一种彩色滤光片基板制造技术

本发明专利技术提供一种彩色滤光片基板，该彩色滤光片基板能够在满足高解析度高色彩饱和度的情况下有效减小斜向色偏现象。该彩色滤光片基板上有复数彩色光阻，相邻彩色光阻彼此接触，该复数彩色光阻均设计为一弧面造型，即其上表面为一弧形，黑色矩阵位于相邻的彩色光阻之间并覆盖部分的彩色光阻，且位于彩色光阻边缘部之上。制作该彩色滤光片基板时，首先在基板上形成复数彩色光阻，然后在彩色光阻之间且在彩色光阻边缘部之上形成黑色矩阵，随后，再在彩色光阻和黑色矩阵上形成一平坦层。

【技术实现步骤摘要】
一种彩色滤光片基板
本专利技术涉及ー种彩色滤光片基板，特别涉及一种在满足高解析度高色彩饱和度情况下能够有效减小斜向色偏现象的薄型彩色滤光片基板。背景技木彩色滤光片基板广泛应用于显示装置中，在一般的彩色滤光片基板的制程中，首先是在基板上设置黑色矩阵，再在黒色矩阵和基板上设置复数彩色光阻，然后在彩色光阻上层设置一平坦层。其中，彩色光阻有三种，可以分别透过三种不同顔色的光线，如红、緑、蓝光等。其中，黒色矩阵位于相邻的彩色光阻之间，主要起阻挡杂光，防止混色等作用。如图I所示，为先前技术中ー种彩色滤光片基板100的剖视图。先前技术中，黑色 矩阵120位于基板110之上；彩色光阻130,包括第一彩色光阻131、第二彩色光阻132以及第三彩色光阻133，位于黑色矩阵120之间，且位于基板110和黒色矩阵120之上；平坦层140位于彩色光阻130的上方。在依次形成第一彩色光阻131、第二彩色光阻132以及第三彩色光阻133吋，如果彩色光阻130在黒色矩阵120上方有爬坡现象，即相邻的彩色光阻131在黑色矩阵120上方会形成一部分的重叠凸出部134，该重叠凸出部134是ー个凸起，会造成后续形成的平坦层140的平坦度不足，使为达到一定的平坦度而需増大平坦层140的厚度。同时，如图I所示的彩色滤光片基板，容易产生斜向色偏的问题。图2所示为先前技术中彩色滤光片基板产生斜向色偏现象的原理图。由于在先前技术中，黒色矩阵120位于基板110之上，彩色光阻130位于黑色矩阵120之间，且位于基板110和黒色矩阵120之上。彩色光阻130上表面除掉重叠凸出部134之后的中间部分135是平坦的，即该中间部分135是平行于该彩色光阻130与基板110的界面的。当观察者透过该彩色滤光片基板100观察从彩色光阻130透过来的光，正视(视线垂直于基板110)和斜视(视线与基板110成一定的角度，如大于0°且小于90° )显示器时，从显示器中透出来的光线经过彩色光阻130时的光程是不一样的,斜视时光线的光程一般要大于正视时光线的光程,即观察者正视和斜视显示器时，会产生光程差，从而产生斜向色偏现象。目前可以通过増加彩色光阻膜厚的方法来提高显示面板的色彩饱和度，但是彩色光阻的膜厚越大，也越易出现斜向色偏现象。如此ー来，纵使彩色光阻的高膜厚能够提高色彩饱和度，仍然不能对彩色光阻进行高膜厚的设计。
技术实现思路
本专利技术提供ー种彩色滤光片基板，该彩色滤光片基板能够在满足高解析度和高色彩饱和度的情况下减小斜向色偏的问题。本专利技术中提供ー种彩色滤光片基板，所述彩色滤光片基板包含复数彩色光阻位于基板上，该复数彩色光阻均具有一弧面造型；一黒色矩阵位于相邻的彩色光阻之间且位于彩色光阻边缘部之上；一平坦层位于所述彩色光阻和所述黑色矩阵之上。根据本专利技术，复数彩色光阻首先形成在基板上，该彩色光阻具有一弧面造型，该彩色光阻的下表面与所述基板贴合，该彩色光阻的上表面为ー弧形，即该彩色光阻的上表面之弧形为上凸的弧形，该彩色光阻具有ー边缘部，且相邻的彩色光阻相互接触，在相邻的彩色光阻之间有ー凹陷部分，而黑色矩阵位于相邻彩色光阻之间的凹陷部分并覆盖部分彩色光阻即黑色矩阵位于彩色光阻所述边缘部之上，如此，相邻彩色光阻因边缘部重叠而产生的凸起会在形成黒色矩阵之后被黒色矩阵所覆盖，而不会直接影响到后续平坦层的平坦度，也就是说，可以在保证平坦层具有较好平坦度的情况下减小平坦层的厚度，从而形成较薄的彩色滤光片基板。根据本专利技术，彩色光阻具有一弧面造型，该彩色光阻的上表面为ー弧形，即该彩色光阻的上表面之弧形为上凸的弧形，该彩色光阻上表面的曲率半径较小，该彩色光阻上表面的曲率半径小于该彩色光阻下表面的长度，即使该彩色光阻上表面的曲率中心位于该彩色光阻的下表面附近，最佳的，该彩色光阻上表面的曲率中心正好位于彩色光阻下表面处，如此，观察者在正视和斜视显示器时，从彩色滤光片基板透过来的光经过彩色光阻时的路程相近或相同即光经过彩色光阻时的光程相近或相同，可以减小斜向色偏或消除斜向色偏。 根据本专利技术，由于该彩色光阻具有一弧面造型，该彩色光阻的上表面为ー弧形，可以适当增加该彩色光阻的厚度来提高该彩色光阻的色彩饱和度。同吋，由于该彩色光阻具有一弧面造型，黒色矩阵位于相邻彩色光阻之间的凹陷部分且位于彩色光阻边缘部之上，即黑色矩阵是依着彩色光阻的边缘部而设置的，如此便可以在保证可视范围的情况下，有效的节省空间并制作尺寸较小数量更多的彩色光阻，从而制作达到满足高解析度要求的彩色滤光片基板。本专利技术提供一种制造彩色滤光片基板的方法，首先提供一基板，在该基板上形成第一色阻材料；在第一色阻材料的上方设置一光罩；透过光罩对第一色阻材料进行曝光，采用的曝光方式为弱曝光；对第一色阻材料进行蚀刻；蚀刻完成后，从而形成第一彩色光阻，该第一彩色光阻具有一弧面造型；随后，依次在基板上形成第二彩色光阻和第三彩色光阻，如此，在整个基板上形成复数彩色光阻，该复数彩色光阻均具有一弧面造型，该彩色光阻的上表面为ー弧形，该上表面的曲率半径较小，该彩色光阻上表面之弧形的曲率半径小于该彩色光阻下表面的长度，即该彩色光阻上表面的曲率中心位于该彩色光阻下表面附近，最佳的，该彩色光阻上表面的曲率中心正好位于彩色光阻下表面处，且相邻的彩色光阻相互接触，相邻的彩色光阻之间会形成ー凹陷部分；然后在彩色光阻上形成黒色矩阵，黒色矩阵位于相邻彩色光阻之间的凹陷部分并覆盖部分的彩色光阻，且位于彩色光阻边缘部之上；最后在彩色光阻和黒色矩阵上方形成一平坦层。一种制造如上所述彩色滤光片基板的方法为采用色阻材料制作彩色光阻，当为满足高色彩饱和度的要求而增加彩色光阻的膜厚时，彩色光阻的光透过率便会下降，为了解决高色彩饱和度下彩色光阻光透过率下降问题，采用色彩分子(paste分子)较小的色阻材料。一种制造如上所述彩色滤光片基板的方法为采用色阻材料制作彩色光阻，该色阻材料为感光度较低的色阻材料。一种制造如上所述彩色滤光片基板的方法为在色阻材料的上方设置一具有开ロ部分和遮光部分的光罩，降低曝光光強度，对色阻材料进行弱曝光。该色阻材料的感光度较低，该色阻材料的充分感光部分在后续的蚀刻过程中被保留下来，未感光部分在蚀刻过程中被蚀刻掉，弱感光部分在蚀刻过程中被部分蚀刻掉同时部分保留下来。附图说明图I为先前技术中彩色滤光片基板的剖视图。图2为先前技术中彩色滤光片基板产生斜向色偏现象的原理图。图3为本专利技术中彩色滤光片基板的剖视图。图4a，4b为单个彩色光阻的具体形状剖视图。图5，6a，6b为本专利技术中彩色滤光片基板改善斜向色偏现象的原理图。图疒图10为本专利技术中制造彩色滤光片基板的流程图。 图11为本专利技术中制作彩色光阻的曝光过程并实现彩色光阻弧面造型的原理图。具体实施方式图3为本专利技术中彩色滤光片基板的剖视图。如图3所示，本专利技术中彩色滤光片基板200包含一基板210，其中，所述基板210由可透光材料制作而成；一彩色光阻230，其设置于基板210上，其中，该彩色光阻230为ー弧面造型，其下表面202与基板210相接触，其上表面201为ー弧形，该彩色光阻230具有一边缘部204，且相邻的彩色光阻230相互接触，在相邻的彩色光阻230之间形成有ー凹陷部分203 ;—黒色矩阵220，其设置于两相邻彩色光阻本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光片基板包含：一基板；复数彩色光阻，其位于该基板上且包括一上表面及一下表面，该下表面与该基板相接触，该上表面为一弧形，即该复数彩色光阻具有一弧面造型，该彩色光阻具有一边缘部，且相邻的彩色光阻相互接触；一黑色矩阵，位于相邻该彩色光阻之间且位于彩色光阻的边缘部之上；以及一平坦层，位于该彩色光阻和该黑色矩阵之上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黃柏強，平旻杰，
申请(专利权)人：深超光电深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：