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干式选矿系统技术方案

技术编号:783533 阅读:182 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种干式选矿系统,包括输送待选原料的传送装置,射线发接收装置以及控制单元,控制单元接收射线发接收装置输出的检测信号处理后输出控制信号到气动分离装置,气动分离装置的下方设置选定物料和废料的分装槽,射线发接收装置包括射线发射极和探测器,待选原料位于发射极和探测器之间输送,射线发接收装置还包括激光传感器。待选原料由传送装置进行输送,传送装置主要包括传送带,在传送过程中,射线发接收装置对物料进行探测,并将探测信号输送到控制单元,由控制单元向气动分离装置中电磁阀提供控制信号,喷气嘴接通气源并对准废料进行喷射,通过喷射气流将废料吹落到废料的分装槽内,从而让选定的物料落到选定物料的分装槽内。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及煤等矿石的干式选矿系统。技术背景现有技术中用于选矿的方法和设备系统很多,其中主要有湿式和 干式选法,由于湿式选法需要消耗大量的淡水并对环境造成严重的污 染,因此,干式选法则被业内看好。干式选法的核心技术问题就是如 何将待选矿选出,同时将废料剔除,就是说如何将矿石准确及时的选 出是干式选矿系统首先要解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的就是提供一种干式选矿系统,该系统能够准确、及 时地将矿料实施。一种干式选矿系统,包括输送待选原料的传送装置,射线发接收 装置以及控制单元,控制单元接收射线发接收装置输出的检测信号处 理后输出控制信号到气动分离装置,气动分离装置的下方设置选定物 料和废料的分装槽,其特征在于所述的射线发接收装置包括射线发 射极和探测器,待选原料位于发射极和探测器之间输送,所述的射线 发接收装置还包括激光传感器。由上述技术方案可知,待选原料由传送装置进行输送,传送装置 主要包括传送带,在传送过程中,射线发接收装置对物料进行探测, 并将探测信号输送到控制单元,由控制单元向气动分离装置中的电磁 阀提供控制信号,喷气嘴接通气源并对准废料进行喷射,通过喷射气 流将废料吹落到废料的分装槽内,从而让选定的物料落到选定物料的 分装槽内。 附图说明图1是本专利技术的系统构成示意图;图2是图1中的A-A剖视图; 图3是本专利技术探测原理示意图。具体实施方式如图1所示, 一种干式选矿系统,包括输送待选原料的传送装置10,射线发接收装置20以及控制单元30,控制单元30接收射线发接 收装置20输出的检测信号处理后输出控制信号到气动分离装置40, 气动分离装置40的下方设置选定物料和废料的分装槽50,所述的射 线发接收装置20包括射线发射极21和接收射线发射极21的探测器 22,待选原料位于发射极21和探测器22之间输送,所述的射线发接 收装置20还包括激光传感器23。由上述技术方案可知,本专利技术主要包括输送系统、探测系统以及 清除系统。作为煤处理厂,应基本包括筛选机,用于将尺寸规格不 同的煤进行分离;缓冲漏斗,相应尺寸规格的煤采用相应规格的漏斗; 振动给料机,将进料输送到装设有探测装置的传送带上;气动分离或 称清除装置。结合图1,该系统构成示意图包括了上述基本系统构成。所述的射线发射极21位于传送装置10中的输送带11的下方,探 测器22和激光传感器23位于同侧且位于输送带11的上方。采用这种 布置形式,可以合理地布置探测器22和激光传感器23以及将采集到 的信号安全方便的输送到控制单元30,控制单元30采用单片机就能 基本满足要求。所述的探测器22和激光传感器23连接为一体,这样便于信号传 输线的布置及探测器22和激光传感器23的安装固定,所述的射线发 射极21和探测器22接收发射的射线为Y射线。射线发接收装置20 中的探测器22接收射线发射极21发射的Y射线,根据差别吸收的原 理将待选矿如煤与杂质进行区分,将满足强度要求的放射性同位素置 于射线发射极21中,从射线发射极21中射出的准直光束基本垂直于 输送带ll向上射出,并穿过输送带11以及其上放置的物料,衰减后 的射线由位于上方的探测器22进行感应测量,射线的衰减程度与输送 带ll、物料及物料的装载量或称装载高度相对应。根据物理学的基本常识,射线在不同的物质中的衰减度是不同的, 矿质的探测原理就是将伽玛射线即Y射线的衰减度转化为单位面积的 质量,其中有两个重要因素,其一是物料的表面密度,另一个是物料 的装载高度。本专利技术中还设置了激光传感器23,激光传感器23发射激光束并 探测该激光束的发射波,实现了利用激光传感器23测量物料的瞬时高 度,这样就能对装载高度进行补偿,由此也克服了单纯使用伽玛射线 进行测量所导致的测量误差。伽玛射线的衰减信号和物料装载高度信 号被探测器22接收,激光传感器23发射并探测该激光束的发射,将 捕获所的的信号传输到控制单元30,进行处理并计算出待选物料的表 面密度,在控制单元30中设定了物料密度参数值,比较待选物料的表 面密度和物料密度参数值,只要所测的物料值与物料密度参数值有差 异,则控制单元30发出指令将其清除。根据具体物料的特质,本专利技术 系统利用可选择的密度参数对物质进行探测和分离。密度参数值可以 设置于软件菜单中,以便操作人员操作。所述的气动分离装置40包括储气罐41、喷气嘴42以及两者之间 设置的电磁阀,所述的喷气嘴42的喷气方向与待选原料落下的抛物线 的法线方向吻合,这样布置可以确保喷气气流处在清除杂质物料或称 作废料的最佳位置。储气罐41和喷气嘴42之间连接有电磁阀,电磁 阀接收控制单元30驱动电信号控制电磁阀中的阀芯移动,使储气罐 41与喷气嘴42接通,喷气嘴42沿着输送带11的带宽方向均匀设置 若干个,每个喷气嘴42连有自己的电磁阀,或一个电磁阀连接1 3 个喷气嘴42,这在控制方法上均是容易实现的。气动分离装置40接 收控制单元30提供的驱动信号,使喷气嘴42喷射高压气体,改变杂 质与待选物料相同的原抛物体状态下的运动轨迹,从而将杂质废料清 除并落入废料分装槽51的槽口处,实现分选物料的目的。所述的喷气嘴42位于待选原料落下起始点的前方,喷气嘴42的 喷气方向指向待选原料落下起始点与其下方的废料分装槽51之间。所述的喷气嘴42位于选定物料分装槽52的进料口的上方,所述的选定物料分装槽52与废料分装槽51构成人字型的分装槽50,分装 槽50也可以看成一个截面大致呈倒V形的槽型,废料分装槽51位于 靠近待选原料落下起始点所在的一侧,选定物料分装槽52位于相对较 远的一侧,这样废料在喷气嘴42提供的高压喷射气流作用下恰好落入 废料分装槽51内,而选定物料则沿原抛物体运动轨迹落入选定物料分 装槽52内。为了即时将待选物料和杂质输送走,在选定物料分装槽 52与废料分装槽51的出口端设置有物料输送装置,这样可以实现连 续生产,提高效率。由于物料是在输送带11的带宽方向上随即布置的,为了避免漏侧 和漏除,所述的射线发接收装置20沿着输送带11的带宽方向均匀设 置若干个,喷气嘴42沿着输送带11的带宽方向均匀设置若干个,这 样就能够将所有杂质予以清除。权利要求1、一种干式选矿系统,包括输送待选原料的传送装置(10),射线发接收装置(20)以及控制单元(30),控制单元(30)接收射线发接收装置(20)输出的检测信号处理后输出控制信号到气动分离装置(40),气动分离装置(40)的下方设置选定物料和废料的分装槽(50),其特征在于所述的射线发接收装置(20)包括射线发射极(21)和探测器(22),待选原料位于发射极(21)和探测器(22)之间输送,所述的射线发接收装置(20)还包括激光传感器(23)。2、 根据权利要求1所述的干式选矿系统,其特征在于所述的射 线发射极(21)位于传送装置(10)中的输送带(11)的下方,探测 器(22)和激光传感器(23)位于同侧。3、 根据权利要求1或2所述的干式选矿系统,其特征在于所述 的探测器(22)和激光传感器(23)连接为一体,所述的射线发射极(21)和探测器(22)接收发射的射线为Y射线。4、 根据权利要求l所述的干式选矿系统,其特征在于所述的气 动分离装置(40)包本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种干式选矿系统,包括输送待选原料的传送装置(10),射线发接收装置(20)以及控制单元(30),控制单元(30)接收射线发接收装置(20)输出的检测信号处理后输出控制信号到气动分离装置(40),气动分离装置(40)的下方设置选定物料和废料的分装槽(50),其特征在于:所述的射线发接收装置(20)包括射线发射极(21)和探测器(22),待选原料位于发射极(21)和探测器(22)之间输送,所述的射线发接收装置(20)还包括激光传感器(23)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:娄霆
申请(专利权)人:娄霆
类型:发明
国别省市:34[中国|安徽]

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