形成部分沉积层的方法及形成部分沉积层的装置制造方法及图纸

技术编号:7951828 阅读:143 留言:0更新日期:2012-11-08 21:29
本发明专利技术提供一种形成部分沉积层的方法及形成部分沉积层的装置。此方法包括:在蒸发板上提供基材,在蒸发板与基材之间置放屏蔽板,使得屏蔽板屏蔽基材的第一部分,并暴露基材的第二部分。当基材朝预定方向移动时,进行蒸发制程,使得在蒸发板上的蒸发源沉积在基材暴露的第二部分上,而不沉积在基材屏蔽的第一部分上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关于一种形成部分沉积层的方法及一种形成部分沉积层的装置,且特别关于一种不使用洗漆制程(washing process)来移除沉积层不必要的部分的形成部分沉积层的方法及形成部分沉积层的装置
技术介绍
装饰膜为由基材 与形成在其上的多个材料层所构成,其中,上述基材可为可挠式基材,这使得装饰膜可应用于模内装饰(in-mold decoration, I MD)制程、模内转印(in-mold rolling, IMR)制程及类似制程中。装饰膜为用以提供设备或设备外壳中某些视觉效果,例如提供金属光泽、呈现某些图案(即,商标、标志等)或是呈现某些色彩。甚至可通过装饰膜来达到某些触控感应效应(touch sensing effect)。一般而言,为了提供金属光泽或者提供具有金属光泽的图案,装饰膜中形成在基板上的材料层至少包括一金属层,其中,为了达到高光泽度,此金属层的材料较佳为银(Ag)。然而,整体基板表面上形成有Ag层的装饰膜会具有电屏蔽效应(electricallyshielding effect),而使得使用此种装饰膜的电子设备可能具有不良的无线信号传输品质。因此,为了得到所需外观而不对电子设备的传输品质造成负面影响,通常会将形成在基材上的Ag层图案化,使Ag层部分保留在基材上,而不会屏蔽无线信号的传输。近来,在基材上形成图案化Ag层的方法包括在基材上形成屏蔽图案,在具有屏蔽图案的基材的整体表面上沉积Ag材料,并洗涤(或清洁)屏蔽图案及沉积在其上的Ag层的一部分。然而,此种制程会将装饰膜的制造复杂化,且用以洗涤屏蔽图案及部分Ag层的试剂可能对环境造成污染。此外,假若屏蔽图案及沉积在其上的Ag层部分并未被完全洗去,则可能会造成装饰膜中的污染,且原本形成在基材上的对准标记(alignment mark)可能被屏蔽,这对后续的制程如装饰膜的制造、后续的IMD或后续的IMR制程会造成负面影响。因此,必须改良在基材上形成部分金属层的方法。
技术实现思路
本专利技术提供一种形成部分沉积层的方法以及以此方法所制造的产品,其至少具有简单且对于环境低污染的特性。本专利技术提供一种不使用洗涤试剂来形成部分沉积层的装置。根据本专利技术的一实施例,提供一种形成部分沉积层的方法,此方法包括在蒸发板上提供基材,在蒸发板与基材之间置放屏蔽板,使得屏蔽板屏蔽基材的第一部分,并暴露基材的第二部分。当基材朝预定方向移动时,进行蒸发制程,使得在蒸发板上的蒸发源沉积在基材中经暴露的第二部分上,而不沉积在基材中经屏蔽的第一部分上。根据本专利技术的一实施例,在蒸发板上的蒸发源包括金属。根据本专利技术的一实施例,在蒸发板上的蒸发源包括Al、Ni、Au、Pt、Cr、Fe、Cu、Sn、Ag、Ti、Pb、Zn或其中的组合。根据本专利技术的一实施例,在蒸发板上的蒸发源的一部分沉积在远离基材的屏蔽板的一侧上。根据本专利技术的一实施例,在提供基材至蒸发板上之前,还包括在基材上形成图案化油墨层,其中,图案化油墨层至少具有一图案化开口,使得在蒸发板上的蒸发源至少沉积在图案化开口中。根据本专利技术的一实施例,在提供基材至蒸发板上之前,基材具有形成在其上的对准标记,且此对准标记位于基材中经屏蔽的第一部分中。根据本专利技术的一实施例,基材包括可 挠式基材或玻璃基材。根据本专利技术的一实施例,屏蔽板的位置为可调整的。根据本专利技术的一实施例,以加热器加热在蒸发板上的蒸发源,使得蒸发源蒸发并沉积在基材中经暴露的第二部分上。根据本专利技术的一实施例,提供一种形成部分沉积层的装置。形成部分沉积层的装置包括腔室、载体以及屏蔽板。腔室具有配置在其中的蒸发板。载体配置在腔室中,且位于蒸发板上,用以运送基材并使基材朝预定方向移动。屏蔽板配置在蒸发板与载体之间,其中,屏蔽板屏蔽基材的第一部分并暴露基材的第二部分。根据本专利技术的一实施例,在蒸发板上的蒸发源包括金属。根据本专利技术的一实施例,在蒸发板上的蒸发源包括Al、Ni、Au、Pt、Cr、Fe、Cu、Sn、Ag、Ti、Pb、Zn或其中的组合。根据本专利技术的一实施例,载体包括用以朝预定方向转动的滚轮,且基材置放在滚轮上。根据本专利技术的一实施例,基材包括可挠式基材或玻璃基材。根据本专利技术的一实施例,形成部分沉积层的装置还包括置放在腔室中,用以支撑屏蔽板的支撑架。根据本专利技术的一实施例,屏蔽板的数量为一或多个。根据本专利技术的一实施例,形成部分沉积层的装置还包括用以加热蒸发板的加热器。根据本专利技术的一实施例,基材至屏蔽板的距离为O. Icm 5cm。根据本专利技术的一实施例,基材至屏蔽板的距离为O. 5cm 1cm。基于上述,形成部分沉积层的装置包括置放在腔室中且位在欲沉积的基材之间的屏蔽板、屏蔽板上的部分沉积层以及蒸发板,使得在蒸发板上蒸发源的蒸发途径被屏蔽板所屏蔽,蒸发源仅沉积在基材的第二部分。根据本专利技术实施例的形成部分沉积层的方法不需任何洗涤制程或清洁制程,且就在进行蒸发制程之后形成部分沉积层。因此防止了污染的问题,且此方法相当简单。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合所附图式作详细说明如下。其中,在图式及说明中所使用的相同或类似的标号表示相同或类似的设备。为了清楚叙述本专利技术的概念,在配合所附图式的实施例中,设备的形状及厚度可能不完全与真实情况相符。此外,以下的叙述说明了元件或其组合,然而元件并不特定限制于此些内容或说明。任何所属
中具有通常知识者所现有的形式或形状均可应用于本专利技术中。另夕卜,一材料层配置在基材或另一材料层上的叙述意指一材料层直接位在基材或另一材料层上,也可能表示有一些中间层介在此材料层及基材之间,或是在此材料层及另一材料层之间。附图说明图I为根据本专利技术的一实施例绘示的一种形成部分沉积层的装置;图2为图I中所示装置的一部分构件的俯视图;图3为图I中所示装置的一部分构件的 侧视图;图4为根据本专利技术的一实施例所绘示,当进行沉积制程时,沿图2的A-A'线的剖面图;图5为根据本专利技术的一实施例所绘示,使用图I中所示装置而形成于基材上的分层;图6为根据本专利技术的另一实施例所绘示,使用图I中所示装置而形成于基材上的分层;图7为绘示沿图6的B-B线的剖面图。附图标记说明10、20 :装饰膜;100 :装置;110:腔室;120 :载体;122、124:滚轮;130 :蒸发板;132 :蒸发源;134 :加热器;140 :屏蔽板;142 :支撑架;144 :材料层;150 :基材;150A :第一部分;150B :第二部分;152:部分沉积层;154 :对准标记;160 :进料器;170 :真空检测计;182、184:泵系统;190 :光学密度检测器;210:图案化油墨层;2IOA :图案化开口;A-A'、B-B:线;D :预定方向;d:距离。具体实施例方式以下详细说明本专利技术的实施例,其实例绘示在所附图式中。在任何可能情况下,图式与说明书中所使用的相同标号为代表相同或类似的部分。图I为根据本专利技术的一实施例绘示的一种形成部分沉积层的装置。请参照图1,装置100包括腔室110、载体120、蒸发板13 0以及屏蔽板140。其中,载体120、蒸发板130及屏蔽板140配置在腔室110内。载体120为用以运送基材150,且其位置与蒸发板130相对,其中,在蒸发板130中置放蒸本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种形成部分沉积层的方法,包括:在一蒸发板上提供一基材;在该蒸发板与该基材之间置放一屏蔽板,使得该屏蔽板屏蔽该基材的一第一部分,并暴露该基材的一第二部分;以及当该基材朝一预定方向移动时,进行一蒸发制程,使得在该蒸发板上的一蒸发源沉积在该基材中经暴露的该第二部分上,而不沉积在该基材中经屏蔽的该第一部分上。

【技术特征摘要】
2011.05.05 US 13/101,1611.ー种形成部分沉积层的方法,包括 在一蒸发板上提供一基材; 在该蒸发板与该基材之间置放ー屏蔽板,使得该屏蔽板屏蔽该基材的ー第一部分,并暴露该基材的一第二部分;以及 当该基材朝ー预定方向移动时,进行一蒸发制程,使得在该蒸发板上的ー蒸发源沉积在该基材中经暴露的该第二部分上,而不沉积在该基材中经屏蔽的该第一部分上。2.根据权利要求I所述的形成部分沉积层的方法,其中在该蒸发板上的该蒸发源包括金属。3.根据权利要求I所述的形成部分沉积层的方法,其中在该蒸发板上的该蒸发源包括Al、Ni、Au、Pt、Cr、Fe、Cu、Sn、Ag、Ti、Pb、Zn 或其中的组合。4.根据权利要求I所述的形成部分沉积层的方法,其中在该蒸发板上的该蒸发源的一部分沉积在远离该基材的该屏蔽板的ー侧上。5.根据权利要求I所述的形成部分沉积层的方法,还包括 在提供该基材至该蒸发板上之前,在该基材上形成一图案化油墨层; 其中,该图案化油墨层至少具有ー图案化开ロ,使得在该蒸发板上的该蒸发源至少沉积在该图案化开口中。6.根据权利要求I所述的形成部分沉积层的方法,其中在提供该基材至该蒸发板上之前,该基材具有形成在其上的ー对准标记,且该对准标记位于该基材中经屏蔽的该第一部分中。7.根据权利要求I所述的形成部分沉积层的方法,其中该基材包括可挠式基材或玻璃基材。8.根据权利要求I所述的形成部分沉积层的方法,其中该屏蔽板的位置为可调整的。9....

【专利技术属性】
技术研发人员:李浚源黄韦翔郑舒尹
申请(专利权)人:锣洋科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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