一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征为：由固定套管(1)、泵(2)、阀门(3)、真空室(4)、钯合金靶(5)、加热棒(11)、离子引出器(6)、光纤(7)、不锈钢管(8)、转轮(9)、电机(10)和底座(12)组成；光纤(7)从固定套管(1)穿入进入不锈钢针管(8)中，从不锈钢针管(8)穿出的光纤(7)缠绕在电机(10)上方的转轮(9)上，使钯合金钯(5)被加热棒加热并被蒸发，被蒸发钯合金离子可沉积在旋转的光纤(7)上，在光纤表面形成钯合金膜层，多余的靶合金离子被离子引出器(6)引出装置。该装置能自动、快速、直接和精确地在光纤侧面蒸镀均匀薄膜，具有广阔的市场前景。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，属于工业自动化领域。
技术介绍
离子溅射机是工业生产中重要的机器之一，特别是在信息化的今天，平面型玻璃表面蒸镀光学薄膜离不开离子溅射机。然而圆柱状光纤侧面也需要像平面型玻璃表面一样蒸镀光学薄膜从而应用于工业领域。本技术设计的真空离子溅射光纤镀钯合金装置将适用于光纤侧面镀膜，为光纤镀膜和生产创造了前所未有的便捷。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，光纤侧面如圆 柱状光纤侧面可以通过真空离子溅射装置蒸镀光学薄膜。真空离子溅射光纤镀钯合金装置具有自动、快捷、方便和均匀等特点。本技术通过以下技术方案来实现一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征在于由固定套管(I)、泵(2)、阀门(3)、真空室(4)、钯合金靶(5)、加热棒(11)、离子引出器(6)、光纤(7)、不锈钢管(8)、转轮(9)、电机(10)和底座(12)组成；光纤(7)从固定套管(I)穿入进入不锈钢针管(8)中，从不锈钢针管(8)穿出的光纤(7)缠绕在电机(10)上方的转轮(9)上，使钯合金钯(5)被加热棒加热并被蒸发，被蒸发钯合金离子可沉积在旋转的光纤(7)上，在光纤表面形成钯合金膜层，多余的靶合金离子被离子引出器(6)引出装置。所述的一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征在于固定套管(I)的长度变化范围为10-50cm ;电机转速为0-60rpm可调。所述的一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征在于被钯合金镀膜光纤的种类为单模光纤或者多模光纤或者光子晶体光纤。所述的的一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征在于光纤被镀膜的长度范围根据固定套管(I)的长度范围可调，镀膜长度范围为10cm-200cm。本技术的原理为在真空条件下，由固定套管⑴、泵(2)、阀门(3)、真空室(4)、钯合金靶(5)、加热棒(11)、离子引出器(6)、光纤(7)、不锈钢管(8)、转轮(9)、电机和底座(12)组成；光纤(7)从固定套管(I)穿入进入不锈钢针管(8)中，从不锈钢针管(8)穿出的光纤(7)缠绕在电机(10)上方的转轮(9)上，使钯合金钯(5)被加热棒加热并被蒸发，被蒸发钯合金离子可沉积在旋转的光纤(7)上，在光纤表面形成钯合金膜层，多余的靶合金离子被离子引出器(6)引出装置。本技术的有益效果是光纤侧面可以通过离子溅射镀膜蒸镀光学薄膜，具有精密、自动、均匀、快捷和方便等特点。附图说明图I为一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置示意图。具体实施方式如图I所示，一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征是由固定套管(I)、泵(2)、阀门(3)、真空室(4)、钯合金靶(5)、加热棒(11)、离子引出器(6)、光纤(7)、不锈钢管(8)、转轮(9)、电机(10)和底座(12)组成；光纤(7)从固定套管(I)穿入进入不锈钢针管(8)中，从不锈钢针管(8)穿出的光纤(7)缠绕在电机(10)上方的转轮(9)上，使钯合金钯(5)被加热棒加热并被蒸发，被蒸发钮合金离子可沉积在旋转的光纤(7)上,在光纤表面形成钯合金膜层，多余的靶合金离子被离子引出器(6)引出装置。光纤(7)从一固定套管(I)穿入进入一不锈钢针管(8)中，从不锈钢针管(8)穿 出的光纤(7)缠绕在电机轴(10)上方的转轮(9)上，转轮(9)带动光纤(7)与电机轴紧密配合且一起运转。电机转速为40rpm可调，同时可耐300°C高温，固定套管(I) 口径为5cm，固定套管(I)的长度为30cm，镀膜长度为100cm。在真空室(4)中，利用气体放电使钯合金靶(5)蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，使被蒸发物质及其反应产物沉积在旋转的光纤(7)上，同时利用离子引出器(6)将多余的离子排除容器外。权利要求1.一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征在于由固定套管(I)、泵(2)、阀门(3)、真空室(4)、钯合金靶(5)、加热棒(11)、离子引出器(6)、光纤(7)、不锈钢管(8)、转轮(9)、电机(10)和底座(12)组成；光纤(7)从固定套管(I)穿入进入不锈钢针管(8)中，从不锈钢针管(8)穿出的光纤(7)缠绕在电机(10)上方的转轮(9)上，使钯合金钯(5)被加热棒加热并被蒸发，被蒸发钯合金离子可沉积在旋转的光纤(7)上，在光纤表面形成钯合金膜层，多余的靶合金离子被离子引出器(6)引出装置。2.根据权利要求I所述的一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征在于固定套管(I)的长度变化范围为10-50cm;电机转速为0-60rpm可调。3.根据权利要求I所述的一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征在于被钯合金镀膜光纤的种类为单模光纤或者多模光纤或者光子晶体光纤。4.根据权利要求I所述的一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征在于光纤被镀膜的长度范围根据固定套管(I)的长度范围可调，镀膜长度范围为10cm-200cm。专利摘要一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征为由固定套管(1)、泵(2)、阀门(3)、真空室(4)、钯合金靶(5)、加热棒(11)、离子引出器(6)、光纤(7)、不锈钢管(8)、转轮(9)、电机(10)和底座(12)组成；光纤(7)从固定套管(1)穿入进入不锈钢针管(8)中，从不锈钢针管(8)穿出的光纤(7)缠绕在电机(10)上方的转轮(9)上，使钯合金钯(5)被加热棒加热并被蒸发，被蒸发钯合金离子可沉积在旋转的光纤(7)上，在光纤表面形成钯合金膜层，多余的靶合金离子被离子引出器(6)引出装置。该装置能自动、快速、直接和精确地在光纤侧面蒸镀均匀薄膜，具有广阔的市场前景。文档编号C23C14/34GK202576550SQ20122022061公开日2012年12月5日 申请日期2012年5月11日 优先权日2012年5月11日专利技术者刘洋, 沈常宇, 马启飞, 蒋婷婷, 钟川, 褚金雷, 邹新, 牟晟, 董新永, 李萍 申请人:中国计量学院本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种真空离子溅射光纤镀钯合金装置，其特征在于：由固定套管(1)、泵(2)、阀门(3)、真空室(4)、钯合金靶(5)、加热棒(11)、离子引出器(6)、光纤(7)、不锈钢管(8)、转轮(9)、电机(10)和底座(12)组成；光纤(7)从固定套管(1)穿入进入不锈钢针管(8)中，从不锈钢针管(8)穿出的光纤(7)缠绕在电机(10)上方的转轮(9)上，使钯合金钯(5)被加热棒加热并被蒸发，被蒸发钯合金离子可沉积在旋转的光纤(7)上，在光纤表面形成钯合金膜层，多余的靶合金离子被离子引出器(6)引出装置。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘洋，沈常宇，马启飞，蒋婷婷，钟川，褚金雷，邹新，牟晟，董新永，李萍，
申请(专利权)人：中国计量学院，
类型：实用新型
国别省市：
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