磁吸式移位装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种磁吸式移位装置，它包括料碗、电磁线包、铁臂和导轨，电磁线包通过铁心安装在铁臂的一端，在料碗的两侧垂直固定有导柱，在铁臂上与导柱相对应的位置设有通孔，导柱在该通孔内可上下移动，在料碗的下方设有安装有下电极的底座，在下电极的上方设有上电极，导轨设置在底座的一侧，铁臂的另一端通过安装座安装在该导轨上，并在驱动机构的驱动下沿该导轨移动。本实用新型专利技术的优点是：位移平稳，不会产生压片和失片。在返程中料碗被提起，不与底座摩擦，提高了装置的使用寿命。测量精度高。该装置对分选同一种外径的晶片，只需配制一只料碗。制造、维修、保养简便。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
专利说明 一、
本技术涉及一种适用于石英晶片、陶瓷晶片、片型电阻、片型电容等各种片状电子元件自动分选设备中的自动进料定位测量出料装置。二
技术介绍
在对以晶片为代表的片状电子元件进行自动分选的设备中，进料、定位、测量、下料等，主要的环节是晶片的移位。现有的移位方式是采用压迫料碗在底盘上作圆周运动的方法实现的，但这种移位装置存在的问题是料碗和底盘在受压下磨擦运动，故料碗和底盘均极易磨损，晶片也易污损、丢失(晶片从料碗底部钻出)；晶片随料碗作圆周曲线运动行程长，也易损伤晶片；底盘面积大，盘面平整度要求高，故加工极为困难，制造成本高；分选微型晶片极为困难。三
技术实现思路
1、专利技术目的本技术的目的是提供一种磁吸式移位装置，该装置对各种规格的晶片(包括1×1mm尺寸的微型晶片)都可以精确定位测量，晶片运程短、损伤少、不失片、移位可靠、经久耐用、制造维修保养方便。2、技术方案为实现上述目的，本技术所述的磁吸式移位装置，其特征在于它包括料碗、电磁线包、铁臂和导轨，电磁线包通过铁心安装在铁臂的一端，在料碗的两侧垂直固定有导柱，在铁臂上与导柱相对应的位置设有通孔，导柱在该通孔内可上下移动，在料碗的下方设有安装有下电极的底座，在下电极的上方设有上电极，导轨设置在底座的一侧，铁臂的另一端通过安装座安装在该导轨上，并在驱动机构的驱动下沿该导轨移动。为了保证料碗向上运动在一定的范围，在料碗上设有向上移动的限位凸台，导柱固定在该凸台上。根据需要，本技术料碗上下移动的距离为大于晶片的厚度。因此，料碗在底座与铁臂之间上下移动的距离即大于晶片的厚度，这样，当料碗带着晶片从底座的进料端移动到下电极，料碗向上抬起并回移时，晶片能保留在下电极处。为了增加耐磨性，在料碗上设有铁环。在设计料碗的底部外径或下电极的位置时，应保证使料碗在移动到下电极的位置时能利用料碗的边缘将上次放置的晶片推入到滑道中。为了确保料碗抬起时晶片能可靠地留在原位，在下电极的中心设有负压气孔。满足本技术目的的驱动机构可以有多种，但本技术作为一个例子提供这样的驱动机构，该驱动机构包括连臂、凸轮和拉簧，连臂的一端固定在安装座上，另一端向下延伸，由电机控制的凸轮置于连臂的一侧，使连臂紧贴凸轮的拉簧一端固定在凸轮，另一端固定在机体上。本技术的工作原理是入料水平运载机构起始位是将料碗处在底座右侧。受计算机控制的电磁线包得到指令，切断线包电流，料碗失去磁力后顺导柱平稳落下，料碗底部紧贴在底座平面上。自动分选系统可通过机械手等方式将晶片放入料碗。由于料碗的内腔是倒椎状，晶片顺畅滑入且平躺在料碗底部完成入料。进料受计算机控制的水平运载装置通过驱动机构将存有晶片的料碗推运到下电极正上方停下，受控的负压泵阀打开，下电极孔内呈负压，待晶片吸附在下电极上后，受控电磁线包通电，生成的磁场沿铁臂对料碗上的铁环产生吸力，将料碗提起，受控料碗运载装置作返回运动到原起始位(此过程中晶片仍留在下电极上)，受控线包切断电源，料碗再次落下。准备第二次入料。测量当料碗回到起始位后，负压泵阀关闭，晶片负压解除，上电极运载装置下落，将上电极降至离晶片表面特定的高度停止，此时由专用仪器通过上下电极引线和上下电极对晶片参数进行测量。测量完毕，上电极运载装置提起，回到初始位。二次进料及下料该装置在进行测量程序的同时，下一片晶片亦在进行入料程序。因此测量程序结束，上电极提起后计算机即可进入下一个进料程序。在后一片晶片运行到下电极上方过程中，原在下电极上的前一片晶片亦随料碗外沿移动，当后一片晶片到达下电极上面时，前一片晶片已从底座落下(通过滑道)，到达分选设备预置在下方的接料装置中，因此第二次进料同时也完成了前一片晶片的下料。3、有益效果本技术与现有技术相比，其优点是(1)料碗和晶片短距离的直线运动，位移平稳，不会产生压片和失片(晶片从碗底漏出)。故晶片受污少、损伤小。(2)料碗在进料过程时无须加压，在返程中料碗被提起，不与底座摩擦，行程又短，大大提高了装置的使用寿命。(3)上电极外径大小不受料碗底孔限制，对微型晶片可适当加大上电极截面，提高了对微型晶片的测量精度。(4)该装置对分选同一种外径的晶片，只需配制一只料碗，比现有技术必须配制5-8只料碗的装置更优。(5)制造、维修、保养简便。四附图说明图1是技术结构示意图。图2是料碗与底座剖面示意图。图3是料碗剖面示意图。五具体实施方式本技术设计的磁吸式移位装置包括电磁吸动机构、水平运载机构和底座测量机构。所述的电磁吸动机构包括料碗1、电磁线包2、纯铁臂3、纯铁心5、导柱6，电磁线包2通过纯铁心5安装在导磁纯铁臂3上，工作时料碗1在底座9和纯铁臂3之间受电磁线包2产生磁力作上下运动。所述的水平运载机构包括直线导轨4、安装座10、连臂13、凸轮14、拉簧15。凸轮14由可控驱动装置实现移动和定位。电磁吸动机构通过纯铁臂3安装在非导磁特性的安装座10上。所述底座测量机构包括底座9、带孔17的下电极7、上电极8，带孔17的下电极7下端穿过底座安装在底座9上，下电极7上端平面与底座9上平面在一个平面上。下电极7有引出导线供测量用，下端可接气管可与负压泵阀连接。上电极8安装到可作往返运动的运载装置上，上电极8有引出导线供测量用。上述的料碗1由纯铁环12和耐磨性好的基座组合成一体，在基座上设有凸台11。其内壁呈倒椎形状，腔体椎度和底口直径随待测晶片而定，导柱6可挤压在料碗1或纯铁臂3上。以测L＝2mm、W＝1.35mm的SMD型晶片11为例。L为晶片的长，W为晶片的宽，￠为晶片的直径(对圆形晶片)。1、选择料碗对方片D=L2+W2+0.01,]]>对园片D＝￠+0.1。本实施例中，选取D=L2+W2+0.01≈2.5.]]>料碗外径与底座的部分参数尺寸(见附图2)要求D1≤D2/2水平运载机构的终止位要注意到达此位时，确保料碗下孔中心与底座的下电极中心相重合，调整水平运载机构的高度，要确保料碗有一定的行程。调整上电极运载装置时要注意上电极中心要对准下电极中心，上下行程要大于料碗高度。上电极下落后的特定高度要随不同的晶片，可作精确调整。权利要求1.一种适用于自动分选设备中的磁吸式移位装置，其特征在于它包括料碗(1)、电磁线包(2)、铁臂(3)和导轨(4)，电磁线包(2)通过铁心(5)安装在铁臂(3)的一端，在料碗(1)的两侧垂直固定有导柱(6)，在铁臂(3)上与导柱(6)相对应的位置设有通孔，导柱(6)在该通孔内可上下移动，在料碗(1)的下方设有安装有下电极(7)的底座(9)，在下电极(7)的上方设有上电极(8)，导轨(4)设置在底座(9)的一侧，铁臂(3)的另一端通过安装座(10)安装在该导轨(4)上，并在驱动机构的驱动下沿该导轨(4)移动。2.根据权利要求1所述的磁吸式移位装置，其特征在于在料碗(1)上设有向上移动的限位凸台(11)，导柱(6)固定在该凸台(11)上。3.根据权利要求1或2所述的磁吸式移位装置，其特征在于在料碗(1)上设有铁环(12)。4.根据权利要求1或2所述的磁吸式移位装置，其特征在于料碗(1)上下移动的距离大于晶片(16)的厚度。5.根据权利要求1所述的磁吸式移位装置，其特征在于在下电极(7本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种适用于自动分选设备中的磁吸式移位装置，其特征在于它包括料碗（１）、电磁线包（２）、铁臂（３）和导轨（４），电磁线包（２）通过铁心（５）安装在铁臂（３）的一端，在料碗（１）的两侧垂直固定有导柱（６），在铁臂（３）上与导柱（６）相对应的位置设有通孔，导柱（６）在该通孔内可上下移动，在料碗（１）的下方设有安装有下电极（７）的底座（９），在下电极（７）的上方设有上电极（８），导轨（４）设置在底座（９）的一侧，铁臂（３）的另一端通过安装座（１０）安装在该导轨（４）上，并在驱动机构的驱动下沿该导轨（４）移动。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈东生，
申请(专利权)人：南京晶昌科技实业发展有限公司，
类型：实用新型
国别省市：84[中国|南京]