在对准位置；夹持机构或夹持器，构造和布置用于将两个部件保持在对准位置；分离机构或者分离器，构造和布置成引导两个部件离开对准位置至分离位置；以及致动器，构造和布置用于将电流转化成动能，其中所述对准机构（对准器）、夹持机构（夹持器）以及分离机构（分离器）被构造和布置成被致动器驱动。本专利技术的还一方面提供一种夹持装置，构造和布置用于将两个部件夹持在一起，所述夹持装置包括：对准机构或对准器，构造和布置用于将两个部件相对于彼此设置在对准位置；夹持机构或夹持器，构造和布置用于将两个部件保持在对准位置；分离机构或者分离器，构造和布置成与夹持机构一起操作将两个部件引导离开对准位置至分离位置；以及致动器，构造和布置用于将电流转化成动能，其中所述对准机构（对准器）、夹持机构（夹持器）以及分离机构（分离器）被构造和布置成被致动器驱动。所述夹持装置可以包含在一组件中，所述组件包括照射系统和辐射源，其中所述夹持装置被构造和布置用于将照射系统和辐射源夹持在一起。所述组件可以包含在一光刻投影设备中。附图说明现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本专利技术的实施例，其中，在附图中相应的附图标记表示相应的部件，且其中：图1示出根据本专利技术一个实施例的光刻投影设备；图2是图1中的设备的更详细的视图；图3是图1中的设备的源收集器设备的实施例的更详细的视图；图4是夹持装置的实施例的透视图；图5是图4中的夹持装置的俯视图；图6是图4中的夹持装置的侧视图；图7是图4-6中的夹持装置的变更实施方式的透视图；图8是图7中的夹持装置的侧视图；图9是图4-6中的夹持装置的另一变更实施方式的透视图；以及图10是图9中的夹持装置的侧视图。具体实施方式图1示意地示出了根据本专利技术一个实施例的包括源收集器设备SO的光刻投影设备100。所述光刻投影设备包括：照射系统（照射器）IL，其配置成调节辐射束B（例如EUV辐射）；支撑结构（例如掩模台）MT，其构造用于支撑图案形成装置（例如掩模或掩模版）MA，并与配置用于精确地定位图案形成装置的第一定位装置PM相连；衬底台（例如晶片台）WT，其构造用于保持衬底（例如涂覆有抗蚀剂的晶片）W，并与配置用于精确地定位衬底的第二定位装置PW相连；和投影系统（例如反射式投影系统）PS，其配置成用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C（例如包括一根或多根管芯）上。照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。所述支撑结构MT以依赖于图案形成装置的方向、光刻投影设备的设计以及诸如例如图案形成装置是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置MA。所述支撑结构可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术保持图案形成装置。所述支撑结构可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述支撑结构可以确保图案形成装置位于所需的位置上（例如相对于投影系统）。术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。被赋予辐射束的图案可以与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。图案形成装置可以是透射式或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示（LCD）面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同的方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。与照射系统类似，投影系统可以包括多种类型的光学部件本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种夹持装置，构造和布置用于将两个部件夹持在一起，所述夹持装置包括：对准器，构造和布置用于将所述两个部件相对于彼此设置在对准位置；夹持器，构造和布置用于将所述两个部件保持在对准位置；分离器，构造和布置用于引导所述两个部件离开对准位置至分离位置；以及致动器，构造和布置用于将电流转化成动能，其中所述对准器、夹持器以及分离器被构造和布置成被致动器驱动。

【技术特征摘要】
2011.06.15 US 61/497,3481.一种夹持装置，构造和布置用于将照射系统和辐射源夹持在一起，所述夹持装置包括：对准器，构造和布置用于将所述照射系统和辐射源相对于彼此设置在对准位置；夹持器，构造和布置用于将所述照射系统和辐射源保持在对准位置；分离器，构造和布置用于引导所述照射系统和辐射源离开对准位置至分离位置；以及致动器，构造和布置用于将电流转化成动能，其中所述对准器、夹持器以及分离器被构造和布置成被致动器驱动。2.根据权利要求1所述的夹持装置，其中，所述夹持装置被构造成被固定至所述照射系统和辐射源中的一个，其中所述对准器包括可转动构件，其中所述致动器被构造和布置用于转动可转动构件，所述可转动构件设置有凸起或者边缘，以与照射系统和辐射源中的另一个的凹陷协同操作，从而通过可转动构件的转动使照射系统和辐射源处于对准位置，或者所述可转动构件设置有凹陷，以与照射系统和辐射源中的另一个的凸起协同操作，从而通过可转动构件的转动使照射系统和辐射源处于对准位置。3.根据权利要求2所述的夹持装置，其中，所述凹陷是凹槽。4.根据权利要求3所述的夹持装置，其中，所述凹槽是V形凹槽。5.根据权利要求1所述的夹持装置，其中，所述夹持器包括能够偏心地转动的可转动装置，所述致动器被构造和布置用于通过使可转动装置转动至夹持位置而使照射系统和辐射源彼此压靠。6.根据权利要求5所述的夹持装置，其中，所述可转动装置包括圆柱形构件。7.根据权利要求6所述的夹持装置，其中，所述可转动装置设置有圆柱形外壳，所述外壳能够相对于圆柱形构件转动。8.根据权利要求7所述的夹持装置，其中，所述可转动装置包括在圆柱形构件与圆柱形外壳之间的轴承。9.根据权利要求8所述的夹持装置，其中，所述轴承是滚柱轴承。10.根据权利要求5-9中任一项所述的夹持装置，其中，所述夹持器被构造和布置成被固定至照射系统和辐射源中的一个，其中所述对准器包括可转动构件，其中所述致动器被构造和布置用于转动可转动构件，所述可转动构件设置有凸起，以与照射系统和辐射源中的另一个的凹陷协同操作，从而通过可转动构件的转动使照射系统和辐射源处于对准位置中，或者所述可转动构件设置有凹陷，以与照射系统和辐射源中的另一个的凸起协同操作，从而通过可转动构件的转动使照射系统和辐射源处于对准位置中，并且其中所述可转动构件设置有运载装置，所述运载装置被构造和布置用于将可转动装置运载至夹持位置。11.根据权利要求10所述的夹持装置，其中，所述可转动装置耦接至凸轮，所述凸轮被布置用于转动可转动装置，并且其中所述运载装置是凹陷，所述凹陷被...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·W·费尔特曼，M·K·J·伯恩，D·J·M·保卢森，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：