基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及基板处理装置，其包括：第1基板搬运机械手，具有用于保持基板的手部；第2基板搬运机械手，具有用于保持基板的手部；以及手部清洗单元，清洗所述第1基板搬运机械手以及所述第2基板搬运机械手各自的手部。所述手部清洗单元，能够接受所述第1基板搬运机械手以及所述第2基板搬运机械手各自的手部的访问，配置于在所述第1以及第2基板搬运机械手之间交接基板的基板交接位置的上方或者下方。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有用于交接基板的两个基板传输机械手的基板处理装置。作为处理对象的基板例如包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子显示器用基板、FED (FieldEmission Display :场致发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等在内。
技术介绍
制造半导体装置、液晶显示装置的エ序中所使用的基板处理装置有逐张处理基板的单张式基板处理装置。单张式基板处理装置例如包含在装载盒等基板容置器与基板交接 位置之间搬运基板的分度器机械手、多个处理単元、在所述基板交接位置与所述处理単元之间搬运基板的主搬运机械手。分度器机械手以及主搬运机械手分别具有能够保持ー张基板的手部。处理单元例如对基板供给处理液(药液或者纯水)来对基板进行表面处理。若基板上附着有异物，则有时该异物转移到手部，从而污染手部。此外，存在以下顾虑若在通过处理液处理后的基板上残留有处理液，则处理液的一部分转移到保持该基板的手部上。若这样的污染和/或处理液积累在手部上，则存在手部上的基板保持位置的精度变差的顾虑。若手部上的基板保持位置不准确，则基板交接位置上的基板的位置精度变差。其结果，存在以下顾虑在分度器机械手与主搬运机械手之间的基板交接、主搬运机械手与处理单元之间的基板交接、分度器与基板容置器之间的基板交接等时产生不良(搬运不良)。即，存在基板掉下，或者基板被破坏的顾虑。为了应对这样的问题，考虑应用例如在(日本)特开2000-68244号公报中记载的手部清洗装置。但是，在(日本)特开2000-68244号公报的装置中，以搬运机械手为中心，被清洗物搬入装置、手部清洗装置、被清洗物清洗装置、被清洗物清洗干燥装置以及被清洗物搬出装置配置成束(cluster)状，手部清洗装置占有与用于清洗半导体晶片的单元相同的空间。从而，存在空间的利用效率变差，据此装置的占用面积(占有面积)变大的缺陷。
技术实现思路
本专利技术提供以下的基板处理装置不会导致占有面积增加就能够设置用于手部清洗的结构。本专利技术的基板处理装置具有第I基板搬运机械手，具有用于保持基板的手部；第2基板搬运机械手，具有用于保持基板的手部；以及手部清洗単元，配置于在所述第I基板搬运机械手和第2基板搬运机械手之间交接基板的基板交接位置的上方或者下方，能够接受第I基板搬运机械手以及所述第2基板搬运机械手各自的手部的访问，用于清洗所述第I基板搬运机械手以及所述第2基板搬运机械手各自的手部。根据该结构，在第I以及第2基板搬运机械手之间交接基板的基板交接位置的上方或者下方配置有手部清洗単元。从而，以基板交接位置和手部清洗単元在平面观察下至少一部分分相互重合的方式立体地配置，因此无需増加基板处理装置的占有面积(占用面积)就能够配置手部清洗単元，通过该手部清洗単元，能够清洗第I以及第2基板搬运机械手的手部。从而，无需増加基板处理装置的占有面积就能够抑制或者防止搬运不良，能够进行可靠性高的基板处理。所述第I基板搬运机械手可以是在配置在基板容置器载置位置的基板容置器与基板交接位置之间搬运基板的分度器机械手。此外，所述第2基板搬运机械手可以是在基板交接位置与处理单元之间搬运基板的主搬运机械手。所述基板交接位置优选配置在所述第I以及第2基板搬运机械手之间。此外，所述处理単元优选层叠两层以上的多层而立体地配置。此时，容易在基板交接位置的上方或者下方确保比较大的空间，因此能够易于配置手部清洗単元。本专利技术的ー实施方式的基板处理装置还具有基板保持単元，该基板保持単元配置 在所述基板交接位置，用于保持基板。根据该结构，能够通过基板保持単元保持基板，因此通过该基板保持単元，能够对第I以及第2基板搬运机械手之间的搬运发挥中介作用。通过在该基板保持単元的上方或者下方配置手部清洗単元，从而无需增大基板处理装置的占有面积就能够追加手部清洗功能。基板保持単元可以具有往复搬运机构，该往复搬运机构用于在与第I基板搬运机械手之间交接基板的第I基板交接位置和与第2基板搬运机械手之间交接基板的第2基板交接位置之间搬运基板。另外，也可以不在基板交接位置配置基板保持単元，而是通过从ー个手部向另ー个手部的直接交接而进行第I以及第2基板搬运机械手之间的基板交接。所述手部清洗単元优选具有壳体，该壳体划分出用于容置并处理手部的手部处理空间。根据该结构，由于能够在手部处理空间(优选是闭空间)内清洗手部，因此，例如能够避免用于手部清洗的处理对基板带来影响。优选，在所述壳体上形成有用于使手部进出所述手部处理空间的手部进出口。根据该结构，使手部从手部进出口进入手部处理空间，并通过在手部处理空间内的处理能够清洗手部。所述手部进出ロ优选包括形成在相互不同的位置的第I手部进出ロ以及第2手部进出ロ。更具体地，优选所述第I手部进出ロ面向所述第I基板搬运机械手，所述第2手部进出口面向所述第2基板搬运机械手。由此，通过共用的手部清洗単元，能够清洗第I以及第2基板搬运机械手的手部。由此，能够进ー步有效地利用基板处理装置内的空间，来追加手部清洗功能。这样的手部清洗単元可以设置两个以上。例如，在设置两个手部清洗単元的情况下，该两个手部清洗単元可以均配置在基板交接位置的上方，也可以均配置在下方，也可以在上方和下方分开配置。通过设置两个以上的手部清洗単元，能够使第I以及第2基板搬运机械手的手部清洗的期间重叠。即，第I以及第2基板搬运机械手无需错开手部清洗的时机，从而，无需调整两者的手部清洗的时机。在所述壳体上可以仅形成一个所述手部进出口。此时，所述手部清洗単元优选包括包括 第I手部清洗単元，配置成使所述手部进出口面向所述第I基板搬运机械手；以及第2手部清洗単元，配置成使所述手部进出ロ面向所述第2基板搬运机械手。由此，能够分别清洗第I以及第2基板搬运机械手的手部。第I以及第2手部清洗単元可以均配置在基板交接位置的上方，也可以均配置在下方，也可以在上方以及下方分开配置。通过设置第I以及第2手部清洗単元，能够使第I以及第2基板搬运机械手的手部清洗的期间重叠。即，第I以及第2基板搬运机器无需错开手部清洗的时机，从而也不需要调整两者的手部清洗的时机。即使设置3个以上具有ー个手部进出ロ的手部清洗単元也不影响。另外，也可以仅设置ー个具有ー个手部进出口的手部清洗単元，从该ー个手部进出口，在不同的时机收入第I以及第2基板搬运机械手的手部，从而在不同的期间清洗它们。当第I以及第2基板搬运机械手从不同的方向访问基板交接位置时，优选设置单元旋转机构，使手部清洗単元旋转，以便使手部进出口面向第I以及第2基板搬运机械手的方向。本专利技术的ー实施方式的基板处理装置还具有用于开闭所述手部进出口的闸门机构。根据该结构，能够在不进行手部的清洗的期间提高手部处理空间的密闭性，因此能够抑制或防止手部处理空间内的环境气体流出或者异物进入手部处理空间内的情況。 优选，在所述壳体上结合有用于排出所述手部处理空间内的气体的排气路。由此，能够抑制或者防止手部处理空间内的环境气体流出，因此能够避免手部清洗引起的恶劣影响波及到基板。此外，能够控制手部处理空间内的环境气体，因此能够提高手部的清洁度。在本专利技术的ー实施方式中，所述手部清洗単元具有清洗液供给单元，该清洗液供给单元对导入至本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
2011.03.18 JP 2011-0614791.ー种基板处理装置，其特征在于，具有 第I基板搬运机械手，具有用于保持基板的手部； 第2基板搬运机械手，具有用于保持基板的手部；以及 手部清洗単元，配置于在所述第I基板搬运机械手和第2基板搬运机械手之间交接基板的基板交接位置的上方或者下方，能够接受所述第I基板搬运机械手以及所述第2基板搬运机械手各自的手部的访问，用于清洗所述第I基板搬运机械手以及所述第2基板搬运机械手各自的手部。2.如权利要求I所述的基板处理装置，其特征在于，还具有基板保持単元，该基板保持単元配置在所述基板交接位置，用于保持基板。3.如权利要求I所述的基板处理装置，其特征在于，所述手部清洗単元具有壳体，该壳体划分出用于容置并处理手部的手部处理空间。4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，在所述壳体上形成有用于使手部进出所述手部处理空间的手部进出ロ。5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述手部进出口包括形成在相互不同的位置的第I手部进出ロ以及第2手部进出ロ。6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在干， 所述第I手部进出ロ面向所述第I基板搬运机械手，所述第2手部进出ロ面向所述第2基板搬运机械手。7.如权利要求4...

【专利技术属性】
技术研发人员：村元僚，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：