介质处理装置制造方法及图纸

技术编号:8074248 阅读:112 留言:0更新日期:2012-12-12 18:41
本发明专利技术提供一种能够高精度且廉价地对被处理介质进行至少两种处理的装置。绘图装置(20)包括:刀(1)和笔(2),其分别对沿预定方向输送的纸进行不同的处理;支承部(8),其设在隔着纸与刀(1)和笔(2)相对的位置上,用于对受刀(1)和笔(2)的处理的纸进行支承。刀(1)和笔(2)以分别位于与纸的输送方向相交叉的方向上的不同线上的方式配置。因而,另一个加工工具不受一个加工工具进行处理后的支承部(8)的状态的影响。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于对被处理介质进行多个处理的介质处理装置
技术介绍
作为对纸等薄片状的被处理介质进行绘图和切断等处理的介质处理装置,已知非专利文献I所示的切绘机AC-800 (武藤工业株式会社制造)和非专利文献2所示的切绘机CE-5000 (图技株式会社制造)。对于非专利文献I所述的切绘机AC-800,在与被设为支承部的橡胶辊相对的位置处设置笔和刀,一边使该橡胶辊与用于输送薄片的辊同步地进行旋转,一边进行绘图和切断。对于非专利文献2所述的切绘机CE-5000,使用由具有柔软性且易于进行刀的旋转和从动运动的起绒材料构成的构件作为支承部来进行笔和刀的处理。非专利文献I 力 7 f 4 > 夕'' 7。口 7 夕 AC-800”、、、网址 < http: //www. mutoh. co. jp/printer_plotter/ plotter/ac800/index, html>非专利文献2 力'y r ^ > 夕7。Π 7 夕 CE-5000,,、、、网址< http://www. graphtec. co. jp/site_cutting/gl/ce5000/spec, html >在上述非专利文献I和非专利文献2等的装置中,具有为了对被处理介质进行至少两种处理而将绘图工具或切削加工工具搭载到一个滑架上的结构。在上述介质处理装置中,一边输送被处理介质,一边使滑架在与该输送方向相交叉的方向上往返移动,将绘图工具或切削加工工具推压到被输送的被处理介质上,从而对被处理介质进行绘图和切断处理。此时,在与绘图工具或切削加工工具的各加工工具相对的位置上配置有支承部,支承部隔着被处理介质与各加工工具相接触,从而对上述处理进行支承。在仅配置有橡胶板作为绘图工具及切削加工工具的共用支承构件的情况下,由于刀的旋转和从动运动受到阻碍,因此由切割动作的卡挂、切割过程中的加工工具的跳刀等导致切割精度恶化,并使切割刀的耐久性降低。另外,利用笔在被刀划伤的橡胶辊上进行绘图,从而使绘图性能恶化。对于非专利文献I所述的切绘机,将橡胶辊用作各加工工具的支承部,使橡胶辊与被处理介质的输送辊同步地进行旋转,从而谋求改善刀的旋转和从动运动受到阻碍的问题。但是,在利用笔在被刀划伤的橡胶辊上进行绘图这点上与上述没有区别,因此使绘图性能恶化。另外,由于需要对被刀划伤的橡胶辊进行更换,从而还存在导致成本升高这样的问题。另外,对于非专利文献2所述的切绘机,由于使用具有柔软性的起绒材料作为支承部,因此容易进行刀的旋转和从动运动。但是,在使用了较薄的被处理介质的情况下等,存在有在绘图时产生开孔、不能顺畅地进行被处理介质的输送而产生卡纸等使绘图精度降低的问题
技术实现思路
这样,在以往的绘图和切断用的介质处理装置中,难以高精度地进行绘图和切断这两种处理,从而期望一种能够改善上述情况并高精度地进行绘图和切断这两种处理的装置。本专利技术是考虑了这些问题点而做成的,其目的在于提供一种对被处理介质进行至少两种处理且能够高精度地进行这两种处理的装置。为了解决上述问题,本专利技术的介质处理装置的特征在于,该介质处理装置包括第一处理部件和第二处理部件,其一边在与沿预定方向输送的介质的输送方向相交叉的方向上进行往复移动,一边分别对该介质进行不同的处理;支承部件,其设在隔着上述介质与上述第一处理部件和上述第二处理部件相对的位置上,用于对受上述第一处理部件和上述第二处理部件的处理的上述介质进行支承;上述第一处理部件和上述第二处理部件以分别位于与上述介质的输送方向相交叉的方向上的不同线上的方式配置。采用上述结构,第一处理部件和第二处理部件以分别位于与介质的输送方向相交叉的方向上的不同线上的方式错开配置。因而,在第一处理部件和第二处理部件分别在与介质的输送方向相交叉的方向上进行往复移动并且对介质进行处理时,该第一处理部件和第二处理部件不会在相同的线上通过。因此,能够在不受一个处理后的支承部件的表面状态影响的情况下进行另一个处理。由此,能够高精度地进行第一处理部件和第二处理部件这两者所进行的处理。另外,在本专利技术的介质处理装置中,上述支承部件还可以包括第一支承部,其设在隔着上述介质与上述第一处理部件相对的位置上;第二支承部,其设在隔着上述介质与上述第二处理部件相对的位置上。采用上述结构,由于作为第一处理部件的支承部件而设有第一支承部且作为第二处理部件的支承部件而设有第二支承部,因此,能够相对于第一处理部件和第二处理部件分别设置不同的支承部,能够通过选择适合于各处理的支承部件的材料来高精度地进行各处理。另外,由于选择适合于各处理的支承部件的材料,因此能够提高各处理部件的耐久性、支承部件自身的耐久性并降低上述部件的更换成本。另外,优选的是,在本专利技术的介质处理装置中,上述第一处理部件和上述第二处理部件中的一个处理部件用于在上述介质上进行绘图,另一个处理部件用于切断上述介质。采用上述结构,由于包括用于在介质上进行绘图的绘图部件与用于切断介质的切断部件这两者,并且这些部件以错开的方式被保持部件保持,因此,例如绘图部件的绘图处理不会受切断部件进行切断处理后的支承部件的表面状态的影响,因此,能够高精度地进行绘图处理和切断处理这两种处理。另外,优选的是,本专利技术的介质处理装置还包括保持部件,其用于保持上述第一处理部件和上述第二处理部件;上述保持部件以可切换地使上述第一处理部件和上述第二处理部件中的一个处理部件与上述介质的距离大于或小于另一个处理部件与上述介质的距离的方式对上述第一处理部件和上述第二处理部件进行保持。采用上述结构,在一并保持两种处理部件的状态下,能够使用于进行目标处理的一个处理部件靠近介质而进行处理。即,由于不必在每次处理中更换处理部件且不会为了切换处理部件而使装置停止,因此,能够缩短处理时间。并且,由于利用一个保持部件来改变各处理部件与介质之间的距离,因此,能够容易地进行各处理部件与介质之间的位置调 難iF. O另外,优选的是,在本专利技术的介质处理装置中,上述保持部件以使上述第一处理部件和上述第二处理部件之中的、对上述介质按压的按压力较大的一个处理部件更靠近上述保持部件的方式对上述处理部件进行保持。采用上述结构,例如在第二处理部件的对介质按压的按压力大于第一处理部件的对介质按压的按压力的情况下,使保持部件对第一处理部件和第二处理部件进行保持,使得从第一处理部件到保持部件的距离小于从第二处理部件到保持部件的距离。由此,能够对处理部件可靠地施加期望的按压力,并能够高精度地进行处理。本专利技术的介质处理装置包括第一处理部件和第二处理部件,其一边在与沿预定方向输送的介质的输送方向相交叉的方向上进行往复移动,一边分别对该介质进行不同的处理;支承部件,其设在隔着上述介质与上述第一处理部件和上述第二处理部件相对的位置上,用于对受上述第一处理部件和上述第二处理部件的处理的上述介质进行支承;由于上述第一处理部件和上述第二处理部件以分别位于与上述介质的输送方向相交叉的方向上的不同线上的方式配置,因此,另一个处理部件不会受到一个处理部件进行处理后的支承部件的表面状态的影响,能够高精度地进行上述两种处理。 附图说明图I是表示本专利技术的一实施方式的绘图装置的绘图头部分的示意图。本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种介质处理装置,其特征在于,该介质处理装置包括:第一处理部件和第二处理部件,其一边在与沿预定方向输送的介质的输送方向相交叉的方向上进行往复移动,一边分别对该介质进行不同的处理;支承部件,其设在隔着上述介质与上述第一处理部件和上述第二处理部件相对的位置上,用于对受上述第一处理部件和上述第二处理部件的处理的上述介质进行支承;上述第一处理部件和上述第二处理部件以分别位于与上述介质的输送方向相交叉的方向上的不同线上的方式配置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:关口孝久丸尾卓也
申请(专利权)人:株式会社御牧工程
类型:发明
国别省市:

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