本实用新型专利技术提供一种输送起伏式的化学浴沉积设备，一种输送起伏式的化学浴沉积设备，其特征在于，包含有：一浴槽，用以盛放有一溶液；以及一传送单元，具有多个输送滚轮，设置于该浴槽中用以传送一药液盒，其中，该多个输送滚轮以高低起伏的排列方式而配置其主要用于在制作太阳能电池的基板上沉积至少一层薄膜，其中本实用新型专利技术的化学浴沉积设备利用高低起伏的基板传送方式，使药液可均匀地扩散并覆盖于基板的各处上，以使薄膜可以全面且均匀地于成长于基板上，进而提升薄膜厚度的均一性。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及ー种化学浴沉积设备，尤其是ー种涉及利用高低连绵起伏的基板传送方式，使药液可均匀地覆盖于基板上，进而使基板上形成具有薄膜厚度均一性良好的化学浴沉积设备。
技术介绍
现今电子エ业迅速发展，许多电子产品都需要应用到物理沉积技术或化学沉积技木。另外全世界面临石油能源耗竭、成本高昂及环保等问题，造成太阳能与氢能源燃料电池的需求与日俱增，由于太阳能电池制造时，必须在一基材上构成多种沉积层(薄膜)，才能有效的发挥其功能，足见沉积制程为电子产业及民生产业ー个极为要的关键技木。现有的化学浴沉积(Chemical Bath Deposition, CBD)制程及其设备为沉积技术 之一，其将表面预作处理的一基材(例如单、多晶硅基板、非晶硅基板等)浸入化学药液中持续一定时间，在该基材表面沉积形成半导体薄膜。但现有的化学浴沉积设备，将基材完全浸入化学药液之中，如此将导致该基材双面都成膜，然而该基材实际应用上只需要其中一面已足，多余部分形同资源的浪费，并导致制造成本増加。图I为现有技术的化学浴沉积设备的示意图。化学浴沉积设备包含有输送单元20及热水浴槽30，输送单元20用于传送药液盒40，其中输送单元20由多个输送滚轮201组成，该药液盒40由基板401及药液盖403组装密合而成，药液盒40并注入有可覆盖于基板401上的药液50，如此基板401只有一面受到药液50的覆盖。热水浴槽30内具有热水浴301，热水浴301具有液面3011，而输送滚轮201则设置于该热水浴301液面3011之下，输送滚轮201在传送药液盒40吋，药液盒40的部份会浸泡于热水浴301中，由于在药液盒40内的药液50在传送过程中受到热水浴301的加热作用，进而促使药液50进行化学沉积作用。然而现有技术的缺点在于薄膜沉积厚度不均匀的问题，其因为当药液注入于药液盒时，药液无法均匀地分散于基板上，如果要让基板上各处都被药液覆盖，必须增加更多的药液量，但药液量増加会导致基板形变甚至破裂，因此本技术提供一种在不增加药液量的情形下，可使药液可均匀分布于基板上的化学浴沉积设备，进而提升薄膜厚度的均一性。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种输送起伏式的化学浴沉积设备，其中利用高低连绵起伏的基板传送方式，使药液可均匀地覆盖于基板上，进而使基板上形成具有薄膜厚度均一性良好的化学浴沉积设备。为达上述目的，本技术的具体技术手段包含有一传送单元及一盛放有溶液的浴槽，该传送単元设置于浴槽中用以传送ー药液盒，该药液盒由一基板及一药液盖组装密合而成，该药液盒注入一药液以使药液覆盖于该基板上，其中该传送単元由多个输送滚轮组成，该多个输送滚轮的配置低于该溶液的液面并以高低连绵起伏的排列方式而配置。藉由上述设备，本技术可有效解决现有技术的缺失，并提升薄膜沉积的均一性。附图说明图I为现有技术的化学浴沉积设备的示意图；图2为本技术的输送起伏式的化学浴沉积设备的侧面示意图；图3为本技术的输送起伏式的化学浴沉积设备的药液盒传送示意图；图4为本技术的输送起伏式的化学浴沉积设备的第一实施例示意图；以及图5为本技术的输送起伏式的化学浴沉积设备的第二实施例示意图。 具体实施方式以下配合说明书附图对本技术的实施方式做更详细的说明，以使本领域技术人员在研读本说明书后能据以实施。參考图2，图2为本技术的输送起伏式的化学浴沉积设备的侧面示意图。本技术的化学浴沉积设备I主要用于在制作太阳能电池的基板上沉积至少ー层薄膜，利用输送滚轮31高低起伏的排列方式来传送基板，使基板上的药液可均匀地且持续性的动态性的扩散以覆盖于基板的各处上，使薄膜可以均匀地于成长于基板表面上而提升薄膜厚度的均一性。參考图3，图3为本技术的输送起伏式的化学浴沉积设备的药液盒传送示意图。该输送起伏型的化学浴沉积设备I至少包含有一传送单元3及一浴槽5，该传送単元3设置于该浴槽5中，该传送単元3用于传送一药液盒7，该药液盒7至少由一基板71及ー药液盖73组装密合而成，其中该基板71为非晶娃基板、单晶娃基板、多晶娃基板、微晶娃基板或神化镓基板的至少其中之一。该基板71具有一上表面711，该药液盒7供ー药液2注入其中，以使该药液2可覆盖于该基板71的上表面711，其中该传送単元3由多个输送滚轮31组成。要注意的是，上述本技术所述的药液盒7只是用以方便说明的实例而已，并不是用以限定本技术的范围，亦即所有能与基板构组成一固定密合的结构体都落在本技术的范围之内。该浴槽5可以是ー密闭槽体，盛放有一溶液，此溶液在此可为一温度高于室温的热水浴51，也可视制程需要置换为温度低于室温的热水浴51。所述输送滚轮31设置于该热水浴51的液面511之下，其中该浴槽5具有一内壁面53及一外壁面55，其中在该内壁面53及该外壁面55之间进ー步设置一保温材8藉以防止该浴槽5内的热水浴51温度有变化过剧的情形。亦可在内壁面53及外壁面55之间设置一加热器或冷却器(图未显示)以调节浴槽的温度。其中本技术的特征在于所述输送滚轮31以高低起伏的排列方式而配置于该热水浴51之中，亦即将所述输送滚轮31位于该浴槽5的前侧部分先配置成逐渐下降的方式，然后再将所述输送滚轮31配置成逐渐上升的方式，并以上述方式交替地以渐升渐降的方式往后继续配置，其配置密度及渐升渐降的行进的长度实际需求而定。当然也可以将所述输送滚轮31位于该浴槽5的前侧部分先配置成逐渐上升的方式，而接续于其后的所述输送滚轮31配置成逐渐下降的方式，并以上述方式交替地以渐升渐降的方式往后继续配置。參考图4，图4为本技术的输送起伏式的化学浴沉积设备的第一实施例示意图。其中本技术可进ー步包含有多个传动轴33，所述传动轴33分别穿设于所述输送滚轮31之中，且所述传动轴33之中的任相邻两传动轴33的各轴心间的水平高度皆具有一落差，其中所述传动轴33的排列方式可以配置成逐渐上升再逐渐下降的方式，并根据上述的排列方式做交替性的配置，或者也可配置成先逐渐下降再逐渐上升的方式。其中更包含有多个支撑座组35，所述支撑座组35可分别架设有所述传动轴33，其中为使所述输送滚轮31整体可以呈现高低起伏状，可使用多种高低尺寸不同的所述支撑座35，并依照所述支撑座组35的尺寸由高渐至低、再由低渐至高的排列方式往后做交替的配置，当然支撑座组35尺寸也可先从低渐至高、再从高渐至低的排列方式往后做交替的配置，透过上述方式的配置，可令所述输送滚轮31整体可以呈现高低起伏状。 其中每ー支撑座组35皆具有一开ロ对351，该开ロ对351供一传动轴33的两端放置，其中可令所述支撑座组35中各自该开ロ对351的设置高度不同，再依照所述支撑座组35中各自该开ロ对351的设置高度由高渐至低、再由低渐至高的排列方式往后做交替的配置，当然所述支撑座组35中各自该开ロ对351的设置高度也可先从低渐至高、再从高渐至低的排列方式往后做交替的配置，透过上述方式的配置，亦可使所述输送滚轮31整体可以呈现高低起伏状。參考图5，图5为本技术的输送起伏式的化学浴沉积设备的第二实施例示意图。其中更包含有多个尺寸一致的传动轴33分别穿设于该多个输送滚轮31内，且该多个输送滚轮31的任两相邻的输送滚轮31本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种输送起伏式的化学浴沉积设备，其特征在于，包含有：一浴槽，用以盛放有一溶液；以及一传送单元，具有多个输送滚轮，设置于该浴槽中用以传送一药液盒，其中，该多个输送滚轮以高低起伏的排列方式而配置。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：游柏清，蓝受龙，李玟澄，
申请(专利权)人：亚智科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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