【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】作为光聚合物制剂中的添加剂的氟代氨基甲酸酯本专利技术涉及包含基质聚合物、书写单体和光引发剂的光聚合物制剂、该光聚合物 制剂用于制造光学元件，特别是用于制造全息元件和图像的用途、得自该光聚合物制剂的 全息介质的曝光方法，和特殊氟代氨基甲酸酯。W0 2008/125229 A1描述了一开始提到的类型的光聚合物制剂。这些包含聚氨 酯-基基质聚合物、丙烯酸酯-基书写单体和光引发剂。在固化状态下，书写单体和光引发 剂以空间分布嵌在聚氨酯基质中。也从该W0文献中获知，可以将邻苯二甲酸二丁酯一工 业塑料的常规增塑剂，添加到该光聚合物制剂中。关于光聚合物制剂在下述应用领域中的使用，由光聚合物中的全息曝光产生的折 射率调制An起到决定性作用。在全息曝光过程中，通过例如高折射丙烯酸酯在干扰场中 的高强度位置的局部光聚合将信号光束和参考光束(在最简单的情况下，属于两个平面波) 的干扰场绘制到折射率光栅中。光聚合物(全息图)中的折射率光栅含有信号光束的所有信 息。通过仅用参考光束照射全息图，可随后重构信号。相对于入射参考光的强度，由此重构 的信号的强度在下文中被称作衍射效率，DE。在由两个平面波的叠加形成的全息图的最简 单情况下，DE由重构时衍射的光的强度与入射参考光和衍射光的强度总和的商获得。DE越 高，全息图在使信号以固定亮度可见所需的参考光的必要量方面越有效。高折射丙烯酸酯 能够产生在最低折射率区域与最高折射率区域之间具有高幅度的折射率光栅并因此能获 得在光聚合物制剂中具有高DE和高An的全息图。应该指出，DE取决于An和光聚合物 层厚度d的乘积。该乘积越大，可能的DE越大(...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.11.03 EP 09013770.41.包含基质聚合物、书写单体和光引发剂的光聚合物制剂，其特征在于其包含氟代氨 基甲酸酯作为增塑剂。2.根据权利要求1的光聚合物制剂，其特征在于所述氟代氨基甲酸酯具有至少一个通 式(I)的结构单元3.根据权利要求1或2的光聚合物制剂，其特征在于所述氟代氨基甲酸酯具有通式(II)4.根据权利要求3的光聚合物制剂，其特征在于R1是具有至少一个氟原子的有机残基。5.根据权利要求3的光聚合物制剂，其特征在于R1包含1-20个CF2基团和/或一个或 多个CF3基团，特别优选1-15个CF2基团和/或一个或多个CF3基团，特别优选1-10个CF2 基团和/或一个或多个CF3基团，非常特别优选1-8个CF2基团和/或一个或多个CF3基团， R2包含C1-C20烷基，优选C1-C15烷基，特别优选C1-C10烷基或氢，和/或R3包含C1-C20 烷基，优选C1-C15烷基，特别优选C1-C10烷基或氢。6.根据权利要求1至5任一项的光聚合物制剂，其特征在于所述氟代氨基甲酸酯具有 脲二酮、异氰脲酸酯、缩二脲、脲基甲酸酯、聚脲、噁二唑二酮和/或亚氨基噁二嗪二酮结构 单元和/或这些结构单元的混合物。7.根据权利要求1至5任一项的光聚合物制剂，其特征在于所述氟代氨基甲酸酯具有(1.4600，优选< 1.4500，特别优选< 1.4400，尤其优选< 1. 43...
【专利技术属性】
技术研发人员：T罗勒，FK布鲁德，T费克，MS魏泽，D赫内尔，
申请(专利权)人：拜尔材料科学股份公司，
类型：发明
国别省市：
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