本发明专利技术涉及低折射率层形成用组合物、使用该组合物的防反射薄膜、偏光板以及显示装置。该低折射率层形成用组合物，包含：中空二氧化硅颗粒（A）；氟化(甲基)丙烯酸酯化合物（B），其使分子中具有三个以上的异氰酸酯基的化合物、和由如下式1表示的氟代醇以及2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯进行反应而得到；(甲基)丙烯酸酯单体（C）；光引发剂（D）以及溶剂（E）。（式1），（式1中，Y分别独立地表示H或者F，n以及m分别为0～200的整数。）上述低折射率层形成用组合物在应用于防反射薄膜中时，具有优异的耐防污性以及耐指纹性，尤其具有卓越的反射率等防反射特性。而且，上述防反射薄膜能够有效地应用于偏光板以及显示装置。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及低折射率层形成用组合物、使用该组合物的防反射薄膜、偏光板以及显示装置。
技术介绍
最近，CRT、IXD、PDP等显示器得到发展，使用这些显示器的各种显示装置在多方面被使用。当在屋外等光线较亮的场所使用这些显示装置时，由太阳光或荧光灯等外部光所引起的向显示器的映入成为问题的情形增多，由此防止向显示器表面的外部光的映入，即对防反射的要求变得越来越高。因此，广为开发用于使显示器装置的外部的模样不能很好地被反射的防反射薄·膜。作为上述防反射薄膜，已知有多层结构的防反射薄膜(PCT/JP2003/008535)。上述多层结构的防反射薄膜已知有由高折射率层和低折射率层构成的二层结构；由中折射率层、高折射率层和低折射率层构成的三层结构；以及由高折射率层、低折射率层、高折射率层和低折射率层构成的四层结构。近年来，要求上述防反射薄膜不仅具有防反射的功能，还具有耐划伤性、耐磨损性、防污染性等附加的功能。为此，使用将具有污染防止性的物质使用于低折射率层上的防反射薄膜。但是，可以用于上述防反射薄膜的物质被限制，且现有所使用的物质的价格较高，因此不仅制造成本上升，而且存在由于追加这种附加功能而导致光学特性，例如反射特性、透过率、雾度等降低的问题。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术是为了解决如上述的现有的问题而完成的，其目的在于，提供一种低折射率层形成用组合物，当将所述低折射率层形成用组合物应用于防反射薄膜中时，不仅耐防污性以及耐指纹性优异，且反射率等防反射性能卓越。本专利技术的其他目的在于，提供一种使用上述低折射率层形成用组合物来形成的、耐防污性以及耐指纹性优异，且反射率等防反射性能卓越的防反射薄膜。本专利技术的其他目的在于，提供一种具备上述防反射薄膜的品质优异的偏光板。本专利技术的其他目的在于，提供一种具备上述防反射薄膜的品质优异的显示装置。用于解决课题的方法为了实现上述目的，而本专利技术提供一种低折射率层形成用组合物，其特征在于，包含中空二氧化硅颗粒(A);氟化(甲基)丙烯酸酯化合物(B)，其使分子中具有三个以上的异氰酸酯基的化合物、与由如下式I表示的氟代醇以及2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯反应而得到；(甲基)丙烯酸酯单体(C);光引发剂(D)以及溶剂(E)。化学式I权利要求1.一种低折射率层形成用组合物，其特征在于，包含 中空二氧化硅颗粒(A);氟化(甲基)丙烯酸酯化合物(B)，其使分子中具有三个以上的异氰酸酯基的化合物、和由如下式I表示的氟代醇以及2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯进行反应而得到；(甲基)丙烯酸酯单体(C);光引发剂(D)以及溶剂(E)， 化学式I2.根据权利要求I所述的低折射率层形成用组合物，其特征在于， 所述氟化(甲基)丙烯酸酯化合物(B)包含，选自由如下式2 9表示的化合物中的至少I种，3.根据权利要求I所述的低折射率层形成用组合物，其特征在于， 所述中空二氧化硅颗粒的折射率为I. 17 I. 40。4.根据权利要求I所述的低折射率层形成用组合物，其特征在于， 所述低折射率层形成用组合物相对于总体100重量份而含有所述中空二氧化硅颗粒(A)O. I 20重量份、所述氟化合物(B)O. I 30重量份、所述(甲基)丙烯酸酯单体(C)0.I 30重量份、所述光引发剂(D) 0. 05 5重量份以及所述溶剂(E) 50 98重量份。5.一种防反射薄膜，其特征在于，包含 透明基材；以及 低折射率层，其使用权利要求I 4中任一项所述的低折射率层形成用组合物而被形成在所述透明基材的上表面上。6.根据权利要求5所述的防反射薄膜，其特征在于，< 还包含被形成在所述透明基材与低折射率层之间的硬涂层。7.根据权利要求5所述的防反射薄膜，其特征在于， 所述低折射率层的折射率在25°C下为I. 2 I. 49。8.—种偏光板,其特征在于， 具备权利要求5所述的防反射薄膜。9.一种显示装置，其特征在于， 具备权利要求5所述的防反射薄膜。全文摘要本专利技术涉及低折射率层形成用组合物、使用该组合物的防反射薄膜、偏光板以及显示装置。该低折射率层形成用组合物，包含中空二氧化硅颗粒(A)；氟化(甲基)丙烯酸酯化合物(B)，其使分子中具有三个以上的异氰酸酯基的化合物、和由如下式1表示的氟代醇以及2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯进行反应而得到；(甲基)丙烯酸酯单体(C)；光引发剂(D)以及溶剂(E)。(式1)，(式1中，Y分别独立地表示H或者F，n以及m分别为0～200的整数。)上述低折射率层形成用组合物在应用于防反射薄膜中时，具有优异的耐防污性以及耐指纹性，尤其具有卓越的反射率等防反射特性。而且，上述防反射薄膜能够有效地应用于偏光板以及显示装置。文档编号G02B1/11GK102786823SQ201210152950公开日2012年11月21日 申请日期2012年5月16日 优先权日2011年5月17日专利技术者安锺南, 李杜峰 申请人:东友精细化工有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种低折射率层形成用组合物，其特征在于，包含：中空二氧化硅颗粒（A）；氟化(甲基)丙烯酸酯化合物（B），其使分子中具有三个以上的异氰酸酯基的化合物、和由如下式1表示的氟代醇以及2？羟乙基(甲基)丙烯酸酯进行反应而得到；(甲基)丙烯酸酯单体（C）；光引发剂（D）以及溶剂（E），【化学式1】（式1）式1中，Y分别独立地表示H或者F，n以及m分别为0～200的整数。FDA00001646766800011.jpg
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：安锺南，李杜峰，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：
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