新型的铜酞菁颜料及铜酞菁微粒的制造方法技术

本发明专利技术的课题为提供含有至少一种具有高分光特性、且为与α型不同的结晶型的铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料及上述铜酞菁微粒的制造方法。提供含有至少一种为与α型不同的结晶型、且在380～780nm中的吸收光谱为α型吸收光谱的形状的铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料及上述铜酞菁颜料的制造方法。另外，提供含有至少一种与α型及ε型的2种型不同的结晶型、且在380～780nm中的透射光谱中透射率达到最大的波长(λmax)低于478nm的铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料及上述铜酞菁微粒的制造方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及新型的酮酞菁颜料。
技术介绍
铜酞菁，为在涂料、喷墨油墨、滤色器、调色剂等广泛领域中使用的蓝色或青色的有机颜料。也可以合成位于分子结构的中心的铜元素被氢取代了的无金属酞菁、被其它的金属元素取代了的多种金属酞菁，不仅作为色料的着色力、发色力等的颜色特性优异，而且耐水性及耐热性、耐光性及耐气候性等的耐久性优异，因此在产业上铜酞菁的使用量最多。铜酞菁除作为如上所述的有机颜料、色料的使用之外，也应用于半导体、催化剂或传感器等中，因此认为即使今后也可以成为重要的材料。 铜酞菁具有α、β、Υ、ε、π、χ、σ、ρ等许多的结晶多形，可以说颜色特性、耐溶剂性等的物性根据结晶型而不同。但是，铜酞菁的颜色特性，不仅结晶型，而且其一次粒径的大小和使用时的凝聚的程度、即其分散粒径也产生大的影响，因此需要对于目标的结晶型的微粒的制造方法，至今为止报告有涉及结晶型的控制和微粒的制作的许多方法。例如作为制作β或ε型的铜酞菁的方法，报告有如专利文献I中记载那样的用特定的有机溶剂进行处理的溶剂法、如专利文献2中记载那样的在特定的溶剂中用珠粒、无机盐类进行处理的所谓溶剂研磨(y X >卜彡U >々'')法或溶剂盐研磨(^ X >卜乂卟卜” > 夕.')法。但是，在溶剂法中，结晶生长所引起的粒子的粗大化的抑制是困难的，在溶剂研磨、溶剂盐研磨法中，由于平行进行结晶生长和粉碎，因此如下问题不仅需要很大的能量，而且对铜酞菁颜料作用强的力，色调、透明性、分光特性、耐久性等作为颜料纳米粒子所期待的特性不能呈现这样的问题。另外，如专利文献3中所示，作为本申请申请人所提案的新型的铜酞菁，有以下的铜酞菁颜料以及其制造方法所述铜酞菁颜料含有结晶型为α型且在380 780nm中的透射光谱的透射率达到最大的波长(λ max)低于478nm的铜酞菁而成。专利文献3中所示的铜酞菁的透射特性优异，仅可透射特定的波长区域的光，另外其透射率也比以往高。进而，在吸收光谱特性中，与一般的铜酞菁相比，即使为相同颜料浓度的分散液其吸光度也高，因此可推测与迄今为止的铜酞菁颜料相比，着色力优异。但是，一般被称为亚稳定型的α型的结晶，在尝试在特定的有机溶剂、特别是芳香族系的有机溶剂中的使用情况下，存在结晶生长、不能发挥其颜色特性这样的问题，因此期望具有如专利文献3中所示那样的分光特性、且与α型不同的稳定型或亚稳定型的铜酞菁。现有技术文献专利文献专利文献I :特开2003-313456号公报专利文献2 :特开2007-332317号公报专利文献3 :国际公开第W02010/035861号小册子
技术实现思路
专利技术要解决的课题鉴于上述，本专利技术的课题在于提供含有至少一种为与α不同的结晶型、且在380 780nm中的吸收光谱为α型的吸收光谱形状的铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料及上述铜酞菁微粒的制造方法。进而，课题在于提供含有至少一种为与α型及ε型这2种型不同的结晶型、且在380 780nm中的透射光谱的透射率达到最大的波长(λ max)低于478nm的铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料及上述铜酞菁微粒的制造方法。用于解决课题的手段为了解决上述课题，本专利技术的第I方式为以下的铜酞菁颜料其含有至少一种为与α型不同的结晶型、且在380 780nm中的吸收光谱为α型的吸收光谱形状的铜酞菁微粒而成。本专利技术的第2方式为以下的铜酞菁颜料其含有至少一种为与α型不同的结晶型、且在380 780nm中的吸收光谱中、在600± 15nm及680± 15nm的区域具有峰的铜酞菁微粒而成。本专利技术的第3方式为本专利技术的第I或第2方式涉及的含有铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料，其特征在于，含有至少一种与上述α型不同的结晶型为β型、Y型及ε型的3种型中的任意的结晶型的铜酞菁微粒。本专利技术的第4方式为以下的铜酞菁颜料其含有至少一种为与α型及ε型的2种型不同的结晶型、且在380 780nm中的透射光谱的透射率达到最大的波长(Amax)低于478nm的铜酞菁而成。本专利技术的第5方式为本专利技术的第4方式涉及的含有铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料，其特征在于，含有至少一种为与上述的α型及ε型的2种型不同的结晶型为β型及Y型的2种型中的任意的结晶型的铜酞菁微粒。本专利技术的第6方式为本专利技术的第I 第5的任意的方式涉及的含有铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料，其特征在于，向可接近·分离、且相对地位移的处理用面之间供给被处理流动体，通过含有该被处理流动体的供给压力和施加于进行旋转的处理用面之间的压力的向接近方向的力与向分离方向的力的压力的平衡，将处理用面间的距离维持为微小间隔，使维持为该微小间隔的2个处理用面间作为被处理流动体的流路，由此被处理流动体形成薄膜流体，在该薄膜流体中以微粒的方式生成上述铜酞菁微粒。本专利技术的第7方式为本专利技术的第I 第6方式的任意的方式涉及的含有铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料，其特征在于，上述铜酞菁微粒的形状为大致球状。本专利技术的第8方式为本专利技术的第7方式涉及的含有铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料，其特征在于，上述铜酞菁微粒的体积平均粒径为I 600nm。本专利技术的第9方式为铜酞菁微粒的制造方法，其为生成本专利技术的第I 第8方式的任意方式涉及的铜酞菁微粒的方法，其特征在于，向可接近·分离、且相对地位移的处理用面之间供给被处理流动体，通过含有该被处理流动体的供给压力和施加于进行旋转的处理用面之间的压力的向接近方向的力与向分离方向的力的压力的平衡，将处理用面间的距离维持为微小间隔，将维持为该微小间隔的2个处理用面间作为被处理流动体的流路，由此被处理流动体形成薄膜流体，在该薄膜流体中进行上述铜酞菁微粒的析出。本专利技术的第10方式为本专利技术的第9方式涉及的铜酞菁微粒的制造方法，其特征在于，使用至少2种被处理流动体，其中至少一种被处理流动体为将铜酞菁溶解在溶剂中的铜酞菁溶液，上述以外的流体中至少一种被处理流动体为对于铜酞菁为不良溶剂的溶剂，上述铜酞菁溶液和相对于上述铜酞菁为不良溶剂的溶剂内，至少任一方的被处理流动体含有至少一种有机溶剂，在上述薄膜流体中混合上述的被处理流动体。本专利技术的第11方式为本专利技术的第9方式涉及的铜酞菁微粒的制造方法，其特征在于，使用第I、第2、第3的至少3种的被处理流动体，上述第I被处理流动体为将铜酞菁溶解在溶剂中的铜酞菁溶液，上述第2被处理流动体相对于铜酞菁为不良溶剂的溶剂，上述第3被处理流动体含有至少一种有机溶剂，在上述薄膜流体中混合上述全部的被处理流动体。本专利技术的第12方式为本专利技术的第10或第11方式涉及的铜酞菁微粒的制造方法，其特征在于，上述有机溶剂含有芳香族化合物溶剂、酮化合物溶剂、醚化合物溶剂、齒素化 合物溶剂中的至少一种。本专利技术的第13方式为本专利技术的第9方式涉及的铜酞菁微粒的制造方法，其特征在于，具备对上述的被处理流动体赋予压力的流体压力赋予机构、第I处理用部及相对于该第I处理用部可接近·分离的第2处理用部的至少两个处理用部、和使上述第I处理用部和第2处理用部相对地进行旋转的旋转驱动机构，在上述的各处理用部中相互对向的位置设有第I处理用面及第2处理用面的至少两个处理用面，上述的各处理用面构成上述被赋予了压力的被处理流动体流过的、被密封了的流路的一部分，上述第I处理用部和第2处理用部中，至少第2处理用部具备受压面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：前川昌辉，本田大介，榎村真一，
申请(专利权)人：M技术株式会社，
类型：
国别省市：