一种正压反冲等压腔体制造技术

一种正压反冲等压腔体主要包含有：入口管道，出口管道，反冲管道，排污管道，腔体，待处理腔室，已处理腔室，压力传感器，反冲泵；其特征在于：压力传感器安装在已处理腔室上，或压力传感器安装在反冲泵至已处理腔室所形成的等压腔室区域的任意位置上。本发明专利技术由于在流体处理设备已处理腔室至运反冲泵所形成的等压腔体上安装压力传感器，利用压力传感器取得的确数具，实现流体处理设备的反冲洗控制及流体处理设备的压力保护，可合理的控制流体处理设备正常工作与反冲或排污之间的时间，减少盲目的反冲洗，节约水资源，节约设备的运行成本，提高设备的安全运行系数。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种流体处理设备腔体，特指一种正压反冲时在已处理腔室及相关连接管道所形成的等压腔体上安装压力传感器流体处理设备腔体，可广泛用于工业循环水，民用循环水，制药，化工，食品加工，环境工程，冶金，中央空调，电力，轻工，船舶，军事，航空航天等领域的各种流体处理设备上。
技术介绍
在现代流体处理设备中对自动化的要求越来越高，用什么检测数具来实现自动化，怎样取得这些数具进行自动运行控制，人们在这方面的研发投入还不够，随着PLC技术的进步，压力传感器技术的成熟，用压力传感器取得的数具进行流体处理设备控制变成为一种新技术，合理的控制流体处理设备正常工作与反冲或排污之间的间隔时间，减少盲目的反冲洗、排污的次数，节约设备的运行成本，提高设备的安全运行系数。 专利技术的目的 本专利技术由于在流体处理设备反冲泵至已处理腔室及与已处理腔室相连的管路和设备所形成的等压腔室上有安装压力传感器，使得正压式反冲的流体处理设备，可利用压力传感器实现流体处理设备的反冲等相关设备操作运行，合理的控制流体处理设备反冲的时间，并对节约设备的运行成本，提高设备的自动化程度，及时恢复设备的处理效果有其广泛的作用。技术方案 根据本专利技术结构图I所示一种正压反冲等压腔体主要包含有；入口管道，出口管道，排污管道，反冲管道，腔体，待处理腔室，已处理腔室，压力传感器，反冲泵。如图I所示，一种正压反冲等压腔体组成入口管道与排污管道都安装在待处理腔室上，反冲管道与出口管道安装已处理腔室上，压力传感器安装在已处理腔室上或安装在已处理腔室至反冲泵及已处理腔室至反冲管道相连的所有管道在反冲泵反冲时所形成的等压腔室的任意位置上。本专利技术一种正压反冲等压腔体可广泛用于工业循环水，民用循环水，制药，化工，食品加工，环境工程，冶金，中央空调，电力，轻工，船舶，军事，航空航天等领域的各种流体处理设备上，均可广泛使用，并制造成各种具有正压运行的单泵、双泵；旁流、直流等多种形式的流体处理设备。本专利技术在流体处理设备腔体上有一大创新 I.压力传感器安装在已处理腔室上，或压力传感器安装在反冲泵至已处理腔室所形成的等压腔室区域的任意位置上。下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步说明。图I是本专利技术的结构图一种正压反冲等压腔体。图2是本专利技术图I 一种正压反冲等压腔体制成的一台双泵全正压流体处理设备。图3是根据本专利技术图I 一种正压反冲等压腔体，组装成一台双泵全正压流体处理流体处理设备并联在工业循环水系统中作为旁流水处理设备的安装结构图，并联在工业循环水系统中作为旁流水处理设备的安装结构图。具体实施例方式 本专利技术图I中，入口管道A，出口管道B，反冲管道D，排污管道C，反冲泵E，腔体W，待处理腔室M，已处理腔室N，压力传感器X。在图I中，入口管道A与排污管道C接腔体W待处理腔室M上；反冲管道D与出口管道B安装在流体处理已处理腔室N上；压力传感器X安装在设备反冲洗时，反冲泵至已处理腔室及出口管道与已处理腔室所形成的等压腔室上，产生本专利技术结构图I 一种正压反冲等压腔体。如图2所示，将本专利技术结构图I 一种正压反冲等压腔体组装成一台双泵全正压(运行正压、反冲正压)流体处理设备由六大部份组成 1.在流体处理设备腔体W待处理腔室M上安装运行入口部份 设入口管道A=入口管道A (I)+入口管道A (2)+入口管道A (3)，入口控制阀A (2)取代入口管道A (2)，增加运行泵A (4)，入口管道A (5)产生运行入口部份 运行入口部份=入口管道A (I) +入口控制阀A (2)+入口管道A (3) +运行泵A (4)+入口管道A (5) 2.在流体处理设备腔体W已处理腔室N上安装运行出口部份 设出口管道B=出口管道B (I)+出口管道B (2)+出口管道B (3)，出口控制阀B (2)取代出口管道B (2)，产生运行出口部份 运行出口部份=出口管道B (I) +出口控制阀B (2) +出口管道B (3) 3.在流体处理设备腔体W待处理腔室M上安装排污运行部份 设排污管道C=排污管道C (I)+排污管道C (2)+排污管道C (3)，排污阀C (2)取代排污管道C (2)，反冲出口运行部份 排污运行部份=排污管道C (I) +排污阀C (2) +排污管道C (3) 4.在流体处理设备腔体W已处理腔室N上安装反冲入口部分 设反冲管道D=反冲管道D (I)+反冲管道D (2)+反冲管道D (3)，用反冲阀D (2)取代反冲管道D (2)，并增加反冲管道D (4) 反冲入口部份=反冲管道D (I) +反冲阀D (2) +反冲管道D (3) + 反冲泵E+反冲管道D (4) 5.在流体处理设备腔体W腔体反冲等压腔室上安装压力系统检测部份 压力系统检测部份=压力传感器X+PLC处理器X (I) +执行系统X (2)，(根据流体的特点，压力传感器X安装在已处理腔室N上或安装在已处理腔室N至反冲泵E及反冲泵反冲时所形成的等压腔室的任意位置上。)因变化太多而结构类同，故不再一一描述。6.在流体处理设备W腔体本体上安装 流体处理设备腔体W=流体处理设备腔体W待处理腔室+流体处理设备腔体W已处理腔室+排气阀Y+压力传感器X 本专利技术一种正压反冲等压腔体制成的一台双泵(全正压)流体处理设备装配完毕，如图2所示。现将结构图2的双泵流体处理设备并联到工业循环水系统的管路H上，入口管道A(5)与流体出口管道B (3)分别在循环水系统管道H上开口连接，产生结构图3。本专利技术结构图I 一种正压反冲等压腔体组成的一台双泵全正压流体处理设备并联到工业循环水系统中如图3作为旁流水处理设备的实施和运行如下 1.如图3所示，当要对循环管道H中的水进行处理时，先关闭反冲泵E，排污阀C(2)、反冲阀D (2)、开启入口阀A (2)、出口阀B (2)、启动运行泵A (4)，循环管道H中水流入管道A (5)—运行泵(4)—管道A (3)—入口控制阀A (2)—入 口管道A (I)—待处理腔室—已处理腔室一出口管道B (I) —出口阀B (2) —出口管道B (3) —返回循环管道H，经不断循环，循环管道H中的水不断被净化，其各种杂质被截留在流体处理设备W腔体待处理腔室内。当流体处理设备工作一段时间后，循环系统内各种黏泥，杂质含量会不断减少，但待处理腔室杂质含量会不断增加，流体流量减少，水处理效果下降，设备进入排污、反冲、或维护等工作状态，从而减少了设备运行的盲目性，使设备时刻处于一种高效节能的安全工作状态。本专利技术结构图I 一种正压反冲等压腔体组成的一台双泵全正压流体处理设备并联到工业循环水系统中如图3作为旁流水处理设备的实施反冲如下 2.如图3所示，当要对设备进行反冲时，先关闭运行泵A(4)，入口阀A (2)、出口阀B (2)、开启排污阀C (2)、反冲阀D (2)、反冲泵E，反冲流体进入反冲管道D (4)—反冲泵E—反冲管道D (3)—反冲阀D (2)—反冲管道D (I)—已处理腔室N—待处理腔室M —排污管道C (I)—排污阀C (2)—排污管道C (3)这时在待处理腔室及堵在流体处理材料上的各种黏泥，杂质含量会不断减少，流体流量由小变大，在流体处理设备反冲等压腔体上的压力会由大变小，当压力小到一定值时本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种正压反冲等压腔体主要包含有；入口管道，出口管道，反冲管道，排污管道，待处理腔室，已处理腔室，腔体，压力传感器，运行泵，其特征在于：压力传感器安装在已处理腔室上，或压力传感器安装在反冲泵至已处理腔室所形成的等压腔室区域的任意位置上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：冯先凯，牛勇，陈文，徐磊，
申请(专利权)人：湖南水碧清环保设备有限公司，
类型：发明
国别省市：