沉积掩模制造技术

本发明专利技术公开了一种沉积掩模。在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉积掩模包括由于施加到沉积掩模的拉力而沿行方向和列方向对包括第一初始设计图案和第n初始设计图案在内的第一初始设计图案至第n初始设计图案进行校正得到的第一校正图案至第n校正图案，第一初始设计图案至第n初始设计图案沿第一方向顺序地布置，其中，第一校正图案至第n校正图案的最外侧包括沿与第一方向平行的方向延伸的第一最外侧和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外侧，其中，第一最外侧具有第一曲率并且相对于第一初始设计图案和第n初始设计图案向内凹进，第二最外侧具有第二曲率并且相对于第一初始设计图案至第n初始设计图案向外凸出。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ー种沉积掩模，更具体地讲，涉及一种即使在向其施加拉カ时仍可保持其图案精度的沉积掩摸。
技术介绍
电致发光装置是自发光显示装置，由于其宽视角、高对比度和高响应速度而作为下一代显示装置备受关注。根据形成发光层的材料，将这些电致发光装置分为无机电致发光装置和有机电致 发光装置。有机电致发光装置与无机电致发光装置相比具有更高的亮度和更快的响应速度，并且有机电致发光装置能够显示彩色图像。由于这些优点，正在积极地开发有机电致发光装置。
技术实现思路
根据ー个实施例，提供了一种在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉积掩模，所述沉积掩模包括由于施加到沉积掩模的拉カ而沿行方向和列方向对包括第一初始设计图案和第η初始设计图案在内的第一初始设计图案至第η初始设计图案进行校正得到的第一校正图案至第η校正图案，第一初始设计图案至第η初始设计图案沿第一方向顺序地布置，其中，第一校正图案至第η校正图案的最外侧包括沿与第一方向平行的方向延伸的第一最外侧和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外侧，其中，第一最外侧具有第一曲率并且相对于第一初始设计图案和第η初始设计图案向内凹进，第二最外侧具有第二曲率并且相对于第一初始设计图案至第η初始设计图案向外凸出。可以通过第一初始设计图案和第η初始设计图案中的每个初始设计图案的与每个第一最外侧对应的第一侧的相对端部处的第一点和第二点以及在与施加拉カ的方向相反的方向上与所述第一侧的第一中点分开第一距离的第三点来确定第一曲率。可以通过第一初始设计图案至第η初始设计图案中的每个初始设计图案的与每个第二最外侧对应的第二侧的相对端部处的第四点和第五点以及在与施加拉カ的方向垂直的方向上与所述第二侧的第二中点分开第二距离的第六点来确定第二曲率。第一校正图案至第η校正图案中的每个可以包括多条缝隙线。由于拉力，可以将缝隙线布置在第一校正图案至第η校正图案中的每个校正图案中。所述沉积掩模还可以包括在拉カ的作用下放置在掩模框架上的第一装置图案至第η装置图案，其中，第一装置图案至第η装置图案中的每个具有由第一方向限定的第一长度和由第二方向限定的第一宽度，第一初始设计图案至第η初始设计图案分别对应于第一装置图案至第η装置图案，并且具有由第一方向限定的第二长度和由第二方向限定的第二宽度，其中，第二长度小于第一长度，第二宽度大于第一宽度。第二长度与第一长度的比和第二宽度相对于第一宽度的比可以由拉力的大小来确定。第一校正图案至第η校正图案可以包括第二校正图案和第(η-l)校正图案，第一校正图案至第η校正图案中的每个校正图案和第一初始设计图案至第η初始设计图案中的每个初始设计图案可以包括至少四侧，其中，第一校正图案包括包括在第一最外侧中的第一侧、包括在第二最外侧中的第二侧和第三侧以及面向第二校正图案的第四侧，第η校正图案包括包括在第一最外侧中的第一侧、包括在第二最外侧中的第二侧和第三侧以及面 向第(η-l)校正图案的第四侧，第二校正图案至第(η-l)校正图案中的每个包括包括在第ニ最外侧中的第二侧和第三侧、面向前一校正图案的第一侧以及面向下一校正图案的第四侦れ第一校正图案的第一侧可以相对于第一初始设计图案向内凹进，第η校正图案的第一侧可以相对于第η初始设计图案向内凹进，第一校正图案至第η校正图案的第二侧和第三侧可以相对于第一初始设计图案至第η初始设计图案向外凸出。第一初始设计图案至第η初始设计图案中的每个可以对应于放置在掩模框架上的多个显示面板中的任何一个显示面板。第一初始设计图案至第η初始设计图案中的每个可以包括多个开ロ。根据另ー实施例，提供了一种在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉积掩模，所述沉积掩模包括沿着与施加到沉积掩模的拉力的方向平行的第一方向分别对应于按行布置的多个显示面板的第一校正图案至第η校正图案，其中，第一校正图案至第η校正图案的最外侧包括沿与第一方向平行的方向延伸的第一最外侧和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外侧，其中，第一最外侧具有第一曲率并且相对于第一初始设计图案和第η初始设计图案向内凹进，第二最外侧具有第二曲率并且相对于第一初始设计图案至第η初始设计图案向外凸出。所述沉积掩模还可以包括在拉カ的作用下放置在掩模框架上的第一装置图案至第η装置图案以及分别对应于第一装置图案至第η装置图案的第一初始设计图案至第η初始设计图案，其中，第一装置图案至第η装置图案中的每个具有由第一方向限定的第一长度，第一初始设计图案至第η初始设计图案中的每个具有由第一方向限定的第二长度，其中,第二长度小于第一长度。第一初始设计图案至第η初始设计图案中的每个可以具有由垂直于第一方向的第二方向限定的第一宽度，第一校正图案至第η校正图案中的每个具有由第二方向限定的第二宽度，其中，第二宽度大于第一宽度。可以通过第一初始设计图案和第η初始设计图案中的每个初始设计图案的与每个第一最外侧对应的第一侧的相对端部处的第一点和第二点以及在与施加拉カ的方向相反的方向上与所述第一侧的第一中点分开第一距离的第三点来确定第一曲率。可以通过第一初始设计图案至第η初始设计图案中的每个初始设计图案的与每个第二最外侧对应的第二侧的相对端部处的第四点和第五点以及在与施加拉カ的方向垂直的方向上与所述第二侧的第二中点分开第二距离的第六点来确定第二曲率。附图说明通过參照附图详细地描述本专利技术的示例性实施例，本专利技术的上述和其它方面和特征将变得更加清楚，在附图中图I是根据本专利技术示例性实施例的沉积掩模的透视图；图2是图I中示出的沉积掩模的平面图；图3A至图3C是用来解释从图2中示出的初始设计图案获得校正图案的方法的构思图； 图3D示出了形成在校正图案中的缝隙线；图4是根据本专利技术另一示例性实施例的沉积掩模的透视图；图5是图4中示出的沉积掩模的剖视图。具体实施例方式通过參照附图和以下对示例性实施例的详细描述，可以更容易地理解本专利技术及其实现方法的优点和特征。然而，本专利技术可以以许多不同的形式来实施，并且不应该被解释为局限于在此提出的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是彻底的和完全的，并将把本专利技术的构思充分地传达给本领域技术人员，本专利技术将仅通过权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见，会夸大元件的尺寸和相对尺寸。在整个说明书中，相同的标号表示相同的元件。如在此所使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项目的任意组合和所有組合。这里使用的术语仅是为了描述具体实施例的目的，而不意图限制本专利技术。如在此所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“由......制成”时，说明存在所述组件、步骤、操作和/或元件，但不排除存在或附加ー个或多个其它组件、步骤、操作、元件和/或它们的组。应该理解的是，尽管在这里可使用术语第一、第二、第三等来描述不同的元件，但是这些元件并不受这些术语的限制。这些术语仅是用来将ー个元件与另ー个元件区分开来。因此，在不脱离本专利技术的教导的情况下，下面讨论的第一元件可被命名为第二元件。在此參照作为本专利技术的理想实施例的示意性图示的平面图和剖视图来描述本专利技术的实施例。这样，预计会出现例如由制造技术和/或公差引起的图示的形状变化。因此，本专利技术的实施例不应该被解释为限制于在此图示的区域的具体形状本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
2011.03.24 KR 10-2011-00264241.一种沉积掩模,所述沉积掩模在拉カ的作用下放置在掩模框架上，所述沉积掩模包括由于施加到沉积掩模的拉カ而沿行方向和列方向对包括第一初始设计图案和第η初始设计图案在内的第一初始设计图案至第η初始设计图案进行校正得到的第一校正图案至第η校正图案，第一初始设计图案至第η初始设计图案沿第一方向顺序地布置，其中，第一校正图案至第η校正图案的最外侧包括沿与第一方向平行的方向延伸的第一最外侧和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外侧，其中，第一最外侧具有第一曲率并且相对于第一初始设计图案和第η初始设计图案向内凹进，第二最外侧具有第二曲率并且相对于第一初始设计图案至第η初始设计图案向外凸出。2.根据权利要求I所述的沉积掩模，其中，通过第一初始设计图案和第η初始设计图案中的每个初始设计图案的与每个第一最外侧对应的第一侧的相对端部处的第一点和第二点以及在与施加拉カ的方向相反的方向上与所述第一侧的第一中点分开第一距离的第三点来确定第一曲率。3.根据权利要求2所述的沉积掩模，其中，通过第一初始设计图案至第η初始设计图案中的每个初始设计图案的与每个第二最外侧对应的第二侧的相对端部处的第四点和第五点以及在与施加拉カ的方向垂直的方向上与所述第二侧的第二中点分开第二距离的第六点来确定第二曲率。4.根据权利要求I所述的沉积掩模，其中，第一校正图案至第η校正图案中的每个包括多条缝隙线。5.根据权利要求4所述的沉积掩模，其中，由于拉力，将缝隙线布置在第一校正图案至第η校正图案中的每个校正图案中。6.根据权利要求I所述的沉积掩模，所述沉积掩模还包括在拉カ的作用下放置在掩模框架上的第一装置图案至第η装置图案，其中，第一装置图案至第η装置图案中的每个具有由第一方向限定的第一长度和由第二方向限定的第一宽度，第一初始设计图案至第η初始设计图案分别对应于第一装置图案至第η装置图案，并且具有由第一方向限定的第二长度和由第二方向限定的第二宽度，其中，第二长度小于第一长度，第二宽度大于第一宽度。7.根据权利要求6所述的沉积掩模，其中，第二长度与第一长度的比和第二宽度相对于第一宽度的比是由拉力的大小来确定的。8.根据权利要求I所述的沉积掩模，其中，第一校正图案至第η校正图案包括第二校正图案和第(η-i)校正图案，其中，第一校正图案至第η校正图案中的每个校正图案和第一初始设计图案至第η初始设计图案中的每个初始设计图案包括至少四侧，其中，第一校正图案具有包括在第一最外侧中的第一侧、包括在第二最外侧中的第二侧和第三侧以及面向第ニ校正图案的第四侧，第η校正图案具有包括在第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林郁典，高政佑，李相信，姜择教，
申请(专利权)人：三星移动显示器株式会社，
类型：发明
国别省市：