本发明专利技术的目的在于公开一种石材磨具用氧化铈抛光材料及其制备方法，它由氧化铈组成，氧化铈的质量百分比含量为98-99%；所述石材磨具用氧化铈抛光材料的振实比重为2.1-2.5g/cm3，平均粒径D50为15-20μm；制备得到的氧化铈抛光材料具有抛光效率高、抛光制品光泽度高和磨具耐久性高等优点，实现本发明专利技术的目的。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种抛光材料及其制备方法，特别涉及一种适用于石材磨具的。
技术介绍
抛光是利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。常见的抛光磨料主要有Ce02、A1203、SiO2, ZrO2和金刚石等。目前石材作为高级建筑材料，广泛应用于日常生活中。而石材的加工大多数是以 天然石矿或人工合成石材经切割成规格形状后，经研磨、抛光而成。其质量指标除规格、花色外，最主要的指标就是石材的光泽度。而光泽度的高低取决于抛光技术。因此，在石材加 工过程中要求有性能良好的抛光磨具。近年来，虽然石材生产线的不断增多，但主要集中在中低端产业上。在高档石材加工过程中磨具几乎全部依赖进口。虽然近年来国内不少厂家在研制、生产抛光磨具，但其质量还没有达到进口同类磨具的水平。目前，在石材磨具中主要的研磨材料是氧化锡、氧化铝和金刚石等，在抛光过程中主要依靠的机械作用，导致石材的光泽度及平整度相对较差。而氧化铈作为一种优良的化学机械抛光材料，目前在集成电路、平面显示和光学元器件等的加工中得到了广泛的应用，并取得了良好的效果，但目前的氧化铈在使用过程中粒度较小，平均粒径小于3. 5 μ m，不适用于石材磨具用。因此，特别需要一种，已解决上述现有存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种，克服现有技术存在上述的问题，具有抛光效率高、抛光制品光泽度高和磨具耐久性高等优点。为了实现上述目的，本专利技术的技术方案如下一方面，本专利技术提供一种石材磨具用氧化铈抛光材料，其特征在于，它由氧化铈组成，氧化铺的质量百分比含量为98-99%。在本专利技术的一个实施例中，所述石材磨具用氧化铈抛光材料的振实比重为2.1-2. 5g/cm3，平均粒径 D50 为 15-20 μ m。另一方面，本专利技术提供一种石材磨具用氧化铈抛光材料的制备方法，其特征在于，它是由大比重氧化铈经改性制备，包括如下步骤(I)碳酸铈的制备将氯化铈溶于水，加热至80-90°C，用质量分数为10-15%碳酸氢铵的水溶液沉淀至PH值为6. 5-7，保温l-3h后离心脱水，得碳酸铈；(2)氧化铈的制备将上述碳酸经高温焙烧，得所述的氧化铈；(3)改性将氨丙基三甲氧基硅烷偶联剂与水配成1%_3%的分散液，在搅拌条件下均匀的淋洒在氧化铈表面；(4)干燥将改性后的氧化铈经150_160°C干燥12_15h ；(5)筛分将干燥后的改性氧化铈经130-180目筛网振动筛分，得所述的氧化铈抛光材料。在本专利技术的一个实施例中，所述氯化铈与水的比例为氯化铈占氯化铈与水的总质量的 30%-50%。在本专利技术的一个实施例中，所述高温焙烧的焙烧温度为960-1000°C，焙烧时间为3.5~5. 5h。在本专利技术的一个实施例中，所述氨丙基三甲氧基硅烷偶联剂与氧化铈的比例为1%-2%。本专利技术的，与现有的产品相比，制备得 到的氧化铈抛光材料具有抛光效率高、抛光制品光泽度高和磨具耐久性高等优点，实现本专利技术的目的。本专利技术的特点可参阅本案图式及以下较好实施方式的详细说明而获得清楚地了解。附图说明图I为本专利技术的实施例所得氧化铈抛光材料的粒度分布图。具体实施例方式为了使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例进一步阐述本专利技术。一方面，本专利技术的石材磨具用氧化铈抛光材料，它由氧化铈组成，氧化铈的质量百分比含量为98-99%。在本专利技术中，所述石材磨具用氧化铈抛光材料的振实比重为2. 1-2. 5g/cm3，平均粒径D5tl为15-20 μ m。(参见图I)另一方面，本专利技术的石材磨具用氧化铈抛光材料的制备方法，它是由大比重氧化铈经改性制备，包括如下步骤(I)碳酸铈的制备将氯化铈溶于水，加热至80_90°C，用质量分数为10-15%碳酸氢铵的水溶液沉淀至PH值为6. 5-7，保温l-3h后离心脱水，得碳酸铈；(2)氧化铈的制备将上述碳酸经高温焙烧，得所述的氧化铈；(3)改性将氨丙基三甲氧基硅烷偶联剂与水配成1%_3%的分散液，在搅拌条件下均匀的淋洒在氧化铈表面；(4)干燥将改性后的氧化铈经150_160°C干燥12_15h ；(5)筛分将干燥后的改性氧化铈经130-180目筛网振动筛分，得所述的氧化铈抛光材料。 在本专利技术中，所述氯化铈与水的比例为氯化铈占氯化铈与水的总质量的30%_50%。所述高温焙烧的焙烧温度为960_1000°C，焙烧时间为3. 5-5. 5h。所述氛丙基二甲氧基娃烧偶联剂与氧化铺的比例为1%-2%。实施例I将300kg氯化铈与700kg水混合，加热至80°C，在搅拌条件下加入质量分数为10%的碳酸氢铵水溶液，沉淀至PH值为6. 5，保温Ih ;经离心脱水后在960°C焙烧5. 5h ;按照氨丙基三 甲氧基硅烷偶联剂与氧化铈的比例为1%，配成1%的水溶液，在搅拌条件下均匀淋洒在氧化铈的表面，经150°C干燥15h，130目筛网振动筛分，筛下物为所述的氧化铈抛光材料。制得的氧化铈抛光材料的振实比重为2. lg/cm3，该抛光材料的平均粒径D5tl为15 μ m0实施例2将500kg氯化铈与500kg水混合，加热至90°C，在搅拌条件下加入质量分数为15%的碳酸氢铵水溶液，沉淀至PH值为7，保温3h ;经离心脱水后在1000°C焙烧3. 5h ;按照氨丙基三甲氧基硅烷偶联剂与氧化铈的比例为2%，配成3%的水溶液，在搅拌条件下均匀淋洒在氧化铈的表面，经160°C干燥12h，180目筛网振动筛分，筛下物为所述的氧化铈抛光材料。制得的氧化铈抛光材料的振实比重为2. 5g/cm3,该抛光材料的平均粒径D5tl为20 μ m0实施例3将400kg氯化铈与600kg水混合，加热至85°C，在搅拌条件下加入质量分数为12%的碳酸氢铵水溶液，沉淀至PH值为6. 5，保温2h ;经离心脱水后在980°C焙烧4h ;按照氨丙基三甲氧基硅烷偶联剂与氧化铈的比例为I. 5%，配成2%的水溶液，在搅拌条件下均匀淋洒在氧化铈的表面，经160°C干燥14h，150目筛网振动筛分，筛下物为所述的氧化铈抛光材料。制得的氧化铈抛光材料的振实比重为2. 32g/cm3，该抛光材料的平均粒径D5tl为17. 48 μ mD以上显示和描述了本专利技术的基本原理、主要特征和本专利技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本专利技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本专利技术的原理，在不脱离本专利技术精神和范围的前提下本专利技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本专利技术的范围内。本专利技术要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种石材磨具用氧化铈抛光材料，其特征在于，它由氧化铈组成，氧化铈的质量百分比含量为98？99%。
【技术特征摘要】
1.一种石材磨具用氧化铈抛光材料，其特征在于，它由氧化铈组成，氧化铈的质量百分比含量为98-99%。2.根据权利要求I所述的石材磨具用氧化铈抛光材料，其特征在于，所述石材磨具用氧化铈抛光材料的振实比重为2. 1-2. 5g/cm3，平均粒径D5tl为15-20 u m。3.一种石材磨具用氧化铈抛光材料的制备方法，其特征在于，它是由大比重氧化铈经改性制备，包括如下步骤 (1)碳酸铈的制备将氯化铈溶于水，加热至80-90°C，用质量分数为10-15%碳酸氢铵的水溶液沉淀至PH值为6. 5-7，保温l_3h后离心脱水，得碳酸铈； (2)氧化铈的制备将上述碳酸经高温焙烧，得所述的氧化铈； ...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵月晶，陈曦，杨筱琼，高玮，蒙素玲，
申请(专利权)人：上海华明高纳稀土新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。