一种曝光机光罩，包含基板，在基板表面设有透光区及遮光区，并由该透光区形成曝光显影的图样；其中，上述遮光区进一步环绕透光区的外周侧而形成遮光框，且遮光框的边缘造型设计为无接缝连接的外型，进而使本实用新型专利技术的光罩可简单的以连续排列的方式重复对晶圆进行曝光，而让各个曝光影像片段在晶圆表面连接形成完整的线路影像。且利用环绕在曝光影像片段外围的遮光框作用，避免习用光罩在曝光区域边缘容易发生影像变形或无法对齐的现象。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术有关于一种用于蚀刻电路制程的曝光机光罩，特别指一种可避免光罩交界处图形曝光不佳的曝光机光罩。
技术介绍
一般在进行芯片加工时，为了能够在芯片基底上设置出细小而复杂的电路结构，会以各种物理或化学的方式重复对芯片表面进行堆积或蚀刻。而用来控制堆积或蚀刻区域的最主要手段便是利用曝光显影的方式，先在芯片表面设置具有微小电路图案的光阻层，利用光阻层将无需进行加工的部分遮蔽住，接着便能够精确的对所欲加工产生电路的区域进行堆积或是蚀刻。由此可知，曝光显影时的精确度将会大幅的影响到芯片成品的良率。而为了解决因为芯片上的图形线宽逐渐缩小所带来的曝光误差以及支撑问题，在 进行曝光显影时会使用许多较小的影像片段分别进行曝光，并以各个小影像区段共同拼接组合成为完整的曝光影像，藉由上述方法让各个影像片段都能够完美的对焦。然而由于整体影像是由多个不同的影像片段所组合而成，因此在影像片段与影像片段交界处的图形会产生图形与图形间的间隙不一，或是交界处图形扭曲的接合问题。为了解决图形接合的问题，在习用的技术中是由曝光机进行调整，借着逐渐调整曝光能量而使图形与图形交界处的线条能够正确的结合。然而，由于各曝光机皆有其调整的极限值，因此在进行小图形的曝光显影时仍然不容易达成正确的图形接合，使得图形与图形间的隔线异常明显，且接合处的图形也会变形。有鉴于上述曝光显影的缺点，实有必要对曝光机进行改进。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种使用于连续拼接曝光，并且可避免光罩交界处图形曝光不佳的曝光机光罩。为达上述目的，本技术包含一基板，在上述基板表面设有透光区及遮光区，并由所述透光区形成一用以连续排列曝光的曝光影像片段；且其中，上述遮光区进一步环绕上述曝光影像片段的外周侧而形成遮光框，而上述遮光框的边缘造型设为无接缝连接的外型。于一较佳实施例中，上述遮光框设有上边缘、下边缘、左边缘及右边缘,其中，上边缘与下边缘设为相对应连接的造型，而左边缘与右边缘设为相对应连接的造型。于一较佳实施例中，上述遮光框设为矩形、平行四边形、规则锯齿形或鱼鳞形的其中一种造型。本技术的特点在于包含一基板，在上述基板表面设有透光区及遮光区，并由所述透光区形成曝光显影的图样；其中，上述遮光区进一步环绕透光区的外周侧而形成遮光框，且遮光框的边缘造型设计为无接缝连接的外型，进而使本技术的光罩可简单的以连续排列的方式重复对晶圆进行曝光，而让各个曝光影像片段在晶圆表面连接形成完整的线路影像。且利用环绕在曝光影像片段外围的遮光框作用，避免习用光罩在曝光区域边缘容易发生影像变形或无法对齐的现象。附图说明图I是本技术的俯视图；图2A是本技术一较佳实施例的俯视图；图2B是本技术又一较佳实施例的俯视图；图3是本技术另一较佳实施例的俯视图；以及图4是以本技术的光罩进行连续排列曝光的示意图。主要组件符号说明·10基板20遮光区23下边缘11透光区21遮光框24左边缘12 曝光影像片段 22 上边缘25 右边缘具体实施方式为便于更进一步对本技术的构造、使用及其特征有更深一层明确、详实的认识与了解，现举出较佳实施例，配合图式详细说明如下现请参阅图1，于本图中所示为一种使用于连续拼接曝光的曝光机光罩，其包含一基板10，在所述基板10上设有透光区11以及遮光区20，并由所述透光区11形成一完整的曝光影像片段12，所述曝光影像片段12包含至少一个完整的线路图形单元，且其中，上述遮光区20进一步环绕上述曝光影像片段12的外周缘而形成遮光框21。藉此避免传统曝光显影时所发生，线路图形在曝光区域边缘相接而造成变形或歪斜。且上述遮光框21的造型配合光罩上的曝光影像片段12的形状设置，以减少所述遮光框21的框缘宽度。且遮光框21的外周缘设为无接缝连接的造型，使所述光罩可连续实行曝光显影，以无接缝的方式连续对晶圆表面的光阻层进行曝光而形成布满晶圆表面的完整线路图案。而为了方便曝光机进行连续曝光显影，所述遮光框21大致设为四边形的造型，并具有上边缘22，下边缘23，左边缘24及右边缘25，其中，上边缘22与下边缘23设为相对应连接的造型，而左边缘24与右边缘25设为相对应连接的造型。则当使用曝光机要进行连续曝光显影时，曝光机仅需沿着曝光机的步进方向移动便能够对整个晶圆表面进行曝光。在本图所示的较佳实施例中，在基板10上设有多数个以白色区块表示的透光区11，各个透光区11以一定角度倾斜排列而形成一个用以连续排列曝光的曝光影像片段12。在所述曝光影像片段12中的各个透光区11之间以一定距离区隔，在透光区11与透光区11之间则设为以网点区块表示的遮光区20。上述遮光区20向外延伸并由上述曝光影像片段12的外侧包围上述各个透光区11，进而在所述曝光影像片段12的边缘处形成一遮光框21。且为了增加在晶圆表面所能投影的线路数量，上述遮光框21的边缘造型配合上述透光区11的造型以及排列方式设置，以减少所述遮光框21的宽度。由于上述透光区11以一固定角度倾斜排列，因而形成近似于平行四边形的造型。故上述遮光框21的边缘造型亦配合而设为平行四边形，除了方便上述曝光影像区段进行连续拼接之外，亦使遮光框21的宽度缩小到最适宜的宽度。然而上述遮光框21的外型设置仅为方便举例说明之用，并非对遮光框21的外型加以限制。现请参阅图2A及图2B，于图2A中所示的一较佳实施例中，上述透光区11以矩形方式排列，因此上述遮光区20的边缘造型配合透光区11的排列方式而设为矩形。而在图2B所示的又一较佳实施例中，上述透光区11以弧线状重复排列，因此上述遮光区20的边缘造型以配合透光区11排列的方式而设置为上、下边缘22、23互相平行，而左、右边缘24、25呈现弧曲的鱼鳞形。藉以使各个曝光影像片段12能够连续相接排列，进而形成布满晶圆表面的完整线路图案。并且藉由环绕在曝光影像片段12外围的遮光框21作用，避免习用光罩在曝光区域边缘容易发生影像变形或无法对齐的现象。再请参阅图3，于本图所示的另一较佳实施例中，上述各个透光区11设为彼此左右交错的形式，因此上述遮光区20的左右两侧边缘造形便配合透光区11的排列方式而设置为上、下边缘22、23互相平行，而左、右边缘24、25呈现折线状的规则锯齿形。 再请参阅图4，如图中所示，在使用本技术进行蚀刻作业的曝光显影时，由于光罩上的遮光框21被设计成能够互相无缝连接的连续造型，用户可以简单的将光罩以连续排列的方式重复对晶圆进行曝光，使各个曝光影像片段12在晶圆表面连接形成完整的线路影像。综上所述，本技术包含一基板，在上述基板表面设有透光区及遮光区，并由所述透光区形成曝光显影的图样；其中，上述遮光区进一步环绕透光区的外周侧而形成遮光框，且遮光框的边缘造型设计为无接缝连接的外型，进而使本技术的光罩可简单的以连续排列的方式重复对晶圆进行曝光，而让各个曝光影像片段在晶圆表面连接形成完整的线路影像。且利用环绕在曝光影像片段外围的遮光框作用，避免习用光罩在曝光区域边缘容易发生影像变形或无法对齐的现象。以上所举实施例，仅用为方便说明本技术并非加以限制，在不离本技术精神范畴，熟悉此一行业技术人员依本技术申请专利范围及创作说明所作的各种简易变形与修饰，均仍应本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光机光罩，其特征在于：包含一基板，在上述基板表面设有透光区及遮光区，并由所述透光区形成一用以连续排列曝光的曝光影像片段；且其中，上述遮光区进一步环绕上述曝光影像片段的外周侧而形成遮光框，而上述遮光框的边缘造型设为无接缝连接的外型。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：何松濂，
申请(专利权)人：宏濂科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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