可微调矫正区域的足弓矫正垫及其矫正方法技术

本发明专利技术是有关一种可微调矫正区域的足弓矫正垫及其矫正方法，主要提供一足弓主撑板及若干微调垫片，在该主撑板的底面，依需求布设有多数垫片定位部；凭借所述的这些微调垫片，针对使用者不同足弓区域的高弓变化情况，分别施在该主撑板的底部，以不同高度及数量的微调垫片的垫加组合，以达到简易且精确矫正足弓施压率的异常状态，且方便于日后渐进性矫正的调整。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，特别是指一种可对异常足弓进行精确微支撑，使产生精确矫正效果的足弓矫正垫设计，以及利用该矫正垫进行矫正的方法。
技术介绍
人类的足部必须有良好的肌力、柔软度和协调性，才能承受来自全身体重的压力，同时提供我们走路、跑步和跳跃等行进支撑，足部包含二十六块骨头，由复杂且致密的韧带和筋膜包围连结，而且整个足部就像拱形或弓形结构，具有良好的弹性。大体上，该足部具有三个重要的足弓，即内侧纵弓、外侧纵弓及横弓，主要在提供足部结构避震功能，使活动时富有弹性，是足部承重时减少伤害并延缓疲劳发生的重要结构。如图I与图2所示，以左足而言，该内侧纵弓91是由跟骨92、距骨93、舟状骨94、三块楔状骨95和三块内侧跖骨961 963所构成，整体骨架大致是以距骨93为基石，使具 有较佳的柔软度和较大的曲度，而有利于吸震。另外，该外侧纵弓97由跟骨92、骰骨98及第四、第五跖骨964、965所构成，而以骰骨98为基石，该外侧纵弓97较扁平且活动度不大，有利于支撑。该横弓99 一般指脚掌前五块妬骨961 965的基部所构成。此横弓99的前方就是所谓的跖弓(图未示)，跖弓只在不负重状态才会存在，当人体站立会使跖弓趋于扁平。五根足趾主要是在步行末期时做推蹬、抓持与顶挡的动作，对于人体的移动敏捷性有举足轻重的功效。而肌群及韧带则能协助人体平衡及稳定。然而，人类由于先天或后天的影响，足部的结构大致可分为如图5所示足弓使用率示意图中的超高足弓80、高足弓81、微高足弓82、一般正常足弓83、微平足弓84、平足弓85及超平足弓86 (即扁平足)等多种类型，其中的微平足弓84、平足弓85及超平足弓86等「扁平足」，主要由于韧带或肌腱先天性发育不良，舟状骨94向下移位，或发生骨折等情形，导致内侧纵弓91塌陷而形成，站立时，重量会集中在双脚的内侧部位，而且在行走间，上述的距骨93及舟状骨94旋转与下降幅度过大，将常态性使得其上方的胫骨901产生偏斜，日久即容易产生一些慢性并发症。因此，现今市面上用于矫正脚型的「矫正器」，大都是针对扁平足的足形，用于矫正内侧纵弓91的塌陷现象。请参图3与图4所示，以目前人体的足形而言，大多数的人在站立时，足部会呈「翻脚刀」，也即重量较集中在双脚的后跟外侧，造成跟骨92外斜、后足部外翻的现象，此将使得跟骨92的内侧与距骨93间的距离缩短，甚至会向上牵连使得胫骨901偏斜，而与股骨902内侧的间隙变小，因而容易导致内侧半月板903软骨磨损，或膝关节内侧磨损，引发退化性关节炎，甚至腰部长期受到不当力量压迫形成腰酸与长骨刺、或有阿基里斯氏肌腱炎等并发症。为此，乃有人研发出一种用于垫设在鞋内的足形矫正器，可导正扁平足和高弓足不正常的内、外翻脚刀的情况，其中之一是提供一种足形矫正垫，该矫正垫大致呈一曲形板，并包含一具有纵向弧度及横向弧度的顶面及底面。该顶面于纵、横方向弧度的交会处具有一支撑足部跖骨的顶凸部。使用时，该顶面能承托在使用者的足底，用以顶压迫使足底服贴该顶面，凭借的以本身自有的正常的足弓形状，来改善脚部的力学机制，令脚底部呈现出完美的正常踩踏脚型。该现有的足形矫正器更包含复数形成在底面上的方形凹槽，所述的这些凹槽是对应位在该顶面的顶凸部下方。当使用者踩踏时，该顶凸部会相对受到最大作用力，此时，即能凭借所述的这些凹槽所提供的挠性变形裕度，让该足形矫正器具有较佳的弹性及吸震力，在踩踏上较为舒适。然而，上述现有足形矫正器的凹槽，在设计上密度较小，影响到顶凸部左右支撑的均匀度，使得弹性支撑点较为松散，使用时易造成偏斜，影响足形矫正器应有的矫正功能。且其凹槽为方形设计，当受到使用者踩踏末期(即踩越阶段)向下且朝前的踏蹬力时，所述的这些凹槽容易遭到挤迫而扭曲变形，所能提供的支撑性不足，且在使用一段时间之后，会造成该足形矫正器的力学支撑弹性降低，影响使用的功能。再者，经本专利技术人实际观察前述所谓的「脚型矫正器」的使用情形，发现尽管对 于例如扁平足具有矫正功效，但在其使用前，尚必需以打磨机器对该脚型矫正器及边贴合片进行修磨，以使该矫正器的支撑高度，能确实符合个别使用人的足弓曲度变化，作业上相当麻烦且难以掌握磨修的精确度；而且，该修整好的矫正器在使用一段时间后，前述「翻脚刀」的情形将会有所改变，而需再一次进行渐进性的调节，届时该旧有的矫正器即通常因修改调整不易而加以弃置，致使整个足弓矫正疗程需多次重新订做矫正器，造成极大的浪费及使用者较大的费用负担。有鉴于此，本案即在提供一种能改善上述传统足弓矫正垫应用上的缺失，且应用上更为方便经济的足弓矫正垫结构及其使用方法。
技术实现思路
本专利技术的主要目的，是在于改善设计一足弓主撑板，使该主撑板的底面，依需求布设有多数垫片定位部，配合所述的这些垫片定位部，并设具有若干微调垫片，凭借所述的这些微调垫片，可针对使用者不同足弓区域的高弓变化情况，分别施予不同位置与数量的微调垫片的排列组合垫加，使能更精确且灵活地消除该足弓施压率异常的情况。本专利技术依前述所提供的足弓垫结构，由于用于垫加结合的微调垫片，可以随需求而简易拆装调变，因此，对矫正过程所需要的定期追踪与调整，提供了可行且方便的操作途径，更能进一步避免产生传统足弓垫的使用过程，需因应不同阶段多次重新订作的不便与浪费。本专利技术依前述所提供的足弓垫结构，其中的微调垫片，更可设成多种尺寸与规格(长短厚薄)，以方便不同高低调整需求的灵活运用。本专利技术依前述所提供的足弓垫结构，其中的微调垫片更具有一微倾斜断面，恰能符合足弓逐渐向内或向外翻转的通常型态，更方便于实际应用的操作。本专利技术依前述的足弓垫结构，适可依造一完美而简便的处理步骤，提供一精确的足弓矫正方法，使得足弓矫正的作业更为精确符合使用者的需求，且进一步缩短且方便再调或复制的时程，以达降低作业成本的目的。为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于其包括至少一足弓主撑板及至少一微调垫片，该主撑板为一弓形板，且其底部依需求布设有多个垫片定位部；该调微调垫片为扁薄片，其一侧设有能够与该垫片定位部相配合的相对定着部。其中所述的主撑板底部设有一中段弯弓区域，且该中段弯弓区域内的垫片定位部密度高于其他区域。其中所述的微调垫片的轮廓为多边形。其中所述的微调垫片的轮廓为弧周形。其中所述的垫片定位部与相对定着部是凹坑与凸柱型态的配合。其中所述的垫片定位部与相对定着部之间，是以易黏毡与相对易黏毡结合。其中所述的垫片定位部与相对定着部之间，是以易粘胶加以结合。 其中所述的微调垫片的断面是楔状。其中所述的微调垫片的断面是中间厚周边薄的凸片造型。为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案还包括—种足弓垫微调矫正区域的方法，其特征在于先以足底扫描机具得足压分记录及数据，在该记录及数据中取得足压空白区，然后，分别针对该足压空白区，在一足弓矫正垫的底部结合至少一微调垫片，以填补该足压空白区的支撑力。所述的微调垫片具有楔状断面。其中所述的微调垫片具有中间厚周边薄的断面。其中所述的微调垫片具有两种以上不同厚度。与现有技术相比较，本专利技术具有的有益效果是凭借所述的这些微调垫片，针对使用者不同足弓区域的高弓变化情况，分别施在该主撑板的底部，以不同高度及数量的微调垫片的垫加组合，以达到简易且精确矫正足弓本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于：其包括至少一足弓主撑板及至少一微调垫片，该主撑板为一弓形板，且其底部依需求布设有多个垫片定位部；该微调垫片为扁薄片，且其一侧设有能够与该垫片定位部相配合的相对定着部。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈升环，
申请(专利权)人：陈升环，
类型：发明
国别省市：