【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及,例如,用于以微波频率测量正向和反射功率的设备和方法,包括测量正向或反射功率的微波功率生成器系统和方法。所述设备和方法可应用于工业和医疗微波应用。
技术介绍
公知的微波生成器系统的反射功率测量典型地被用作用于确定所施加的功率水平的间接机制(假设被沉积在目标材料中的能量不能被容易地直接获得)。在反射功率的预定水平被超过的情况下,该生成器系统能够被快速且安全地关闭,从而避免设备的损坏并避免因系统误读而导致的错误的设备操作。在医疗应用中,反射功率的测量能够用作用于检测设备故障、连接问题和一些形式的误用、并对上述问题进行反应的安全机制。反射测量的优点在于,能够在不需要用户检查治疗位置的情况下实时地监控盲治疗(blind treatment),这能够导致被管理的额外功率,而这会无意地导致不利的事件。相反地,完全胜任的医疗设备会偶然被误解释为故障,从而导致用户放弃治疗,进而导致对病人的不必要的风险和痛苦、以及需要重新安排治疗。在公知的设备中,正向和反向功率电路用于测量被传递给负载部件和从该负载部件反射的能量,其中该负载部件被连接到微波生成器。测量的精度是重要的,因为其能够被用作安全监控或者用于保护生成器中的放大器电路免于遭受能够损坏硬件的高水平的反射功率。就反射一部分入射微波能量的负载部件而言,电压驻波被建立,该电压驻波的幅度随着与不匹配部件的距离(电相位长度)而正弦地改变。传输线上的电压最大值(波腹)与 邻近的电压最小值(波节)(node)的比率与反射的能量和传递的能量的比例相关,而且被称为电压驻波比(VSWR)。典型地,使用矢量(幅度和相位)网络测 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.11.18 US 61/262,2061.一种微波设备,该微波设备包括 微波源,用于提供微波信号,该微波源能够连接到负载; 控制装置,在操作中被配置成在频率范围内改变由所述源提供的所述微波信号的频率; 微波检测器,用于执行微波测量,该微波检测器在操作中被布置成接收来自所述负载的反射和/或到所述负载的传输,并执行多个测量,每个测量对应于所述频率范围内的多个不同频率中的各自的一个频率;以及 用于根据所述多个测量来确定反射的测量和/或传输的测量的装置。2.根据权利要求I所述的设备,其中,所述微波源能够经由传输线连接到所述负载,以便在操作中通过由所述源提供的所述微波信号和该微波信号的反射的叠加来在所述传输线中形成电压驻波,所述电压驻波(VSW)的幅度在VSW周期中、在所述传输线上的最大和最小位置之间变化,并且所述频率范围使得由所述控制装置在操作中、在所施加的频率范围内改变所述频率导致在所述微波检测器的位置处的所述VSW在至少一个VSW周期中改变。3.根据权利要求I或2所述的设备,其中,所述微波源经由长度为L的传输线能够连接到所述负载,并且所述频率范围具有大于或等于c/2L的宽度,其中c是光速。4.根据前述任一权利要求所述的设备,其中,所述频率范围具有大于或等于50MHz的宽度,可选地大于或等于200MHz,可选地大于或等于500MHz。5.根据前述任一权利要求所述的设备,其中,所述控制装置被配置成通过在所述频率范围内扫描所述频率来改变所述微波信号的所述频率。6.根据前述任一权利要求所述的设备,其中,所述控制装置被配置成通过控制所述信号具有不同频率的序列来在所施加的频率范围内改变所述微波信号的所述频率。7.根据前述任一权利要求所述的设备,其中,所述控制装置被配置成在所述频率范围内重复地改变所述频率。8.根据前述任一权利要求所述的设备,其中,所述微波信号包括脉冲信号,以及所述控制装置被配置成在每个脉冲期间改变所述频率。9.根据权利要求8所述的设备,其中,所述控制装置被配置成在重复周期中、在所施加的频率范围内改变所述微波信号的所述频率,并且每个周期的持续时间小于每个脉冲的持续时间。10.根据权利要求9所述的设备,其中,所述每个周期的持续时间小于或等于所述每个脉冲的持续时间的十分之一。11.根据前述任一权利要求所述的设备,其中,针对所施加的频率范围而获得的所述反射的测量表示针对所述频率范围而获得的反射的平均或最大量,和/或针对所施加的频率范围的所述传输的测量表示针对所述频率范围而获得的传输的平均或最大量。12.根据前述任一权利要求所述的设备,其中,所述微波检测器被配置成测量由所述源提供的所述微波信号和所述微波信号的反射,并根据所测量的被提供的信号和所测量的反射来确定电压驻波比(VSWR)。13.根据前述任一权利要求所述的设备,其中,所述反射的量的测量包括针对所述频率范围的VSWR,例如针对所述频率范围的最大或平均VSWR。14.根据前述任一权利要求所述的设备,该设备还包括被配置成将所述反射和/或传输的量的测量与阈值进行比较的监控装置。15.根据权利要求14所述的设备,其中,所述控制装置被配置成依靠所述比较来改变由所述源提供的所述微波信号的至少一个性质。16.根据权利要求15所述的设备,其中,所述控制装置被配置成依靠所述比较来降低或增加所述微波信号的功率,和/或依靠所述比较而停止向所述负载施加所述微波信号。17.根据前述任一权利要求所述的设备,其中所述微波源包括扫频振荡器和微波放大器,以及所述控制装置在操作中被配置成在其性能特性的线性范围内驱动所述微波放大器。18.根据权利要求I至16中任一权利要求所述的设备,其中,所述微波源包括外部微波振荡器、用于放大来自所述外部微波振荡器的信号以提供所述微波信号的放大器、以及用于向所述放大器施加控制信号以控制所述微波信号的装置...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。