直线式卷绕真空镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种直线式卷绕真空镀膜装置，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为放卷室，最后一个真空室为收卷室，放卷室和收卷室之间设有镀膜室；放卷室内设置放卷辊，收卷室内设置收卷辊；放卷室与其相邻的真空室之间设有第一真空锁，收卷室与其相邻的真空室之间设有第二真空锁。本直线式卷绕真空镀膜装置呈直直线式，可根据工艺的实际需要增加或减少真空室个数，使用方便，薄膜在加工过程中呈直线状，因此该装置可以适用于硬度各不相同的的多种薄膜镀膜，其适用范围广，设备维护时，可针对单个真空室进行单独维护，其维护成本低。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及卷绕真空镀膜
，特别涉及一种直线式卷绕真空镀膜装置。
技术介绍
目前常用于薄膜镀膜的装置一般为筒式真空设备，该设备只设有一个圆筒状的真空室，真空室内设置放卷辊、收卷辊及薄膜导辊等机构，薄膜的整个镀膜工艺(包括烘干、镀膜等)均在该真空室内完成。该筒式真空设备在实际生产应用中存在以下缺陷(I)该设备结构复杂，设备维护成本高； (2)该设备的真空室内空间小，只能适用于材质较软的薄膜材料的镀膜加工，对于材质较硬的材料(如薄片铜板等)不适用；(3)该设备只设有一个真空室，当镀膜完成需要更换新材料时，打开真空室后容易破坏整个生产工艺的真空气氛，影响后续镀膜工艺的正常进行，也容易影响产品质量。(4)该设备只设有一个真空室，所以薄膜镀膜时只有镀膜和烘干的工艺可以在该真空室内进行，而薄膜的清洗等工艺必须采用其它设备另外处理，使得工艺复杂，薄膜的清洁度也难以得到控制。同时，当需要对薄膜进行掩模处理时，该设备也无法实现此工艺。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种维护成本较低、适用范围也较广的直线式卷绕真空镀膜装置。本技术的技术方案为一种直线式卷绕真空镀膜装置，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为放卷室，最后一个真空室为收卷室，放卷室和收卷室之间设有镀膜室；放卷室内设置放卷辊，收卷室内设置收卷辊；放卷室与其相邻的真空室之间设有第一真空锁，收卷室与其相邻的真空室之间设有第二真空锁。所述多个真空室还包括第一离子轰击处理室、第一烘烤室、第二烘烤室和第二离子轰击处理室，按照薄膜的输送方向，放卷室、第一离子轰击处理室、第一烘烤室、镀膜室、第二烘烤室、第二离子轰击处理室和收卷室依次设置。所述镀膜室有3个，3个镀膜室呈直线排列并设于第一烘烤室和第二烘烤室之间，3个镀膜室结构相同。所述镀膜室内设有平面靶和掩模机构，掩模机构设于平面靶下方，掩模机构下方为薄膜。所述掩模机构为固定式掩模机构，包括掩模架、收丝盘和放丝盘，掩模架为四边形结构，掩模架的左右两侧边上设有多个缠绕辊，收丝盘和放丝盘分别设于掩模架右侧边的两端上，掩模丝从放丝盘放出后，经过多个缠绕辊缠绕固定，掩模丝的末端缠绕于收丝盘上。所述掩模机构为同步式掩模机构，包括掩模架、放丝轴、收丝轴和压丝辊，掩模架为四边形结构，放丝轴和收丝轴分别设于掩模架的左右两边，放丝轴上设有多个放丝盘，收丝轴上设有多个收丝盘，放丝盘和收丝盘一一对应设置，放丝轴的输出端和收丝轴的输入端分别设有压丝辊，各个放丝盘的输出端还相应设有一个张紧轮。所述第一真空锁和第二真空锁结构相同，包括定块、上滑组件和下滑组件，定块中部开有与真空室的通孔相对应的定块通孔，上滑组件和下滑组件分别与定块连接，上滑组件和下滑组件对称设于真空室的通孔的上下两侧，上滑组件设于真空室的通孔上方，下滑组件设于真空室的通孔下方；上滑组件包括上滑块、上导向块和上气缸，上滑块一侧与定块滑动连接，上滑块另一侧与上导向块滑动连接，上导向块为倒L形结构，上导向块顶部与定块顶面固定连接，上气缸输出端与上滑块顶部固定连接，定块与上滑块相接触的一面设有滑轮，上滑块上相应设有滑槽；上导向块的侧面底部设有滚轮，上滑块与滚轮相接触；下滑组件的结构与上滑组件对称，包括下滑块、下导向块和下气缸，下滑块与上滑块对称设于真空室通孔的上下两侧，下滑块一侧与定块滑动连接，下滑块另一侧与下导向块滑动连接，下导向块为L形结构,下导向块底部与定块底面固定连接,下气缸输出端与下滑块底部固定连接。该真空锁使用时，其原理是上气缸动作，驱使上滑块向下滑动，定块上的滑轮与上滑块上的滑槽相配合，定块上的滑轮和上导向块上的滚轮同时对上滑块其导向作用；下滑组 件的运动原理与上滑组件相同，下滑块的运动方向与上滑块相反，上滑块的底面与下滑块的顶面相接触时实现锁紧密封。本直线式卷绕真空镀膜装置使用时，其工艺原理是放卷室内的放卷辊放出薄膜后，先进入第一离子轰击处理室进行表面清洁处理，然后送入第一烘烤室进行烘干处理，再进入镀膜室内进行镀膜；镀膜完成后，薄膜先送入第二烘烤室进行烘干处理，再送入第二离子轰击处理室进行表面处理，使膜层更为结实，最后送入收卷室收卷。本技术相对于现有技术，具有以下有益效果本直线式卷绕真空镀膜装置呈直直线式，可根据工艺的实际需要增加或减少真空室个数，使用方便，薄膜在加工过程中呈直线状，因此该装置可以适用于硬度各不相同的的多种薄膜镀膜，其适用范围广。另外，可以通过在该装置的镀膜室内增设掩模机构，对薄膜进行掩模处理，可减少传统的刻蚀工艺，简化镀膜工艺。同时，在镀膜前增设离子轰击处理，可提高薄膜表面的清洁度，提高产品质量，在镀膜后增设离子轰击处理，可使薄膜表面的膜层更为结实，不易被氧化，在镀膜前后增设烘烤处理，可实现高温镀膜，使膜层更为牢固，提闻广品质量。本直线式卷绕真空镀膜装置采用多个真空室直线排列设置，设备维护时，可针对单个真空室进行单独维护，其维护成本低。本直线式卷绕真空镀膜装置在放卷室和收卷室的通孔处分别设置真空锁，更换材料时，只需将真空锁锁上，即可单独打开放卷室或收卷室进行更换，而不影响其它真空室内的真空气氛，可保证后续镀膜工艺的正常进行，从而提高产品质量。附图说明图I为本直线式卷绕真空镀膜装置的结构示意图。图2为图I的A-A视图。图3为镀膜室内增设掩模机构时固定式掩模机构的结构示意图。图4为镀膜室内增设掩模机构时同步式掩模机构的结构示意图。图5为第一真空锁或第二真空锁的结构示意图。具体实施方式下面结合实施例及附图，对本技术作进一步的详细说明，但本技术的实施方式不限于此。实施例I本实施例一种直线式卷绕真空镀膜装置，其结构如图I或图2所示，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为放卷室1，最后一个真空室为收卷室7，放卷室I和收卷室7之间设有镀膜室4 ;放卷室I内设置放卷辊8， 收卷室7内设置收卷辊9 ;放卷室与其相邻的真空室之间设有第一真空锁，收卷室与其相邻的真空室之间设有第二真空锁。根据工艺的实际需要，多个真空室还可包括第一离子轰击处理室2、第一烘烤室3、第二烘烤室5和第二离子轰击处理室6,按照薄膜的输送方向,放卷室I、第一离子轰击处理室2、第一烘烤室3、镀膜室4、第二烘烤室5、第二离子轰击处理室6和收卷室7依次设置。其中，镀膜室4有3个，3个镀膜室呈直线排列并设于第一烘烤室和第二烘烤室之间，3个镀膜室结构相同。第一真空锁和第二真空锁结构相同，其具体结构如图5所示，包括定块20、上滑组件和下滑组件，定块中部开有与真空室的通孔相对应的定块通孔21，上滑组件和下滑组件分别与定块连接，上滑组件和下滑组件对称设于真空室的通孔的上下两侧，上滑组件设于真空室的通孔上方，下滑组件设于真空室的通孔下方；上滑组件包括上滑块22、上导向块23和上气缸24，上滑块22 —侧与定块20滑动连接，上滑块22另一侧与上导向块23滑动连接，上导向块23为倒L形结构，上导向块顶部与定块顶面固定连接，上气缸24输出端与上滑块22顶部固定连接，定块20与上滑块22相接触的一面设有滑轮25，上滑块上相应设有滑槽26 ;上导向块的侧面底部设有滚轮27，上滑块与滚轮相接触；下本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为放卷室，最后一个真空室为收卷室，放卷室和收卷室之间设有镀膜室；放卷室内设置放卷辊，收卷室内设置收卷辊；放卷室与其相邻的真空室之间设有第一真空锁，收卷室与其相邻的真空室之间设有第二真空锁。2.根据权利要求I所述的直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述多个真空室还包括第一离子轰击处理室、第一烘烤室、第二烘烤室和第二离子轰击处理室，按照薄膜的输送方向，放卷室、第一离子轰击处理室、第一烘烤室、镀膜室、第二烘烤室、第二离子轰击处理室和收卷室依次设置。3.根据权利要求2所述的直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室有3个， 3个镀膜室呈直线排列并设于第一烘烤室和第二烘烤室之间，3个镀膜室结构相同。4.根据权利要求2所述的直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室内设有平面靶和掩模机构，掩模机构设于平面靶下方，掩模机构下方为薄膜。5.根据权利要求4所述的直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述掩模机构为固定式掩模机构，包括掩模架、收丝盘和放丝盘，掩模架为四边形结构，掩模架的左右两侧边上设有多个缠绕辊，收丝盘和放丝盘分别设于掩模架右侧边的两端上，掩模丝从放丝盘放出后，经过多个缠绕辊缠绕固定，掩模丝的末端缠绕于收丝盘上。6.根据权利要求4所述的直...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱刚劲，朱刚毅，朱文廓，
申请(专利权)人：肇庆市腾胜真空技术工程有限公司，
类型：实用新型
国别省市：