【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种剥离液的制备装置，具体涉及一种有机光刻胶剥离液制备装置，主要用于半导体行业、TFT行业中面板表面光刻胶的去除。
技术介绍
剥离是将材料使用化学反应或物理溶解作用而移除光刻胶的技术。剥离技术分为湿法去胶和干法去胶，其中，湿法去胶是采用化学试剂，经由物理溶解或者化学反应光刻胶达到剥离的目的。剥离液为无色透明液体，在现有技术中，薄膜场效应晶体管液晶显示器OFTLCD)、发光二极管(LED)、有机发光二极管(OLED)等行业用作面板制备过程中光刻胶的去除主要采用由氟化物和过氧化氢等危险的化学试剂制成的剥离液，但上述剥离液存在如下缺点剥离速率难以控制，不同金属层的剥离效果有差异，剥离液处理后的基板有残 留，影响产品的良率；剥离液对图形深孔处的光刻胶剥离效果不理想；影响产品的氟化物和过氧化氢等化学试剂对工作人员的安全操作带来一定的威胁。中国专利200810011907. 2中公开了一种光刻胶剥离液，其中由表面活性剂、有机胺、有机溶剂、螯合剂、缓蚀剂和水直接混合而成，制得的成品杂质含量高、纯度低，使用时在金属层分散不均匀，剥离后金属表面仍有残留物质，制得的液晶显示器显影后会有杂质，从而降低了画面的精度，使得产品质量难以提升。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述不足，提供一种杂质少、纯度高的有机光刻胶剥离液制备装置。本技术的目的是这样实现的一种有机光刻胶剥离液制备装置，所述制备装置包括有机溶剂储罐、有机胺储罐、表面活性剂储罐、第一过滤器、第二过滤器、配料罐、第三过滤器和成品罐；所述有机溶剂储罐出口与第一过滤器进口相连，所述第一过滤器出口与配料罐进口相连；所...
【技术保护点】
一种有机光刻胶剥离液制备装置，其特征在于：所述制备装置包括有机溶剂储罐（1）、有机胺储罐（2）、表面活性剂储罐（3）、第一过滤器（4）、第二过滤器（5）、配料罐（6）、第三过滤器（7）和成品罐（8）；所述有机溶剂储罐（1）出口与第一过滤器（4）进口相连，所述第一过滤器（4）出口与配料罐（6）进口相连；所述有有机胺储罐（2）出口与第二过滤器（5）进口相连，所述第二过滤器（5）出口与配料罐（6）进口相连；所述配料罐（6）进口还与表面活性剂储罐（3）出口相连；所述配料罐（6）出口与第三过滤器（7）进口相连，所述第三过滤器（7）出口与成品罐（8）进口相连。
【技术特征摘要】
1.一种有机光刻胶剥离液制备装置，其特征在于所述制备装置包括有机溶剂储罐(I)、有机胺储罐(2)、表面活性剂储罐(3)、第一过滤器(4)、第二过滤器(5)、配料罐(6)、第三过滤器(7)和成品罐(8)； 所述有机溶剂储罐(I)出口与第一过滤器(4)进口相连，所述第一过滤器(4)出口与配料罐(6)进口相连； 所述有有机胺储罐(2)出口与第二过滤器(5)进口相连，所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员：沈翠芬，戈士勇，盛建伟，
申请(专利权)人：江阴润玛电子材料股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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