平面马达和包括这种平面马达的光刻设备制造技术

本发明专利技术公开了一种平面马达以及包括该平面马达的光刻设备。该平面马达包括：定子，包括多个定子极，多个定子极以具有第一节距的重复布置的方式布置，多个定子极面对移动平面的第一侧；和动子，包括多个动子极，多个定子极以具有第二节距的重复布置的方式布置，多个动子极面对移动平面的相对的第二侧。定子和动子的至少一个的极设置有绕组以响应于通过相应绕组的电流改变定子极和动子极相应一个内的磁场。定子和动子的至少一个包括永磁体，用于产生从永磁体延伸经过定子和动子的至少一个相应的极至定子和动子的另一个并返回的磁场。第一和第二节距彼此不同，使得当动子的一个动子极与定子的一个定子极对准，动子的其他动子极与定子的定子极不对准。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种平面马达和包括这种平面马达的光刻设备。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(ICs)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包 括所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。在光刻技术中，需要例如平面马达等高功率电动马达，例如以能够使得保持衬底的衬底台或保持图案形成装置的支撑结构移动。一方面，高的加速度需要功率高的马达。另一方面，高功率的马达带来重量大的移动部分，由于将要移动的结构的较大的质量，这对将要实现的最大加速度产生负面的影响。而且，兼容性起重要作用。在应用多个马达单元的情形中，例如用于沿X方向推进的马达单元和沿y方向推进的马达单元，与多个马达单元相互连接的结构的兼容性可能限制将要实现的移动的动态性能和最大带宽。
技术实现思路
期望提供一种平面马达，其能够提供高的加速度和高的带宽。根据本专利技术的一个实施例，提供一种光刻设备，设置有平面马达，所述平面马达包括定子，包括多个定子极，所述多个定子极以具有第一节距的重复布置方式布置，多个定子极面对移动平面的第一侧，动子，包括多个动子极，所述多个动子极以具有第二节距的重复布置方式布置，多个动子极面对移动平面的相对的第二侧，其中定子和动子中的至少一个的极设置有绕组，以便响应于通过相应的绕组的电流改变定子极和动子极中相应的一个内的磁场，其中定子和动子中的至少一个包括永磁体，用于产生从永磁体延伸经过定子和动子中的至少一个相应的极至定子和动子中的另一个并返回的磁场，其中第一节距和第二节距彼此不同，使得当动子的一个动子极与定子的一个定子极对准时，动子的其他动子极与定子的定子极不对准。在本专利技术的另一实施例中，提供一种照射系统，配置成调节辐射束；支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化辐射束；衬底台，构造成保持衬底；和投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上，其中光刻设备包括根据本专利技术的平面马达， 所述平面马达是支撑结构和衬底台中一个的驱动马达。附图说明现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本专利技术的实施例，其中，在附图中相应的附图标记表示相应的部件，且其中图I示出根据本专利技术一个实施例设置于其中的光刻设备；图2示出根据本专利技术一个实施例的平面马达的示意侧视图；图3示意地示出根据本专利技术一个实施例的平面马达的侧视图；图4示出根据本专利技术一个实施例的平面马达的示意侧视图；图5示出根据本专利技术一个实施例的平面马达的示意侧视图；图6示出根据本专利技术一个实施例的平面马达的示意侧视图；图7示出根据本专利技术一个实施例的平面马达的示意俯视图；以及图8示出根据本专利技术一个实施例的平面马达的示意俯视图。具体实施例方式图I示意地示出了根据本专利技术的一个实施例的光刻设备。所述光刻设备包括照射系统(照射器)IL，其配置用于调节辐射束B (例如，紫外(UV)辐射或任何其他合适的辐射)；掩模支撑结构(例如掩模台)MT，其构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA，并与用于根据确定的参数精确地定位图案形成装置MA的第一定位装置PM相连。所述设备还包括衬底台(例如晶片台)WT或“衬底支撑结构”，其构造用于保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于根据确定的参数精确地定位衬底W的第二定位装置PW相连。所述设备还包括投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，其配置用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C (例如包括一根或多根管芯)上。照射系统IL可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。所述掩模支撑结构MT支撑，即承载图案形成装置的重量。掩模支撑结构以依赖于图案形成装置MA的方向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置MA是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置MA。所述掩模支撑结构MT可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术保持图案形成装置MA。所述掩模支撑结构MT可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述掩模支撑结构MT可以确保图案形成装置MA位于所需的位置上(例如相对于投影系统)。在这里任何使用的术语“掩模版”或“掩模”都可以认为与更上位的术语“图案形成装置”同义。这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。应当注意，被赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分上的所需图案完全相符(例如如果该图案包括相移特征或所谓的辅助特征)。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。图案形成装置MA可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型和衰减型相移掩模类型以及各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。这里使用的术语“投影系统”应该广义地解释为包括任意类型的投影系统，投影系统的类型可以包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其他因素所适合的。这里使用的术语“投影透镜”可以认为是与更上位的术语“投影系统”同义。如这里所示的，所述设备是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替代地，所述设备可以是反射型的(例如，采用如上所述类型的可编程反射镜阵列，或采用反射式掩模)。光刻设备可以是具有两个(双台)或更多衬底台或“衬底支撑结构”(和/或两个或多个掩模台或“掩模支撑结构”)的类型。在这种“多台”机器中，可以并行地使用附加的台或支撑结构，或可以在一个或更多个台或支撑结构上执行预备步骤的同时，将一个或更多个其它台或支撑结构用于曝光。光刻设备还可以是至少一部分衬底可以被具有相对高折射率的液体(例如水)覆盖、以便填充投影系统和衬底之间的空间的类型。浸没液体还可以被施加至光刻设备中的其它空间，例如在掩模和投影系统之间。浸没技术用于增加投影系统的数值孔径。如在此处所使用的术语“浸没”并不意味着诸如衬底等结构必须浸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设置有平面马达的光刻设备，所述平面马达包括：定子，包括多个定子极，所述多个定子极以具有第一节距的重复布置方式布置，多个定子极面对移动平面的第一侧，动子，包括多个动子极，所述多个动子极以具有第二节距的重复布置方式布置，多个动子极面对移动平面的相对的第二侧，其中所述定子和动子中的至少一个的极设置有绕组，以便响应于通过相应的绕组的电流改变定子极和动子极中相应的极内的磁场，其中所述定子和动子中的至少一个包括永磁体，用于产生从永磁体延伸经过定子和动子的至少一个相应的极至定子和动子中的另一个并返回的磁场，其中第一节距和第二节距彼此不同，使得当动子的动子极中的一个与定子的定子极中的一个对准时，动子的其他动子极与定子的定子极不对准。

【技术特征摘要】
2011.03.30 US 61/469,5161.一种设置有平面马达的光刻设备，所述平面马达包括 定子，包括多个定子极，所述多个定子极以具有第一节距的重复布置方式布置，多个定子极面对移动平面的第一侧， 动子，包括多个动子极，所述多个动子极以具有第二节距的重复布置方式布置，多个动子极面对移动平面的相対的第二侧， 其中所述定子和动子中的至少ー个的极设置有绕组，以便响应于通过相应的绕组的电流改变定子极和动子极中相应的极内的磁场， 其中所述定子和动子中的至少ー个包括永磁体，用于产生从永磁体延伸经过定子和动子的至少ー个相应的极至定子和动子中的另ー个并返回的磁场， 其中第一节距和第二节距彼此不同，使得当动子的动子极中的一个与定子的定子极中的ー个对准时，动子的其他动子极与定子的定子极不对准。2.如权利要求I所述的光刻设备，其中所述定子极和动子极朝向移动平面形成锥形。3.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述定子极和动子极在其一侧设置有面对移动平面的锥形边缘。4.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述定子极和动子极是至少双开槽的。5.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述第一节距是恒定节距，且第二节距被设置成使得动子极以360度除以N的相差设置，其中N等于动子的动子极的数量。6.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述动子包括至少三个动子扱。7.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述动子包括四个动子扱。8.如权利要求7所述光刻设备，其中所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·A·J·霍尔，E·J·布斯，E·维基恩，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：