用于多晶硅生产中氢气再利用装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于多晶硅生产中氢气再利用装置，属于多晶硅生产设备技术领域，主要包括连接制氢站的第一氢气缓冲罐，所述第一氢气缓冲罐分别连接白炭黑氢气缓冲罐和还原炉；分别连接干法回收氢气加压分离净化装置和活性炭吸附塔的第二氢气缓冲罐，所述第二氢气缓冲罐连接所述还原炉；所述第二氢气缓冲罐与白炭黑氢气缓冲罐之间通过第一支路连通，所述第一支路上设有止回阀。本实用新型专利技术既能够满足还原炉氢气需要，又能够将多余的氢气充分利用，节省了资源，降低了生产成本，广泛应用于多晶硅的生产中。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及多晶硅生产设备
，尤其涉及一种用于多晶硅生产中氢气再利用装置。
技术介绍
目前多晶硅生产中，还原炉内在1000度以上的高温下三氯氢硅与循环氢气反应生成多晶硅沉积，因其反应比较复杂，副反应比较多，有报道称主要是三氯氢硅的分解反应，后期有二氯二氢硅的情况下，有氢气反应生成，同时在还原混合气循环量比较大，还原炉开炉比较多时，视孔氢气吹扫量较大，在实际生产中，混合气量达到3000标方/时以上时，系统有80—100标方/时的氢气产生,为稳定系统压力，减少氢气压力波动,如图I所示，传统的工艺制氢站I电解脱盐水生产的高纯氢气自还原炉4进入系统，对还原炉4的视孔进行吹扫，以防多晶硅生产过程中产生不定型硅阻塞系统，从而影响生产，为确保系统氢气压力稳定需要排放部分氢气，传统的工艺是在活性炭吸附塔6处接入废气残液吸收装置9，持续或间断排放；白炭黑的制备是使用制氢站I生产的氢气进入第一氢气缓冲罐2后，在燃烧喷嘴处和空气混合燃烧制备白炭黑，这样传统的生产工艺造成较大的氢气浪费。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种用于多晶硅生产中氢气再利用装置，既能够满足还原炉氢气需要，又能够将多余的氢气充分利用，节省了资源，降低了生产成本。为解决上述技术问题，本技术的技术方案是用于多晶硅生产中氢气再利用装置，包括连接制氢站的第一氢气缓冲罐，所述第一氢气缓冲罐分别连接白炭黑氢气缓冲罐和还原炉；分别连接干法回收氢气加压分离净化装置和活性炭吸附塔的第二氢气缓冲罐，所述第二氢气缓冲罐连接所述还原炉；所述第二氢气缓冲罐与白炭黑氢气缓冲罐之间通过第一支路连通，所述第一支路上设有止回阀。作为一种改进，所述第一支路上设有第一压力调节阀。作为一种改进，所述第一支路上设有连锁切断阀。作为另一种改进，所述第一氢气缓冲罐与第二氢气缓冲罐之间通过第二支路连通。作为进一步的改进，所述第二支路上设有第二压力调节阀。由于采用了上述技术方案，本技术的有益效果是由于第二氢气缓冲罐与白炭黑氢气缓冲罐之间通过第一支路单向连通，使得第二氢气缓冲罐中的氢气在满足还原炉视孔吹扫之后，还能够回收到白炭黑氢气缓冲罐中，而不是传统工艺中的直接排放，使得这部分氢气得到充分利用，节省了资源，降低了生产成本。由于第一氢气缓冲罐与第二氢气缓冲罐之间通过第二支路连通，使得系统内的压力得到有效控制，更好的平衡了制氢站、白炭黑缓冲罐与还原炉之间的氢气压力，同时也有效地避免了活性炭吸附塔负荷较大，氢气排放时易出现事故的问题。附图说明以下结合附图和实施例对本技术进一步说明。图I是传统的工艺原理图；图2是本技术实施例的工艺原理图；图中1、制氢站，2、第一氢气缓冲罐，3、白炭黑氢气缓冲罐，4、还原炉，5、干法回收氢气加压分离净化装置，6、活性炭吸附塔，7、第二氢气缓冲罐，8、气动调节阀，9、废气残夜吸收装置，10、氢气水封，11、阻火器，12、气动切断阀，13、连锁切断阀，14、第一压力调节阀，15、止回阀，16、第二压力调节阀。具体实施方式如图2所示，一种用于多晶硅生产中氢气再利用装置，包括连接制氢站I的第一氢 气缓冲罐2，所述第一氢气缓冲罐2分别连接白炭黑氢气缓冲罐3和还原炉4 ;分别连接干法回收氢气加压分离净化装置5和活性炭吸附塔6的第二氢气缓冲罐7，所述第二氢气缓冲罐7连接所述还原炉4 ;所述第二氢气缓冲罐7与白炭黑氢气缓冲罐3之间通过第一支路连通，所述第一支路上设有止回阀15、第一压力调节阀14和连锁切断阀13。所述第一氢气缓冲罐2与第二氢气缓冲罐7之间通过第二支路连通，所述第二支路上设有第二压力调节阀16。其生产工艺过程如下制氢站I电解脱盐水生产的高纯氢气进入第一氢气缓冲罐2收集，分两路进入白炭黑氢气缓冲罐3和还原炉4，干法回收氢气加压分离净化装置5和活性炭吸附塔6得到的氢气由第二氢气缓冲罐7收集，由还原炉4进入系统，对还原炉4视孔进行吹扫，并逐渐加大氢气吹扫量，以防多晶硅生产过程中，产生不定型硅阻塞系统，吹扫量以满足还原炉4后期生长不生成不定型硅所需为准，多余的氢气由第一支路进入白炭黑氢气缓冲罐3，以生产白炭黑，在第一支路上设有第一压力调节阀14和连锁切断阀13，以防氢气超压或超温，调整第二支路上的第二压力调节阀16，以平衡制氢站I、白炭黑缓冲罐与还原炉4之间的氢气压力，设定气动调节阀8压力连锁白炭黑氢气缓冲罐3压力，第一压力调节阀14的压力连锁白炭黑氢气缓冲罐3，第一压力调节阀14压力设定略低于气动调节阀8压力O. 02MPa,设定连锁切断阀13连锁于白炭黑氢气缓冲罐3，一旦白炭黑氢气缓冲罐3氢气用量较大、压力不足时，制氢站I氢气进行自动补压；设定第二压力调节阀16压力连锁于第二氢气缓冲罐7，压力下降时制氢站I自动补压；设定气动切断阀12连锁于第二氢气缓冲罐7，氢气可经过氢气水封10、阻火器11进行排空，废气残液吸收装置9排空管路与氢气水封10排空管路并联设置。本技术不局限于上述具体的实施方式，本领域的普通技术人员从上述构思出发，不经过创造性的劳动，所作出的种种变换，均落在本技术的保护范围之内。权利要求1.用于多晶硅生产中氢气再利用装置，包括连接制氢站的第一氢气缓冲罐，所述第一氢气缓冲罐分别连接白炭黑氢气缓冲罐和还原炉； 分别连接干法回收氢气加压分离净化装置和活性炭吸附塔的第二氢气缓冲罐，所述第二氢气缓冲罐连接所述还原炉；其特征在于 所述第二氢气缓冲罐与白炭黑氢气缓冲罐之间通过第一支路连通，所述第一支路上设有止回阀。2.如权利要求I所述的用于多晶硅生产中氢气再利用装置，其特征在于所述第一支路上设有第一压力调节阀。3.如权利要求I所述的用于多晶硅生产中氢气再利用装置，其特征在于所述第一支路上设有连锁切断阀。4.如权利要求I所述的用于多晶硅生产中氢气再利用装置，其特征在于所述第一氢气缓冲罐与第二氢气缓冲罐之间通过第二支路连通。5.如权利要求4所述的用于多晶硅生产中氢气再利用装置，其特征在于所述第二支路上设有第二压力调节阀。专利摘要本技术公开了一种用于多晶硅生产中氢气再利用装置，属于多晶硅生产设备
，主要包括连接制氢站的第一氢气缓冲罐，所述第一氢气缓冲罐分别连接白炭黑氢气缓冲罐和还原炉；分别连接干法回收氢气加压分离净化装置和活性炭吸附塔的第二氢气缓冲罐，所述第二氢气缓冲罐连接所述还原炉；所述第二氢气缓冲罐与白炭黑氢气缓冲罐之间通过第一支路连通，所述第一支路上设有止回阀。本技术既能够满足还原炉氢气需要，又能够将多余的氢气充分利用，节省了资源，降低了生产成本，广泛应用于多晶硅的生产中。文档编号C01B33/12GK202558651SQ20122022297公开日2012年11月28日 申请日期2012年5月18日 优先权日2012年5月18日专利技术者郑珂, 陈霞, 陈虎, 娄彬, 施国林, 柳显宾, 王彤彤 申请人:山东瑞阳硅业科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于多晶硅生产中氢气再利用装置，包括连接制氢站的第一氢气缓冲罐，所述第一氢气缓冲罐分别连接白炭黑氢气缓冲罐和还原炉；分别连接干法回收氢气加压分离净化装置和活性炭吸附塔的第二氢气缓冲罐，所述第二氢气缓冲罐连接所述还原炉；其特征在于：所述第二氢气缓冲罐与白炭黑氢气缓冲罐之间通过第一支路连通，所述第一支路上设有止回阀。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郑珂，陈霞，陈虎，娄彬，施国林，柳显宾，王彤彤，
申请(专利权)人：山东瑞阳硅业科技有限公司，
类型：实用新型
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