本发明专利技术的课题在于提供一种抗反射膜，其制造成本低，另外具备优异的光学特性以及优异的耐擦伤性和抗静电功能。一种抗反射膜，其为在透明基材的至少一个面上，按照偏在层和低折射率层的顺序将二者层叠而得到的抗反射膜，其特征在于，前述偏在层通过至少从透明基材侧，使中间层、硬涂层、包含导电性材料的抗静电层、包含流平材料的流平层依序偏在而层叠得到，且前述流平材料至少包含具有氟的化合物或者具有硅氧烷键的化合物。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及以防止外部光在窗、显示器等的表面发生反射为目的而设置的抗反射膜。特别涉及设置于液晶显示器(LCD)、CRT显示器、有机电致发光显示器(ELD)、等离子体显示板(PDP)、表面电场显示器(SED)、场致发射显示器(FED)等显示器的表面的抗反射膜。特别涉及设置于液晶显示器(LCD)表面的抗反射膜。进一步涉及设置于透射型液晶显示器(LCD)表面的抗反射膜。
技术介绍
一般而言显示器不论是在室内还是室外使用，都是在外部光等入射的环境下使用。该外部光等入射光在显示器表面等发生镜面反射，由其导致的反射像与显示图像混合，从而降低屏幕显示品质。因此，必须赋予显示器表面等以抗反射功能，并且对抗反射功能的高性能化、除抗反射功能以外的功能的复合化提出了要求。··抗反射功能一般通过在透明基材上形成多层结构的防反射层而获得，所述多层结构的防反射层基于由金属氧化物等透明材料形成的高折射率层和低折射率层的重复结构而成。这些具有多层结构的防反射层可通过化学蒸镀(CVD)法、物理蒸镀(PVD)法这样的干式成膜法而形成。使用干式成膜法形成防反射层时，具有可精密控制低折射率层、高折射率层的膜厚的优点，而由于在真空中进行成膜，因此存在有生产率低，不适于大量生产的问题。而作为防反射层的形成方法，利用能实现大面积化、连续生产、低成本化的使用涂液的湿式成膜法来生产抗反射膜受到人们的注目。另外，这些在透明基材上设置有防反射层的抗反射膜，由于其表面比较柔软，因此为了赋予表面硬度，一般使用如下技术设置将丙烯酸类材料固化而获得的硬涂层，在其上形成防反射层。此硬涂层因采用丙烯酸类材料而具有高的表面硬度、光泽性、透明性、耐擦伤性。通过湿式成膜法形成防反射层时，在将这些电离放射线固化型材料固化而获得的硬涂层之上，至少涂布低折射率层而制造，与干式成膜法相比有可廉价制造的优点，广泛地进入市场。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开2005-202389号公报专利文献2 :日本特开2005-199707号公报专利文献3 :日本特开平11-92750号公报专利文献4 :日本特开2007-121993号公报专利文献5 :日本特开2005-144849号公报专利文献6 :日本特开2006-159415号公报专利文献7 :日本特开2007-332181号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题将抗反射膜设置于显示器表面，通过其抗反射功能能抑制外部光的反射，能提高亮处的对比度。另外，由于能同时提高透光率，因此可使图像更明亮地显示。另外还可期待抑制背光源的输出等的节能效果。在抗反射膜方面，要求开发出制造成本低的抗反射膜。另外在抗反射膜方面，要求开发出抗反射性能优异、无干涉不均的光学特性优异的抗反射膜。另外，由于抗反射膜设置于显示器表面因此要求高的耐擦伤性。另外，在抗反射膜方面，为了防止灰尘附着而要求开发出具备抗静电功能的抗反射膜。本专利技术的课题在于提供一种抗反射膜，其制造成本低，且 具备优异的光学特性以及优异的耐擦伤性及抗静电功能。用于解决问题的方案为了解决上述课题，权利要求I的专利技术为一种抗反射膜，其为在透明基材的至少一个面上，按照偏在层和低折射率层的顺序将二者层叠而得到的抗反射膜，其特征在于，前述偏在层通过至少从透明基材侧使中间层、硬涂层、包含导电性材料的抗静电层、包含流平材料的流平层依序偏在而层叠得到，且前述流平材料至少包含具有氟的化合物或者具有硅氧烷键的化合物。另外，权利要求2的专利技术为根据权利要求I所述的抗反射膜，其特征在于，前述抗反射膜的平行光线透光率在93%以上，且前述抗反射膜的雾度为1.0%以下的范围内，且前述抗反射膜的低折射率层表面的表面电阻值为lX105Q/cm2以上lX1012Q/cm2以下的范围内，且前述抗反射膜的低折射率层表面的纯水接触角为80°以上130°以下的范围内。另外，权利要求3的专利技术为根据权利要求I或2所述的抗反射膜，其特征在于，前述具有氟的化合物选自具有全氟烷基的化合物或者具有氟化链烯基的化合物。另外，权利要求4的专利技术为根据权利要求I 4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料选自季铵盐材料、金属氧化物颗粒、导电性高分子。另外，权利要求5的专利技术为根据权利要求I 4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且前述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且前述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且前述具有氟的化合物的分子量(A)为500以上100000以下。另外，权利要求6的专利技术为根据权利要求I 3中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且前述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且前述金属氧化物颗粒的平均粒径为Inm以上500nm以下，且前述具有氟的化合物的分子量(A)为500以上100000以下。另外，权利要求7的专利技术为根据权利要求I 4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且前述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且前述导电性高分子的平均粒径为Inm以上IOOOnm以下，且前述具有氟的化合物的分子量(A)为500以上100000以下。另外，权利要求8的专利技术为根据权利要求I 4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且前述流平层中所含的流平材料包含具有硅氧烷键的化合物，且前述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且前述具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为500以上100000以下。另外，权利要求9的专利技术为根据权利要求I 4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且前述流平层中所含的流平材料包含具有硅氧烷键的化合物，且前述金属氧化物颗粒的平均粒径为Inm以上500nm以下，且前述具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为500以上100000以下。另外，权利要求10的专利技术为根据权利要求I 4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且前述流平层中所含的流平材料包含具有硅氧烷键的化合物，且前述导电性高分子的平均粒径为Inm以上IOOOnm以下，且前述具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为500以上100000以下。 另外，权利要求11的专利技术为一种抗反射膜的制造方法，其为在透明基材的至少一个面上，按照偏在层和低折射率层的顺序将二者层叠而得到抗反射膜的制造方法，其特征在于，顺次具备如下工序形成偏在层的涂膜的涂布工序，在前述透明基材的至少一个面上，涂布偏在层形成涂液，形成偏在层的涂膜，上述偏在层形成涂液包含电离放射线固化型材料、导电性材料、流平材料和溶剂；对前述偏在层的涂膜实施第一次干燥和第二次干燥的干燥工序；对前述偏在层的涂膜照射电离放射线，形成偏在层的硬膜工序；涂布包含低折射率层形成材料和溶剂的低折射率层形成涂液，形成低折射率层的涂膜的涂布工序；将前述低折射率层的涂膜干燥的干燥工序；形成前述低折射率层的硬膜工序；且前述偏在层通过使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠得到，且前述流平材料至少包含具有氟的化合物或本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.01.22 JP 2010-011906;2010.01.27 JP 2010-015321.一种抗反射膜，其为在透明基材的至少一个面上，按照偏在层和低折射率层的顺序将二者层叠而得到的抗反射膜，其特征在于，所述偏在层通过至少从透明基材侧，使中间层、硬涂层、包含导电性材料的抗静电层、包含流平材料的流平层依序偏在而层叠得到，且所述流平材料至少包含具有氟的化合物或者具有硅氧烷键的化合物。2.根据权利要求I所述的抗反射膜，其特征在于，所述抗反射膜的平行光线透光率在93%以上，且所述抗反射膜的雾度在I. 0%以下的范围内，且所述抗反射膜的低折射率层表面的表面电阻值在I X IO5 Q /cm2以上I X IO12 Q /cm2以下的范围内，且所述抗反射膜的低折射率层表面的纯水接触角在80°以上130°以下的范围内。3.根据权利要求I或2所述的抗反射膜，其特征在于，所述具有氟的化合物选自具有全氟烷基的化合物或者具有氟化链烯基的化合物。4.根据权利要求I 4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料选自季铵盐材料、金属氧化物颗粒、导电性高分子。5.根据权利要求I 4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且所述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且所述季铵盐材料的分子量(Q)在1000以上100000以下，且所述具有氟的化合物的分子量(A)在500以上100000以下。6.根据权利要求I 3中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且所述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且所述金属氧化物颗粒的平均粒径为Inm以上500nm以下，且所述具有氟的化合物的分子量(A)为500以上100000以下。7.根据权利要求I 4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且所述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且所述导电性高分子的平均粒径为Inm以上IOOOnm以下，且所述具有氟的化合物的分子量(A)为500以上100000以下。8.根据权利要求I 4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含...
【专利技术属性】
技术研发人员：柴山直之，吉原俊昭，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：
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