本实用新型专利技术公开了一种减少托盘斜面积砂，防止托盘砂液泄漏的研磨抛光机托盘，其特征是所述托盘(2)的表面为斜面(1)，其高度从圆心至圆周逐渐由高到低，斜面(1)的倾斜角度为8°～15°，斜面(1)上均布有10个～15个导流脚(7)，所述导流脚(7)的形状为类似弧形叶轮的圆弧叶片，圆弧叶片的切向方向与托盘(2)的旋转方向同向，本实用新型专利技术结构简单，采用挡液罩和防尘圈，防止了砂液的泄漏，延长了机器的使用寿命，同时，减小了托盘的斜面坡度，降低整机高度和重心高度，增强机器的刚性和稳定性，降低成本。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种研磨抛光机，具体地说是一种研磨抛光机托盘。技术背景目前，研磨抛光机特别是游星式研磨抛光机在研磨或抛光过程中，需向被加工工件的加工面供应研磨液。工作中研磨抛光盘的托盘斜面上容易积砂，容易导致托盘砂液泄漏，严重时砂液会漏入托盘轴与太阳轮轴内部，造成托盘轴与太阳轮轴内的轴承损坏，使整机无法正常工作。为防止砂液泄漏，托盘常用30°以上的大斜面坡度和直面导流脚的结构，即增大托盘的排液坡度，利用砂液的重力进行排液，而在正常工作时，托盘以15r/min 50r/min的速度旋转，砂液排液存在离心力的作用，直面导流脚阻碍了砂液的排出，所以增大斜面坡度能改善因重力作用的排液，但不能从根本上解决问题，时间长了仍然会出现漏砂现象。此外，增大斜面坡度将增加整机高度，并附带出现以下三个弊端一是高度增加不便于人工操作；二是机器的重心偏高，使得整机刚性和稳定性相对降低；三是相应的轴等机加工件需要加长，增加了成本和加工难度。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种减少托盘斜面积砂，防止托盘砂液泄漏的研磨抛光机托盘。本技术是采用如下技术方案实现其专利技术目的的，一种研磨抛光机托盘，所述托盘的表面为斜面，其高度从圆心至圆周逐渐由高到低，斜面的倾斜角度为8° 15°，斜面上均布有10个 15个导流脚，所述导流脚的形状为类似弧形叶轮的圆弧叶片，圆弧叶片的切向方向与托盘的旋转方向同向。本技术的托盘上设有挡液罩。本技术的挡液罩的高度为下研磨盘厚度的2倍以上。本技术的挡液罩上设有防尘圈。由于采用上述技术方案，本技术较好的实现了专利技术目的，其结构简单，采用挡液罩和防尘圈，防止了砂液的泄漏，延长了机器的使用寿命，同时，减小了托盘的斜面坡度，降低整机高度和重心高度，增强机器的刚性和稳定性，降低成本。附图说明图I是本技术的结构示意图；图2是图I的俯视图；图3是本技术的立体图；图4是本技术的工作状态示意图。具体实施方式以下结合附图及实施例对本技术作进一步说明。由图I、图2、图3可知，一种研磨抛光机托盘，所述托盘2的表面为斜面I,其高度从圆心至圆周逐渐由高到低，斜面I的倾斜角度为8° 15° (本实施例为9°，如图4所示，斜面2的倾斜角度α为9° )，斜面I上均布有10个 15个导流脚7 (本实施例为12个)，所述导流脚7的形状为类似弧形叶轮的圆弧叶片，圆弧叶片的切向方向与托盘2的旋转方向同向。本技术为阻挡砂液进入托盘轴与太阳轮轴内部，托盘2上设有挡液罩5。所述挡液罩5的高度为下研磨盘6厚度的2倍以上(本实施例为2. I倍)。本技术为使砂液不能爬过挡液罩5进入托盘轴与太阳轮轴内部，挡液罩5上设有防尘圈4。由图4可知，本技术托盘2与托盘轴3固连，下研磨盘6、挡液罩5固连在托盘2上，防尘圈4装在挡液罩5外圈上。 工作时，托盘2在沿运转方向A向转动时，砂液沿托盘2的导流脚7边缘B向流下(如图2所示)。由于导流脚7的边缘为圆弧状，在离心力的作用下，砂液能顺畅的沿托盘2的斜面I流下。本技术主要由挡液罩5阻挡砂液，防尘圈4起到辅助密封保护的作用。权利要求1.一种研磨抛光机托盘，其特征是所述托盘(2)的表面为斜面(I)，其高度从圆心至圆周逐渐由高到低，斜面(I)的倾斜角度为8° 15°，斜面(I)上均布有10个 15个导流脚(7)，所述导流脚(7)的形状为类似弧形叶轮的圆弧叶片，圆弧叶片的切向方向与托盘(2)的旋转方向同向。2.根据权利要求I所述的研磨抛光机托盘，其特征是托盘(2)上设有挡液罩(5)。3.根据权利要求2所述的研磨抛光机托盘，其特征是挡液罩(5)的高度为下研磨盘(6)厚度的2倍以上。4.根据权利要求2或3所述的研磨抛光机托盘，其特征是挡液罩(5)上设有防尘圈⑷。专利摘要本技术公开了一种减少托盘斜面积砂，防止托盘砂液泄漏的研磨抛光机托盘，其特征是所述托盘(2)的表面为斜面(1)，其高度从圆心至圆周逐渐由高到低，斜面(1)的倾斜角度为8°～15°，斜面(1)上均布有10个～15个导流脚(7)，所述导流脚(7)的形状为类似弧形叶轮的圆弧叶片，圆弧叶片的切向方向与托盘(2)的旋转方向同向，本技术结构简单，采用挡液罩和防尘圈，防止了砂液的泄漏，延长了机器的使用寿命，同时，减小了托盘的斜面坡度，降低整机高度和重心高度，增强机器的刚性和稳定性，降低成本。文档编号B24B37/34GK202592206SQ20122024312公开日2012年12月12日 申请日期2012年5月28日 优先权日2012年5月28日专利技术者杨宇红, 蒋罗雄, 刘宏 申请人:湖南宇晶机器股份有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种研磨抛光机托盘，其特征是所述托盘(2)的表面为斜面(1)，其高度从圆心至圆周逐渐由高到低，斜面(1)的倾斜角度为8°～15°，斜面(1)上均布有10个～15个导流脚(7)，所述导流脚(7)的形状为类似弧形叶轮的圆弧叶片，圆弧叶片的切向方向与托盘(2)的旋转方向同向。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨宇红，蒋罗雄，刘宏，
申请(专利权)人：湖南宇晶机器股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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