一种根据液体压力测量的天平制造技术

技术编号:7974023 阅读:225 留言:0更新日期:2012-11-15 06:51
本发明专利技术公开了一种根据液体压力测量的天平,包括底座、刻度管、缸体、活塞、支杆和托盘,刻度管水平位于底座上,底座周围四面包括活动板,刻度管内部中心位置包括滑塞,刻度管内部左右两端包括滑塞阻拦,刻度管和两个缸体连接成为一体,刻度管和缸体内部包括液体,活塞位于缸体的上部,托盘通过支杆与活塞连接。通过上述方式,本发明专利技术提供的一种根据液体压力测量的天平,当待称量物品的质量变化很小时,所述活塞的上下移动范围会很小,保证整个天平的结构稳定性,同时所述滑塞会发生较大的偏移,便于观察,能保证很高的测量精度,该天平结构简单,所述活动板进行拉伸能形成保护外罩,防止天平在不用时发生损坏。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及物品称量领域,特别是涉及一种根据液体压力测量的天平
技术介绍
目前常用的天平主要分为电子天平和机械天平,其中机械天平是由支点在天平梁的中心支着天平梁而形成两个臂,每个臂上挂着托盘,其中一个托盘里放着已知重量的物体,另一个托盘里放待称重的物体,固定在天平梁上的指针在不摆动且指向正中刻度时的偏转就能指示出待称重物体的重量,但机械天平称量精度不高,对物体质量变化小的情况称量不出来;电子天平结构复杂,工作环境要求高,价格贵,也容易产生误差。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种结构简单、带保护罩的根据液体压力测量的天平。为解决上述技术问题,本专利技术采用的一个技术方案是提供一种根据液体压力测量的天平,包括底座、刻度管、缸体、活塞、支杆和托盘,所述刻度管水平位于所述底座上,所述底座周围四面包括活动板,所述刻度管内部中心位置包括滑塞,所述刻度管内部左右两端包括滑塞阻拦,所述刻度管和所述两个缸体连接成为一体,所述刻度管和所述缸体内部包括液体,所述活塞位于所述缸体的上部,所述托盘通过所述支杆与所述活塞连接。在本专利技术一个较佳实施例中,所述刻度管和所述两个缸体米用有机玻璃材料。在本专利技术一个较佳实施例中,所述刻度管的内径为5mm-6mm。在本专利技术一个较佳实施例中,所述刻度管和所述缸体内部液体是水。本专利技术的有益效果是本专利技术的根据液体压力测量的天平,当待称量物品的质量变化很小时,所述活塞的上下移动范围会很小,保证整个天平的结构稳定性,同时所述滑塞会发生较大的偏移,便于观察,能保证很高的测量精度,该天平结构简单,所述活动板进行拉伸能形成保护外罩,防止天平在不用时发生损坏。附图说明图I是本专利技术根据液体压力测量的天平一较佳实施例的结构示意 附图中各部件的标记如下I、底座,2、刻度管,3、缸体,4、活塞,5、支杆,6、托盘,7、活动板,8、滑塞,9、滑塞阻拦。具体实施例方式下面结合附图对本专利技术的较佳实施例进行详细阐述,以使本专利技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本专利技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。请参阅图1,本专利技术提供一种根据液体压力测量的天平,包括底座I、刻度管2、缸体3、活塞4、支杆5和托盘6。所述刻度管2水平位于所述底座I上,所述底座I周围四面包括活动板7,所述刻度管2上标有刻度,所述刻度管2中心位置是零点,所述刻度从零点向左右依次递增。所述刻度管2内部中心位置包括滑塞8,所述刻度管2内部左右两端包括滑塞阻拦9,所述刻度管2和所述两个缸体3连接成为一体,所述刻度管2和所述缸体3内部包括液体,所述液体通常情况下是水,所述活塞4位于所述缸体3的上部,所述托盘6通过所述支杆5与所述活塞4连接。本专利技术中的所述刻度管2和所述两个缸体3采用有机玻璃材料,机械强度高,抗冲击能力强,同时能观察到所述根据液体压力测量的天平的工作过程。本专利技术中的所述刻度管2的内径为5mm-6mm ,当刻度管2内的滑塞移动1mm,所述刻度管2的内径为6mm时,根据公式在滑塞左右两端形成的重量差为Ji* (0. 3cm)2*0. lcm*lg/cm3 ^ 0. 028g,因此所述刻度管2上的单位刻度可以通过换算得到,一个单位刻度可以表示0. lg,便于计算。本专利技术揭示的根据液体压力测量的天平,当待称量物品的质量变化很小时,所述活塞的上下移动范围会很小,保证整个天平的结构稳定性,同时所述滑塞会发生较大的偏移,便于观察,能保证很高的测量精度,该天平结构简单,所述活动板进行拉伸能形成保护外罩,防止天平在不用时发生损坏。以上所述仅为本专利技术的实施例,并非因此限制本专利技术的专利范围,凡是利用本专利技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的
,均同理包括在本专利技术的专利保护范围内。本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种根据液体压力测量的天平,其特征在于,包括底座、刻度管、缸体、活塞、支杆和托盘,所述刻度管水平位于所述底座上,所述底座周围四面包括活动板,所述刻度管内部中心位置包括滑塞,所述刻度管内部左右两端包括滑塞阻拦,所述刻度管和所述两个缸体连接成为一体,所述刻度管和所述缸体内部包括液体,所述活塞位于所述缸体的上部,所述托盘通过所述支杆与所述活塞连接。

【技术特征摘要】
1.一种根据液体压力测量的天平,其特征在于,包括底座、刻度管、缸体、活塞、支杆和托盘,所述刻度管水平位于所述底座上,所述底座周围四面包括活动板,所述刻度管内部中心位置包括滑塞,所述刻度管内部左右两端包括滑塞阻拦,所述刻度管和所述两个缸体连接成为一体,所述刻度管和所述缸体内部包括液体,所述活塞位于所述缸体的上部,所述托盘...

【专利技术属性】
技术研发人员:李飞
申请(专利权)人:昆山旭虹精密零组件有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1