电路曝光机多光源光学成像系统技术方案

本发明专利技术涉及光学设备领域，具体涉及一种光学成像装置。电路曝光机多光源光学成像系统，包括一光源系统、一成像系统、一成像工作板，所述光源系统的光线通过所述成像系统照向所述成像工作板。所述光源系统包括至少一光源子系统，所述光源子系统包括一发光器件、一整形透镜，所述发光器件发出的光线通过所述整形透镜整形为均匀的光线。由于采用以上技术方案，本发明专利技术结构简单、整体体积偏小，无需更换胶片，即可印刷不同规格的电路板，操作简单方便，成像印刷效果佳。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学设备领域，具体涉及ー种光学成像装置。
技术介绍
在大規模印刷电路板制作中，对印刷电路板图形的转移主要采用曝光机来实现，印制板的质量、精度等问题很大程度上取决于曝光机中光学成像装置产生的曝光效果的好坏。现有的曝光机中光学成像装置的工作方式主要是由ー电路总光源经过滤光片过滤后，通过至少两个反射棱镜才可反射至投影胶片上，整个光学成像装置结构复杂，体积庞大。另外，现有的光学成像装置无法对照射在投影胶片上的光线进行适当调整，使用方法较为死板，易出现光线不足或者光线过多，影响成像效果。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种电路曝光机多光源光学成像系统，解决以上技术问题。本专利技术所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现电路曝光机多光源光学成像系统,包括一光源系统、一成像系统、一成像工作板，其特征在于，所述光源系统的光线通过所述成像系统照向所述成像工作板；所述光源系统包括至少一光源子系统，所述光源子系统包括一发光器件、一整形透镜，所述发光器件发出的光线通过所述整形透镜整形为均匀的光线。本专利技术不同与传统曝光机需要多次发射、折射才能将光线作用与所述成像工作板，光源系统的光线直线方向照向所述成像工作板，既可简化整体结构，又可便于控制成像效果。所述发光器件外罩有一反光罩，所述反光罩的光线照射端朝向所述成像系统，所述发光器件的光线从所述反光罩的光线照射端射出。所述光源子系统还包括一光圈，所述光圈位于所述发光器件与所述整形透镜之间，所述光圈的控制端连接ー微型处理器系统。 所述光源子系统还包括一滤光片，所述滤光片位于所述发光器件与所述整形透镜之间，所述发光器件的光线通过所述滤光片照向所述成像系统，所述滤光片过滤去光线中除紫外线以外的其他光线。所述滤光片即可位于所述光圈上方，也可以位于所述光圈的下方，滤光片与所述光圈之间的相对位置并不影响所述光源子系统照射向所述成像系统的光线效果。所述光源系统还包括至少ー光敏元件，所述光敏元件位于所述整形透镜与成像エ作板之间，所述光敏元件连接所述微型处理器系统，以便对各个光源子系统的光强进行对比，并调整，使各个光源子系统的光强相同。所述发光器件照射出的光线垂直所述整形透镜的上端端面，所述整形透镜的下端端面平行于上端端面。所述整形透镜的上端外围呈正方形，下端外围呈条形。所述整形透镜的上端外围呈正方形，下端外围呈矩形，所述矩形面积大于所述正方形面积。所述整形透镜的下端外围呈长方形时，便于所述整形透镜将所述光源系统的光线从光点状整形为均匀光线。还包括ー动作机构，所述动作机构包括ー用于固定投影胶片的框架、四个万向轴，所述万向轴一端连接所述框架，另一端连接所述成像工作板，所述动作机构连接所述微型处理器系统。四个万向轴在所述微型处理器系统的控制下，一起向同一方向移动，保持所述框架与所述成像工作板平行，且所述光源系统的光线与所述框架所在平面垂直。四个所述万向轴中部各设有ー滑槽，所述万向轴通过滑槽连接ー设有滑片装置的 光学镜片组；所述光学镜片组包括至少ー放大镜、一凹透镜，所述放大镜位于所述凹透镜与成像工作板之间，所述放大镜、凹透镜的边缘处各均匀设有四个所述滑片装置。所述滑片装置的控制端连接所述微型处理器系统。胶片上的图形通过所述光学镜片组的放大作用后，将其投影到所述成像工作板上，图形放大的比列主要通过调节滑片装置控制所述放大镜与所述所述成像工作板之间的距离来实现。所述发光器件可以采用100-200W的高压水银灯。所述发光器件可以采用100-200W的毛细管水银灯。所述发光器件可以采用100-200W的紫外线灯。所述光圈可以采用固定光圈，或者也可以采用猫眼式光圏。有益效果由于采用以上技术方案，本专利技术结构简单、整体体积偏小，无需更换胶片，即可印刷不同规格的电路板，操作简单方便，成像印刷效果佳。附图说明图I为本专利技术的一种结构示意图；图2为本专利技术的另ー种结构示意图。具体实施例方式为了使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示进ー步阐述本专利技术。參照图I、图2,电路曝光机多光源光学成像系统,包括一光源系统、一成像系统、一成像工作板3，光源系统的光线通过成像系统照向成像工作板3 ;光源系统包括至少一光源子系统，光源子系统包括一发光器件12、一整形透镜15，发光器件12发出的光线通过整形透镜15整形为均匀的光线。本专利技术不同与传统曝光机需要多次发射、折射才能将光线作用与成像工作板3，由于光源系统、成像系统位于成像工作板3的上方，光源系统的光线由上而下的照向成像工作板3，既可简化整体结构，又可便于控制成像效果。发光器件12外罩有一反光罩11，反光罩11的光线照射端朝向成像系统。光源子系统还包括一光圈14，光圈14位于发光器件12与整形透镜15之间，光圈14的控制端连接ー微型处理器系统。光源子系统还包括一滤光片13，滤光片13位于发光器件12与整形透镜15之间，发光器件12的光线通过滤光片13照向成像系统，滤光片过滤去光线中除紫外线以外的其他光线。滤光片13即可位于光圈14上方，也可以位于光圈14的下方，滤光片13与光圈14之间的相对位置并不影响光源子系统照射向成像系统的光线效果。光源系统还包括至少ー光敏元件，光敏元件位于整形透镜15与成像工作板之间，光敏元件连接微型处理器系统，以便对各个光源子系统的光强进行对比，并调整，使各个光源子系统的光强相同。发光器件12照射出的光线垂直整形透镜15的上端端面，整形透镜15的下端端面平行于上端端面。整形透镜15的上端外围呈正方形，下端外围呈条形。或者也可以，整形透镜15的上端外围呈正方形，下端外围呈矩形，矩形面积大于正方形面积。当整形透镜15的下端外围呈长方形时，便于整形透镜15将光源系统的光线从光点状整形为均匀光线。还包括ー动作机构，动作机构包括ー用于固定投影胶片的框架21、四个万向 轴22，万向轴22 —端连接框架，另一端连接成像工作板3，动作机构连接微型处理器系统。四个万向轴22在微型处理器系统的控制下，一起向同一方向移动，保持框架与成像工作板3平行，且光源系统的光线与框架21所在平面垂直。四个万向轴22中部各设有ー滑槽41，万向轴22通过滑槽41连接ー设有滑片装置42的光学镜片组4 ;光学镜片组4包括至少ー放大镜、一凹透镜，放大镜位于凹透镜与成像工作板之间，放大镜、凹透镜的边缘处各均匀设有四个滑片装置42。滑片装置42的控制端连接微型处理器系统。胶片上的图形通过光学镜片组4的放大作用后，将其投影到成像エ作板3上，图形放大的比列主要通过调节滑片装置控制放大镜与成像工作板3之间的距离来实现。发光器件12可以采用100-200W的高压水银灯。发光器件12也可以采用100-200W的毛细管水银灯。或者，发光器件12也可以采用100-200W的紫外线灯。光圈14可以采用固定光圈，或者也可以采用猫眼式光圏。以上显示和描述了本专利技术的基本原理和主要特征和本专利技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本专利技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本专利技术的原理，在不脱离本专利技术精神和范围的前提下，本专利技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本专利技术范围内。本专利技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.电路曝光机多光源光学成像系统，包括一光源系统、一成像系统、一成像工作板，其特征在于，所述光源系统的光线通过所述成像系统照向所述成像工作板； 所述光源系统包括至少一光源子系统，所述光源子系统包括一发光器件、一整形透镜，所述发光器件发出的光线通过所述整形透镜整形为均匀的光线。2.根据权利要求I所述的ー种电路曝光机多光源光学成像系统，其特征在于所述发光器件外罩有一反光罩，所述反光罩的光线照射端朝向所述成像系统。3.根据权利要求2所述的ー种电路曝光机多光源光学成像系统，其特征在于所述光源子系统还包括一滤光片，所述滤光片位于所述发光器件与所述整形透镜之间，所述发光器件的光线通过所述滤光片照向所述成像系统，所述滤光片过滤去光线中除紫外线以外的其他光线。4.根据权利要求2或3所述的ー种电路曝光机多光源光学成像系统，其特征在于所述光源子系统还包括一光圈，所述光圈位于所述发光器件与所述整形透镜之间，所述光圈的控制端连接ー微型处理器系统。5.根据权利要求4所述的ー种电路曝光机多光源光学成像系统，其特征在于所述光源系统还包括至少ー光敏元件，所述光敏元件位于所述整形透镜与成像工作板之间，所述光敏元件连接所述微型处理器系统。6.根据权利要求5所述的ー种电路曝光机多光源光学成像系...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨波，马鹏川，
申请(专利权)人：上海理工大学，
类型：发明
国别省市：