清洁半导体基片的方法和装置制造方法及图纸

提供用于清洁基片的方法。该方法开始于将活化溶液应用于该基片表面。该活化溶液和该基片表面与固态清洁表面的表面接触。该活化溶液被吸收进该固态清洁元件一部分，然后该晶元基片或该固态清洁表面相对彼此移动以清洁该基片表面。还提供一种用遭受塑性变形的固态清洁元件清洁该基片表面的方法。还提供相应的清洁设备。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种用于清洁基片的方法，包括如下方法操作：　将活化溶液应用于该基片表面；　将固态清洁元件的表面接触该活化溶液和该基片表面；　将该活化溶液吸收进该固态清洁元件的一部分；和　将该基片或该固态清洁元件的一个相对彼此移动以清洁该基片表面。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：埃里克M弗里尔，弗雷德C雷德克，卡特里娜米哈利钦科，迈克尔拉夫金，米哈伊尔科罗利克，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]