【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种清洗沉积喷出头的方法，其可应用于半导体的化学气相沉积机台中，其中该方法的步骤包括： ａ）提供一化学反应槽，将沉积喷出头浸入该化学反应槽以超音波震荡； ｂ）提供一水槽，将该沉积喷出头浸入该水槽； ｃ）提供一异丙醇槽，将该沉积喷出头浸入该异丙醇槽；以及 ｄ）提供一烘干系统，以该烘干系统烘干该沉积喷出头；以完成清洗沉积喷出头的程序。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李景伦，
申请(专利权)人：华邦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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