液晶显示装置的制造方法制造方法及图纸

液晶显示装置的制造方法。根据一种实施方式的方法包括采用密封剂将具有薄膜晶体管的第一基板与具有黑底和滤色器的第二基板相结合。而且，该方法包括以下步骤：形成吸收层，该吸收层被布置为与所述密封剂的边缘交叠并由激光器灼烧；通过照射紫外线以使部分地覆盖所述吸收层的所述密封剂硬化；采用激光束灼烧所述吸收层；以及采用划线器经由灼烧后的吸收层和与所述吸收层相对的所述第二基板来切割所述密封剂。

【技术实现步骤摘要】

本申请要求2011年4月13日提交的韩国专利申请No. 10-2011-0034466的优先权，其以引证的方式整体并入本文中。本专利技术涉及一种液晶显示(IXD)装置，更具体地讲，涉及一种能增强LCD装置的可靠性并能通过减小边框尺寸而实现窄边框面板的LCD装置的制造方法。
技术介绍
通常，IXD装置将与图像信息相对应的数据信号施加到按有源矩阵形状布置的液晶盒，并控制液晶盒的透射率以显示所需图像。为此，LCD装置包括被配置为显示图像的LCD面板以及用于将驱动信号施加到LCD面板的驱动电路。IXD面板包括以固定间距相结合的第一玻璃基板和第二玻璃基板，以及介于第一 玻璃基板和第二玻璃基板之间的具有各向异性介电常数的液晶层。这种LCD面板通过调节施加到具有各向异性介电常数的液晶层的电场来控制透光量，从而显示所需图像。第一玻璃基板(薄膜晶体管阵列基板)包括多条选通线、多条数据线、多个像素电极以及多个薄膜晶体管。所述选通线以彼此相隔固定间隔的方式设置在第一玻璃基板的一个方向上。所述数据线以彼此相隔固定间隔的方式设置在与选通线的设置方向垂直的另一方向上。像素电极形成在由彼此相交的选通线和数据线分别限定的像素区内。薄膜晶体管由各条选通线上的信号切换，并将各条数据线上的信号发送到各个像素电极。第二玻璃基板(滤色器基板)包括黑底层、红色滤色器层、绿色滤色器层、和蓝色滤色器层以及公共电极。黑底层用于对第二玻璃基板的像素区以外的其余部分进行遮光。红色滤色器层、绿色滤色器层、和蓝色滤色层用于实现各种颜色。公共电极用于实现图像。采用密封剂来结合第一玻璃基板和第二玻璃基板并在第一玻璃基板和第二玻璃基板之间具有由间隔体提供的固定间距。然后，在第一玻璃基板和第二玻璃基板之间形成液晶层。因此，IXD装置将开启信号顺序地施加到选通线，并在施加了开启信号时将数据信号提供给数据线，从而在LCD面板上显示所需图像。通过采用密封剂对隔开固定间距的第一玻璃基板和第二玻璃基板进行结合并在两个基板之间形成液晶层来制成LCD面板。第一玻璃基板具有边缘区。因此第一玻璃基板比第二玻璃基板面积更大。在第一玻璃基板的未与第二玻璃基板交叠的边缘区中形成与选通线相连的选通焊盘部及与数据线相连的数据焊盘部。为了保持相结合的第一玻璃基板和第二玻璃基板之间的单元间隙，采用紫外(UV)线来使密封剂硬化。然后，以LCD面板为单位来切割和处理相结合的玻璃基板。同时，采用划线密封法来使边框区域最小化，即在密封剂上照射激光束并切割相结合的基板。换句话说，划线密封法在切割处理之前通过在密封剂上聚焦激光来进行灼烧处理。然而，密封剂吸收的波长范围是有限的。因此必须为灼烧处理提供一种高能激光束。更具体地讲，采用透明丙烯酸基材料和透明环氧基材料形成密封剂，并通过紫外线照射使其硬化为浅灰色固体。如果采用激光束对浅灰色的硬化密封剂进行灼烧处理，则激光束必须具备高能量(或大功率)。这是因为浅灰色密封剂吸收的波长范围是有限的。如果在切割第二玻璃基板的处理前采用高能激光束进行灼烧处理，则切割平面的周缘会受到高能激光束产生的热量损伤。而且，密封剂也会受到损伤。因此，LCD装置的可靠性降低。
技术实现思路
因此，本实施方式针对的是一种IXD装置的制造方法，该方法基本上避免了由于现有技术的限制和缺点所导致的一个或多个问题。本实施方式的目的是提供一种LCD装置的制造方法，用于通过在密封剂的一部分 上形成树脂图案或颜料图案、结合上下基板、并在划线处理之前采用激光束对密封剂上的树脂图案或颜料图案进行灼烧处理，以实现窄边框面板并增强LCD装置的可靠性。实施方式的附加特征和优点将在下文描述，其中一部分根据描述是显而易见的，或者可从实施方式的实践中获知。从说明书和权利要求的文字以及附图中特别指出的结构可实现和获得实施方式的优点。根据本专利技术一个总的方面的LCD装置的制造方法包括采用密封剂将具有薄膜晶体管的第一基板与具有黑底和滤色器的第二基板相结合。而且，该LCD装置的制造方法包括以下步骤形成吸收层，该吸收层被布置为与所述密封剂的边缘交叠并由激光器灼烧；通过照射紫外线来使部分地覆盖有所述吸收层的所述密封剂硬化；采用激光束灼烧所述吸收层；以及采用划线器经由灼烧后的吸收层和与所述吸收层相对的所述第二基板来切割所述密封剂。通过研究以下附图和详细描述，其它系统、方法、特征和优点对于本领域技术人员而言也是显而易见的。所有这些附加系统、方法、特征和优点均包含在本说明书中，均落入本专利技术的范围并受到所附权利要求的保护。本节的任何内容都不得作为对权利要求的限制。下面结合实施方式探讨更多的方面和优点。应当理解，关于本专利技术的上述一般性描述和下列详细描述都是示例性和说明性的，旨在提供对所要求保护的专利技术的进一步理解。附图说明附图用于提供对于实施方式的进一步理解，其合并到本申请中并且构成本申请的一部分，附图示出了本专利技术的实施方式并与文字描述共同说明本专利技术。其中图I是根据本专利技术的一种实施方式的IXD装置的截面图；图2是示出一种制造如图I所示的IXD装置的方法的示图；图3是示出如图2所示的第一玻璃基板和第二基板结合状态的截面图；以及图4A至图4C是示出当如图3所示的第一玻璃基板和第二基板结合后所进行的处理的截面图。具体实施方式下面将详细参照本专利技术的实施方式进行描述，其示例如附图所示。后文将所介绍的实施方式作为示例提供，以向本领域普通技术人员传达其精神。因此，这些实施方式可以不同形式实现而不限于此处所述。在附图中，可对装置的大小、厚度等进行放大以便于说明。在整个公开文件(包括附图)中尽可能采用相同的附图标记来表示相同或类似的部分。图I是根据本专利技术的一种实施方式的IXD装置的截面图。如图I所示，根据本专利技术的一种实施方式的IXD装置包括第一基板100和第二基板200。第一基板100和第二基板200可被限定为有源区AA和非显示区NA。有源区AA用于显示图像。薄膜晶体管TFT和像素电极130形成在第一基板100的有源区AA内，用于在第一基板100上显示图像。非显示区NA被制备为不进行图像显示。在第一基板100的非显示区NA内形成焊 盘230。焊盘230与外部驱动电路相连并用于向有源区AA内的元件传送图像信号。这种焊盘230可划分为焊盘部210和接地部220。焊盘部210可包括选通部和数据部。接地部220执行接地功能。第二基板200可包括顺序形成于有源区AA内的黑底190、滤色器180和公共电极。黑底190形成在与薄膜晶体管TFT相对的位置。而且，黑底190形成在IXD装置(即第二基板200)的边缘，以防止有源区AA之外的其它区域漏光。在第一基板和第二基板之间的非显示区NA内形成密封剂160。在第一基板100和第二基板200之间的有源区AA内形成液晶层150。由导电材料(例如金属)在第一基板100上形成栅极102。形成包含氮化硅SiNx或氧化硅SiO2的栅极绝缘膜110以覆盖栅极102。在栅极绝缘膜110形成上与栅极102相对的有源层104。有源层104由非晶硅形成。而且，在有源层104上形成欧姆接触层106。欧姆接触层106可由掺杂有杂质的非晶硅形成。在欧姆接触层106上形成源极108a和漏极108b。源极108a和漏极108b由导电材料(例如金属)形成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种LCD装置的制造方法，该方法包括采用密封剂将具有薄膜晶体管的第一基板与具有黑底和滤色器的第二基板相结合，该方法包括以下步骤：形成吸收层，该吸收层被布置为与所述密封剂的边缘交叠并由激光器灼烧；通过照射紫外线来使部分地覆盖有所述吸收层的所述密封剂硬化；采用激光束灼烧所述吸收层；以及采用划线器经由灼烧后的吸收层和与所述吸收层相对的所述第二基板来切割所述密封剂。

【技术特征摘要】
2011.04.13 KR 10-2011-00344661.一种LCD装置的制造方法，该方法包括采用密封剂将具有薄膜晶体管的第一基板与具有黑底和滤色器的第二基板相结合，该方法包括以下步骤 形成吸收层，该吸收层被布置为与所述密封剂的边缘交叠并由激光器灼烧； 通过照射紫外线来使部分地覆盖有所述吸收层的所述密封剂硬化； 采用激光束灼烧所述吸收层；以及 采用划线器经由灼烧后的吸收层和与所述吸收层相对的所述第二基板来切割所述密封剂。2.如权利要求I所述的方法，其中，与所述密封剂相比，所述吸收层具有更宽的激光波长吸收范围。3.如权利要求I所述的方法，其中，所述吸收层由颜料和树脂基材料二者之一形成。4.如权利要求3所述的方法，其中，当所述吸收层由所述树脂基材料形成时，所述吸收层由与所述黑底相同的材料并通过与所述黑底相同的处理与所述黑底同时形成。5.如权利要求3所述的方法，其中，当所述吸收层由所述颜料形成时，所述吸收层由与所述滤色器相同的材料并通过与所述滤色器相同的处理与所述滤色器同时形成。6.如权利要求I所述的方法，其中，通过掩模处理形成图案来形成与所述密封剂的边缘交叠的所述吸收层。7.如权利要求I所述的方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李挥得，朴东锡，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：