【技术实现步骤摘要】
本技术涉及电子制造
，特别是涉及一种用于生产高分子电容的氧化剂溶液连续供给装置。
技术介绍
现有技术中，在生产高分子电容的流水作业中，在加氧化剂的时候需要将设备停止运行后，打开安全门，用烧杯将氧化剂倒入流水作业的含浸盘内。而生产过程中设备的密封性对产品也会有所影响，此种操作方式在生产过程中经常打开安全门也会对电容的质量产生影响，另外如果氧化剂溶液供给不足会造成次品多，整体流水操作效率也不比较低。
技术实现思路
本技术主要解决的技术问题是提供一种用于生产高分子电容的氧化剂溶液连续供给装置，能够改善设备使用效率，同时提高了产品质量。为解决上述技术问题，本技术采用的一个技术方案是提供一种用于生产高分子电容的氧化剂溶液连续供给装置，包括机架、漏斗、流量控制阀、导液管和含浸槽，所述流量控制阀安装在漏斗的下方，用于控制导液管的流量，所述导液管联通漏斗和含浸槽，所述含浸槽铺设在机架的上部。在本技术一个较佳实施例中，为使漏斗内的氧化剂溶液顺利进入含浸盘内，利用地球引力的原理，所述漏斗悬挂在含浸槽的上部，漏斗通过流量控制阀将氧化剂溶液送入含浸盘内。本技术的有益效果是本技术供给装置在聚合工位时可以在设备不停机的情况下连续添加氧化剂溶液，提高了设备的运行效率，减小了产品的质量差异。附图说明图I是本技术用于生产高分子电容的氧化剂溶液连续供给装置一较佳实施例的结构示意图。附图中各部件的标记如下1、机架；2、漏斗；3、流量控制阀；4、导液管；5、含浸槽。具体实施方式以下结合附图对本技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本技术的保护范围...
【技术保护点】
一种用于生产高分子电容的氧化剂溶液连续供给装置，其特征在于：包括机架、漏斗、流量控制阀、导液管和含浸槽，所述流量控制阀安装在漏斗的下方，用于控制导液管的流量，所述导液管联通漏斗和含浸槽，所述含浸槽铺设在机架的上部。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：章海波，吴烈，陆晓春，冼顺福，孔培林，
申请(专利权)人：基美电子苏州有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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