一种彩色纳米压印工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种彩色纳米压印工艺，包括以下步骤：1）应用两个光学掩模板，利用光刻技术及硅的干法刻蚀技术制作出与相关可见光的波长相匹配的四阶模具，2）应用纳米热压印技术，将多阶模具压印于聚合物基材上形成最终产品。该产品为具有多阶微小结构的聚合物，对不同波长光反射而形成彩色条纹。体积小、质量轻、高性价比。该方法能实现彩色显示图案的直接制作，提高器件和系统的功能密度、信息密度与互联交互密度，能大大节约材料和能源。与传统硅、LIGA工艺相比，不需要通过键合、微装配实现系统集成，因此工艺过程较简单。利用物理转移机制降低成本、简化操作，而且具有较高分辨率，减少形成复杂的三维图形所需的工艺步骤。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及属于三维结构压印
，特别涉及ー种彩色纳米压印エ艺。
技术介绍
纳米压印技木，是微纳米器件制作エ艺中的ー个重要技术，这是ー种不同于传统光刻技术的全新图形转移技木。纳米压印技术的定义为不使用光线或者辐照使光刻胶感光成形，而是直接在硅衬底或者其它衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形。三维结构在微纳系统领域有着非常重要的应用前景，通过三维加工技术能够制造出体积小、质量轻、灵敏度高、成本低的和性能优越的器件。三维结构纳米压印技术，是应用多阶模板来进行纳米压印的ー种创新エ艺，能够实现三维微细结构的直接全面复制，是制作如彩色显示材料的ー种新型技木。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术所要解决的技术问题是提供一种将纳米压印用于多层相互连接结构的图形压印方法，通过压印后可直接看到彩色的条纹，其独特的物理转移机制不仅可以降低成本、简化操作，而且具有较高分辨率，同时可以減少形成复杂的三维图形所需的エ艺步骤。本专利技术的目的是这样实现的 本专利技术提供的ー种彩色纳米压印エ艺，包括以下步骤 1)利用光刻技术制作出需要压印的可见光波长相匹配的多阶模具；2)利用步骤I)制作的多阶模具采用纳米压印技术将多阶模具压印于基材形成产品。 进ー步，所述步骤I)中多阶模具的制作，具体包括以下步骤 A.制作与需要压印的光波波长相匹配的I号掩模板； B.将I号掩模板放于模具毛坯上，并对准进行光刻，向下刻蚀ー个单位长度Dist，使模具毛坯上出现ー个ニ阶模具； 其中，Dist为根据需要压印的彩色光波波长确定的单位长度； C.停止光刻，撤下I号掩模板， D.制作与需要压印的光波波长相匹配的N号掩模板； 其中，N为正整数； E.将N号掩模板放于模具毛坯上，并对准进行光刻，向下刻蚀N个单位长度Dist，得到ー个2的N次方阶模具； F.停止光刻，撤下N号掩模板； G.重复步骤D-F进行光刻，直至形成所需要的多阶模具。进ー步，所述N号掩模板的遮挡部为上一次掩模板中相邻遮挡部和透光部之和，所述N号掩模板的透光部为与N号掩模板的遮挡部相邻的上一次掩模板中相邻遮挡部和透光部之和。进ー步，所述N号掩模板的遮挡部按与上一次掩模板的遮挡部外边缘对齐重叠的方式设置于模具毛坯上。进ー步，所述步骤2)中将多阶模具压印于基材上形成产品，具体包括以下步骤 将多阶模具放置与基材上，进行加热，加热至基材的玻璃化转换温度后，进行加压，当温度到达加热最高温度时，进行保温保压，然后减压降温，当温度降至玻璃化转换温度后，脱模，得到最终产品。进ー步，所述加热最高温度为基材玻璃化转换温度的I. 2至I. 6倍。进ー步，所述加热最高温度为100至150摄氏度。进ー步，所述基材为聚こ烯或聚丙烯。 进ー步，所述纳米压印技术为热压印技木。本专利技术的优点在于本专利技术采用光刻技术制作多阶模具；并利用该多阶模具采用纳米压印技术将多阶模具压印于基材形成产品，从通过压印后的产品上能够直接看到彩色的条纹，该产品体积小、质量轻、灵敏度高、成本低和性能优越。该方法能使产品微型化和便携化，提高器件和系统的功能密度、信息密度与互联交互密度，能大大节约材料和能源。与传统硅、LIGAエ艺相比，不需要通过键合、微装配实现系统集成，因此エ艺过程较简单。而将纳米压印用于多层相互连接结构的图形压印时，其独特的物理转移机制不仅可以降低成本、简化操作，而且具有较高分辨率，同时可以減少形成复杂的三维图形所需的エ艺步骤，本专利技术提供的多阶模具的结构參数是与相关可见光的波长相匹配的。具有此类多阶结构的聚合物，由于此微小结构对不同波长的光的反射(或透射)不同，就可以直接看到彩色的条纹。本专利技术的其它优点、目标和特征在某种程度上将在随后的说明书中进行阐述，并且在某种程度上，基于对下文的考察研究对本领域技术人员而言将是显而易见的，或者可以从本专利技术的实践中得到教导。本专利技术的目标和其它优点可以通过下面的说明书，权利要求书，以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。附图说明为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术作进一步的详细描述，其中 图I为I号掩模板放于模具毛坯上的示意 图2为光刻后的ニ阶模具毛坯结构示意 图3为2号掩模板放于模具毛坯示意 图4为刻蚀两个单位长度后形成的模具毛坯示意 图5为光刻后形成的四阶模具毛坯示意 图6为多阶模具和塑料放置示意 图7为加热加压压印示意 图8为保温保压压印示意 图9为脱模形成产品示意 图10为光线照射产品每个台阶反射色光示意 图11为I号掩模板和2号掩模板对比不意图。图中，I表不I号掩模板、2表不模具毛还、3表不2号掩模板、4表不基材、5表不I号掩模板遮挡部、6表不I号掩模板透光部、7表不2号掩模板遮挡部、8表不2号掩模板透光部。具体实施例方式以下将结合附图，对本专利技术的优选实施例进行详细的描述；应当理解，优选实施例仅为了说明本专利技术，而不是为了限制本专利技术的保护范围。图I为I号掩模板放于模具毛坯上的示意图；图2为光刻后的ニ阶模具毛坯结构示意图；图3为2号掩模板放于模具毛坯示意图；图4为刻蚀两个单位长度后形成的模具毛坯示意图；图5为光刻后形成的四阶模具毛坯示意图；图6为多阶模具和塑料放置示意图；图7为加热加压压印示意图；图8为保温保压压印示意图；图9为 脱模形成产品示意图，图10为光线照射产品每个台阶反射色光示意图，如图所示本专利技术提供的ー种彩色纳米压印エ艺，包括以下步骤 I)利用光刻技术制作与需要压印光波波长相匹配的多阶模具； 所述步骤I)中多阶模具的制作，具体包括以下步骤 A.制作I号掩模板I;这里的光波波长取红光的波长；也可以取可见光中任一単色光的波长相匹配的參数来制作掩模板； B.将I号掩模板I放于模具毛坯2上，并对准进行光刻，向下刻蚀ー个单位长度Dist，使模具毛坯2上出现ー个ニ阶模具； 其中，Dist为根据需要压印的彩色光波波长确定的单位长度； C.停止光刻，撤下I号掩模板I， D.制作与需要压印的光波波长相匹配的N号掩模板；这里的光波波长取绿光和蓝光的波长；也可以取可见光中任一単色光的波长相匹配的參数来制作掩模板； 其中，N为正整数； E.将N号掩模板放于模具毛坯2上，并对准进行光刻，向下刻蚀N个单位长度Dist，得到ー个2的N次方阶模具； F.停止光刻，撤下N号掩模板； G.重复步骤D-F进行光刻，直至形成所需要的多阶模具。本实施例中的多阶模具是指在模具上形成多个深度和宽度不同的呈台阶状的反射光反射面。所述N号掩模板的遮挡部为上一次掩模板中相邻遮挡部和透光部之和，所述N号掩模板的透光部为与N号掩模板的遮挡部相邻的上一次掩模板中相邻遮挡部和透光部之和。本实施例中N取2。本实施例采用四阶模具，即通过两个掩模板进行刻蚀，即I号掩模板I和2号掩模板3，将I号掩模板I放于模具毛坯2上，并对准进行光刻，向下刻蚀ー个单位长度(根据实际要求确定，可以是ー个单位长度为100纳米或者几十或几百纳米)，使模具毛坯上出现ー个ニ阶模具；停止光刻，撤下I号掩模板1，将2号掩模板3放于模具毛坯2上，并对准进行光刻，向下刻蚀两个单位长度；停止光刻，撤下2号掩模板，得到ー个四阶模具；重复进行光亥IJ，直至形成所需要的多阶模具。图11为I号掩模板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.ー种彩色纳米压印エ艺，其特征在于包括以下步骤 1)利用光刻技术制作与需要压印光波波长相匹配的多阶模具； 2)利用步骤I)制作的多阶模具采用纳米压印技术将多阶模具压印于基材形成产品。2.根据权利要求I所述的彩色纳米压印エ艺，其特征在于所述步骤I)中多阶模具的制作，具体包括以下步骤 A.制作与需要压印的光波波长相匹配的I号掩模板； B.将I号掩模板放于模具毛坯上，并对准进行光刻，向下刻蚀ー个单位长度Dist，使模具毛坯上出现ー个ニ阶模具； 其中，Dist为根据需要压印的彩色光波波长确定的单位长度； C.停止光刻，撤下I号掩模板， D.制作与需要压印的光波波长相匹配的N号掩模板； 其中，N为正整数； E.将N号掩模板放于模具毛坯上，并对准进行光刻，向下刻蚀N个单位长度Dist，得到ー个2的N次方阶模具； F.停止光刻，撤下N号掩模板； G.重复步骤D-F进行光刻，直至形成所需要的多阶模具。3.根据权利要求2所述的彩色纳米压印エ艺，其特征在干所述N号掩模板的遮挡部为上一次掩模板...

【专利技术属性】
技术研发人员：史晓华，冀然，陈沁，
申请(专利权)人：苏州光舵微纳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：