本实用新型专利技术公开了一种在可见光区域反射无色光的减反射膜,包括逐层镀在PMMA板材上表面的四层膜,其中第一层膜为镀在所述PMMA板材上表面的氧化锆膜,第二层膜为镀在所述第一层膜上的二氧化硅膜,第三层膜为镀在所述第二层膜上的氧化锆膜,第四层膜为镀在所述第三层膜上的二氧化硅膜。本实用新型专利技术实现了入射光在经过减反射膜后,减反射的同时,在可见光区域的反射率基本保持数值一致,从而使减反射膜的反射光趋向于无色,以得到反射无色的良好减反射效果。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种减反射膜,特别是涉及一种在可见光区域反射无色光的减反射膜。
技术介绍
随着智能手机产品的普及及应用,对于手机液晶显示屏的显示色彩要求也越来越高,人们期待色彩逼真、艳丽的视觉冲击。随着iphone4系列IPS3. 5英寸显示屏Retina显示技术在手机液晶显示屏上的使用,推动着整个视窗行业向高清低反射时代发展。随着减反射膜在手机LCD保护屏及摄像头方面的应用,人们也越来越期待减反射膜在LCD保护屏及摄像头方面上的应用。 传统的减反射膜由于在可见光区域的反射率存在偏差,所以在反射颜色上也存在不一致的问题,常见的几种颜色有偏蓝色、偏绿色、偏红色等等,这种设计的缺点是整批产品的颜色一致性差。另外,手机保护屏一般采用先镀减反射膜再印刷黑色遮蔽油墨的方式生产,这样反射不同颜色光的减反射膜印刷后会呈现不同的颜色。影响产品的一致性。
技术实现思路
本技术为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种在可见光区域反射无色光的减反射膜。本技术为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是一种在可见光区域反射无色光的减反射膜,包括逐层镀在PMMA板材上表面的四层膜,其中第一层膜为镀在所述PMMA板材上表面的氧化锆膜,第二层膜为镀在所述第一层膜上的二氧化硅膜,第三层膜为镀在所述第二层膜上的氧化锆膜,第四层膜为镀在所述第三层膜上的二氧化硅膜。所述第一层膜的厚度为12. 6nm 13. 6nm,所述第二层膜的厚度为17. 2nm 18. 2nm,所述第三层膜的厚度为83. 4nm 88. 2nm,所述第四层膜的厚度为62nm 65. 8nm。本技术具有的优点和积极效果是通过采用交错叠镀的两层高折射率的Zr02膜和两层低折射率的Si02膜,并通过优化各层膜的厚度,实现了入射光在经过减反射膜后,减反射的同时,在可见光区域的反射率基本保持数值一致,从而使减反射膜的反射光趋向于无色,以得到反射无色的良好减反射效果。附图说明图I为本技术的结构示意图。图中1、PMMA板材,2、第一层膜,3、第二层膜,4、第三层膜,5、第四层膜。具体实施方式为能进一步了解本技术的
技术实现思路
、特点及功效,兹例举以下实施例,并配合附图详细说明如下请参阅图1,一种在可见光区域反射无色光的减反射膜,包括逐层镀在PMMA板材I上表面的四层膜,其中第一层膜2为镀在PMMA板材I上表面的氧化锆膜,第二层膜3为镀在第一层膜2上的二氧化硅膜,第三层膜4为镀在第二层膜3上的氧化锆膜,第四层膜5为镀在第三层膜4上的二氧化硅膜。第一层膜的厚度为12.6nm 13.6nm,第二层膜的厚度为17. 2nm 18. 2nm,第三层膜的厚度为83. 4nm 88. 2nm,第四层膜的厚度为62nm 65. 8nm。下面列举三个在可见光区域反射无色光的减反射膜及其制作方法。实施例I :请参阅图I,一种在可见光区域反射无色光的减反射膜,包括逐层镀在PMMA板材I 上表面的四层膜,其中第一层膜2为镀在PMMA板材I上表面的氧化锆膜,第二层膜3为镀在第一层膜2上的二氧化硅膜,第三层膜4为镀在第二层膜3上的氧化锆膜,第四层膜5为镀在第三层膜4上的二氧化硅膜。第一层膜的厚度为13nm,第二层膜的厚度为17. 8nm,第三层膜的厚度为85. 8nm,第四层膜的厚度为64nm。上述减反射膜的制作方法一)PMMA板材除湿将PMMA板材I进行除湿烘烤,烘烤温度为30°C,烘烤时间为3小时。二)真空镀减反射膜I)将烘烤后的PMMA板材置于基片架上,装入镀膜机的真空室内;2)真空室进行高真空抽气,启动配备在真空室内的深冷低温机,使其设定温度低于-120°C,这样可以将PMMA板材I上表面的水分彻底清除。3)对PMMA板材I的上表面进行清洁和活化当镀膜机的真空室内真空度低于5X10_5ton■后,打开镀膜机的真空室上的无阴极离子源,并向镀膜机的真空室内通入流量为20SCCm的氧气,通气时间为100s,以对PMMA板材I的上表面进行清洁处理和表面活化。4)对镀膜机的真空室进行加热打开镀膜机的真空室上的加热器,加热镀膜机的真空室,使镀膜机的真空室内温度达到并保持在70°C。5)镀减反射膜关闭镀膜机的真空室上的无阴极离子源,对镀膜机的真空室进行持续真空抽气,当镀膜机的真空室内真空度低于3X10_5ton■时,打开镀膜机上的电子枪和电子枪上的无阴极离子源,打开镀膜机的真空室上的无阴极离子源,向镀膜机的真空室内通入流量为15SCCm的氧气,向镀膜机的电子枪内通入流量为IOsccm的氧气,逐层在PMMA基材I的上表面上沉积厚度为13nm的氧化锆(ZrO2)膜2、厚度为17. 8nm的二氧化硅(SiO2)膜3、厚度为85. 8nm的氧化锆(ZrO2)膜4和厚度为64nm的二氧化硅(SiO2)膜5。三)从镀膜机的真空室中取出镀完减反射膜的PMMA板镀膜完成之后自动关闭无阴极离子源和电子枪,同时深冷低温机停止工作,对镀膜机的真空室进行充气,待镀膜机的真空室内真空度到达大气状态时,真空室门自动打开。这是就可以从镀膜机的真空室中取出基片架,将镀有减反射膜的PMMA板从基片架上取下。采用分光光度计对上述减反射膜进行测试,透过率和反射率的数值如下本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种在可见光区域反射无色光的减反射膜,其特征在于,包括逐层镀在PMMA板材上表面的四层膜,其中第一层膜为镀在所述PMMA板材上表面的氧化锆膜,第二层膜为镀在所述第一层膜上的二氧化硅膜,第三层膜为镀在所述第二层膜上的氧化锆膜,第四层膜为镀在所述第三层膜上的二氧化硅膜。...
【专利技术属性】
技术研发人员:沈励,陈奇,石富银,许沐华,吴克坚,
申请(专利权)人:天津美泰真空技术有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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