用于处理样品处理装置的系统和方法制造方法及图纸

技术编号:7763306 阅读:177 留言:0更新日期:2012-09-14 22:12
本发明专利技术涉及一种系统,所述系统可包括基座板,所述基座板适于绕旋转轴旋转。所述系统还可包括具有第一凸起的覆盖件,以及外壳。所述外壳的部分能够相对于所述基座板在打开位置和关闭位置之间移动,并且可包括第二凸起。所述第一凸起和所述第二凸起可适于当所述部分处于所述打开位置时被耦合在一起,并且当所述部分处于所述关闭位置时脱离。所述方法可包括将所述覆盖件连接到所述外壳的所述部分、将所述外壳的所述部分从所述打开位置移动至所述关闭位置、以及绕所述旋转轴旋转所述基座板。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于使用旋转样品处理装置来(例如)扩增基因材料等的系统和方法。
技术介绍
许多不同的化学、生物化学以及其他反应对温度变化敏感。在基因扩增领域中的热处理例子包括(但不限于)聚合酶链反应(PCR)、桑格定序等。一种降低热处理多个样品的时间和成本的方法是使用这样一种装置,其包括多个室,其中可同时处理一个样品或不同样品的不同部分。一些可能要求精确的室-室温度控制、类似的温度转变率、和/或温度之间快速转变的反应的例子包括(例如)操纵核酸样品从而帮助破译遗传密码。核酸操纵技术包括扩增方法,例如聚合酶链反应(PCR);靶多核苷酸扩增方法,例如自动维持序列扩增(3SR)以及链置换扩增(SDA);基于依附于靶多核苷酸的信号扩增的方法,例如“支链”DNA 扩增;基于探针DNA扩增的方法,例如连接酶链式反应(LCR)和QB复制酶扩增(QBR);基于转录的方法,例如连接激活转录(LAT)以及基于核酸序列的扩增(NASBA);以及各种其他扩增方法,例如修复链式反应(RCR)和循环探针反应(CPR)。核酸操纵技术的其他例子包括,例如桑格定序、配体结合实验等。用于处理旋转样品处理装置的一些系统在标题为“MODULAR SYSTEMS AND METHODSFOR USING SAMPLE PROCESSING DEVICES (用于使用样品处理装置的模块系统和方法)”的美国专利No. 6,889,468 以及标题为“ENHANCED SAMPLE PROCESSING DEVICES SYSTEMS ANDMETHODS(改进的样品处理装置系统和方法)”的(Bedingham等人)的美国专利No. 6,734,401中有所描述。
技术实现思路
本专利技术的一些实施例提供用于处理样品处理装置的系统。该系统可包括基座板,该基座板以可操作方式连接到驱动系统并且具有第一表面,其中驱动系统绕旋转轴旋转基座板,并且其中旋转轴限定z轴。该系统还可包括覆盖件,该覆盖件适于面向基座板的第一表面被设置。覆盖件可包括第一凸起。该系统还可包括外壳,该外壳包括能够相对于基座板而在打开位置和关闭位置之间移动的部分,其中,在打开位置,覆盖件不被连接到基座板,而在关闭位置,覆盖件被连接到基座板。该部分可包括第二凸起。当该部分处于打开位置时,第一凸起和第二凸起可适于被耦合在一起,而在该部分处于关闭位置时,第一凸起和第二凸起可适于彼此脱离,以便当该部分处于关闭位置并且当覆盖件被连接到基座板时,覆盖件能够与基座板一起绕旋转轴旋转。该系统还可包括样品处理装置,该样品处理装置包含至少一个处理室并且适于被设置在基座板和覆盖件之间。当样品处理装置被连接到基座板时,样品处理装置能够与基座板一起绕旋转轴旋转。本专利技术的一些实施例提供用于处理样品处理装置的方法。该方法可包括提供基座板,该基座板以可操作方式连接到驱动系统并且具有第一表面;提供覆盖件,该覆盖件适于面向基座板的第一表面设置;以及提供外壳。外壳可包括能够相对于基座板而在打开位置和关闭位置之间移动的部分,其中,在打开位置,覆盖件不被连接到基座板,而在关闭位置,覆盖件被连接到基座板。该方法还可包括在基座板上设置样品处理装置。样品处理装置可包括至少一个处理室。该方法还可包括,当外壳的该部分处于打开位置时,将覆盖件连接到外壳的该部分,并且将外壳的该部分从打开位置移动至关闭位置。该方法还可包括,至少部分地响应将外壳的该部分从打开位置移动至关闭位置,而将覆盖件连接到基座板。该方法还可包括绕旋转轴旋转基座板,其中旋转轴限定Z轴。通过考虑具体实施方式和附图,本专利技术的其它特征和方面将变得显而易见。附图说明图I为根据本专利技术一个实施例的组件的分解透视图,该系统包括覆盖件、样品处理装置以及基座板。图2为图I的系统的组装透视剖视图。 图3为根据本专利技术的一个实施例的系统的透视图,该系统包括图1-2的组件,示出该系统处于打开位置。图4为图3的系统的透视图,示出该系统处于部分打开位置。图5为图3-4的系统的特写侧剖视图,示出该系统处于第一位置。图6为图3-5的系统的特写侧剖视图,示出该系统处于第二位置。图7为图3-6的系统的特写侧剖视图,示出该系统处于第三位置。具体实施例方式在详细说明本专利技术的任何实施例之前,应当理解本专利技术在其应用中并不受限于在下文描述中提及的或下列附图中所示的结构细节和部件设置。本专利技术能够具有其他实施例,并且能够以多种方式进行操作或实施。另外应当理解的是,本文中所用的用语和术语的目的是为了进行说明,不应被认为是限制性的。本文中所用的“包括”、“包含”或“具有”以及它们的变化形式意在涵盖其后所列举的项目及其等同项目以及附加项目。除非另外说明或限定,否则术语“连接”和“耦接”及其变型以广义的方式使用并且既涵盖直接的连接和耦接又涵盖间接的连接和耦接。另外,“连接”和“结合”不限于物理或机械连接或结合。应当理解,可利用其它实施例,并且在不脱离本专利技术的范围的情况下可以作出结构或逻辑改变。另外,例如“前部”、“后部”、“顶部”和“底部”等术语仅用于描述元件,因为它们彼此相关,而绝非意在述及设备的特定方位、指示或暗示必需或必要的设备的方位或者指定在使用中将要如何使用、安装、显示或设置本文描述的本专利技术。本专利技术整体涉及用于样品处理装置的系统和方法。该系统可包括固定、旋转、热控制和/或访问样品处理装置的部分的装置。另外,本专利技术的系统和方法可提供或有利于将样品处理装置设置在系统的所需位置(例如)用于实施所关注的分析,和/或(例如)当完成所关注的分析时将样品处理装置从系统移除。此外,本专利技术的系统和方法可有利于促进样品处理装置的这种定位或移除,而不需要额外的工具或设备。在本专利技术的系统和方法的一些实施例中,该系统可包括环状压缩系统,该环状压缩系统可包括开放区域(例如,开放中心区域),使得环状压缩系统可执行和/或有利于样品处理装置的所需热控制和旋转功能,而同时允许触及样品处理装置的至少一部分。例如,为了将样品处理装置保持在旋转的基座板上和/或热控制和隔离样品处理装置的部分(例如,彼此隔离和/或与周围环境隔离),本专利技术的一些系统覆盖样品处理装置的顶部表面。然而,本专利技术的其他系统(例如,环状压缩系统和方法)可提供所需的定位和固定功能,以及所需的热控制功能,而同时允许样品处理装置的一部分暴露于其他装置或系统,对其他装置或系统来说可能有利的是直接触及该样品处理装置。例如,在一些实施例中,在已将样品处理装置设置在环状覆盖件和基座板之间后,可实现样品递送(例如,人工或自动移液)。以进一步举例的方式,在一些实施例中,可光学触及样品处理装置的一部分(例如,电磁福射),例如,其可使样品处理装置的激光定址更有效,或者其可用于光学探询(例如,吸收、反射、荧光等等)。该激光定址可用于例如样品处理装置中样品的流体(例如,微流体)操纵。此外,在一些实施例中,本专利技术的环状压缩系统和方法可允许样品处理装置各个部分的独特温度控制。例如,可在期望被快速冷却的区域中的样品处理装置的暴露表面上方移动流体,同时,可覆盖期望被加热或保持在所需温度的区域,并将其与样品处理装置的其他部分和/或周围环境隔离。 另外,在一些实施例中,本专利技术的系统和方法可允许暴露样品处理装置的一部分,从而与其他(例如,本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:巴里·W·罗博莱威廉姆·拜丁汉姆彼得·D·陆德外斯杰弗里·C·佩德森
申请(专利权)人:三M创新有限公司
类型:发明
国别省市:

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