【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种清洁系统，适用于清洁一晶片，包括：一第一滚轮座；至少一第一夹持滚轮，连接于该第一滚轮座，并且具有一第一环形凹槽；一第二滚轮座，与该第一滚轮座相对；至少一第二夹持滚轮，连接于该第二滚轮座，并且具有一第二环形凹槽；一感测夹持滚轮，连接于该第二滚轮座，并且具有一第三环形凹槽，其中，该第三环形凹槽对应于所述第一环形凹槽及所述第二环形凹槽；以及一清洁组件，包覆该第三环形凹槽，其中，该晶片的周缘定位于所述第一环形凹槽及所述第二环形凹槽之中，并且抵接于该清洁组件，所述第一夹持滚轮及所述第二夹持滚轮驱使该晶片转动，以使该晶片的周缘摩擦该清洁组件。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡天镇，谢志明，赖建彰，李文景，陈达享，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[]
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