【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种清洁反应室的方法，包括下列步骤：提供一气体混合物，其包含氧化亚氮以及三氟化氮，其中一氧化亚氮／三氟化氮的体积比至少为０．２；引入该气体混合物至该反应室；以及以该气体混合物产生一等离子体。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：张简旭珂，陈圣文，张宏睿，张振凉，王英郎，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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